Temat: silicon fluoride - Katalog OPAC zbiorów

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: The role of fluorine-containing ultra-thin layer in controlling boron thermal diffusion into silicon
Autorzy:: Kalisz, M.
Beck, R. B.
Barcz, A.
Ćwil, M.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/308657.pdf
Data publikacji:: 2007
Wydawca:: Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:: fluorine
reactive ion etching
silicon fluoride
boron thermal diffusion
fluorocarbon plasma
Opis:: We have investigated the influence of silicon dioxide reactive ion etching (RIE) parameters on the composition of the polymer layer that is formed during this process on top of the etched layer, and finally, the role of this layer in high-temperature thermal diffusion of boron into silicon. The polymeric layer formed on the etched surface appeared to consist of fluorine and silicon fluoride (SiOF and SiF). Concentration of these components changes depending on the parameters of RIE process, i.e., rf power, gas pressure and etching time. The composition of this polymeric layer affects, in turn, boron thermal diffusion into silicon. With increasing rf power, the depth of boron junction is increased, while increasing time of etching process reduces boron diffusion into silicon.
Źródło:: Journal of Telecommunications and Information Technology; 2007, 3; 25-29
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:: Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Fabrication and Optoelectronic properties of Fluoride tin oxides/porous silicon/p-Silicon heterojunction
Autorzy:: Hadi, H. A.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/411926.pdf
Data publikacji:: 2014
Wydawca:: Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
Tematy:: porous silicon
electrochemical etching
spray pyrolysis
fluoride-doped tin oxide film
nanostructures
SEM
AFM
photodetector
Opis:: In this paper, formation of a nanostructure semi transparence fluoride tin oxides (FTO) by spray pyrolysis technique on porous silicon PS layer. Porous silicon PS layer was prepared by anodization of p-type silicon wafers to fabricate of the UV- Visible Fluoride-doped tin oxide /Porous silicon /p-Si heterojunction photodetector. Optical properties of FTO thin films were measured. The optical band gap of 3.77 eV for SnO₂ : F for film was deduced. From (I-V) and (C-V) measurements, the barrier Ø_B height for FTO/PS diode was of 0.77, and the built in voltage V_bi, which was of 0.95 V. External quantum efficiency was 55 % at 500 nm which corresponding to peak responsivity of 1.15 A/W at 1 V bias. The PS band gap in the vicinity of PS/c-Si heterojunction was 1.38 eV.
Źródło:: International Letters of Chemistry, Physics and Astronomy; 2014, 17, 2; 142-152
2299-3843
Pojawia się w:: International Letters of Chemistry, Physics and Astronomy
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: The elements of specific biological activity in therapeutic waters in Polish health resorts
Pierwiastki o swoistej aktywności biologicznej w wodach leczniczych polskich uzdrowisk
Autorzy:: Drobnik, M.
Latour, T.
Sziwa, D.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/15029.pdf
Data publikacji:: 2011
Wydawca:: Uniwersytet Warmińsko-Mazurski w Olsztynie / Polskie Towarzystwo Magnezologiczne im. Prof. Juliana Aleksandrowicza
Tematy:: Polska
therapeutic water
specific biological activity
biological activity
health resort
sulphide
iodide
fluoride
iron
silicon
radon
carbon dioxide
physicochemical analysis
water analysis
Opis:: The study characterizes specific therapeutic waters in Polish health resorts, which contain iodide, fluoride, silicon, sulphides, iron(II), carbon dioxide and radon in concentrations that ensure the therapeutic status of water and specify how it can be used for medical treatment. Based on the physicochemical analysis, it has been verified that among 160 waters from 39 health resorts, 37 contain Fe(II) in concentrations > 10 mg dm–3, which means that they can be classified as ferruginous. Twelve waters containing fluoride in concentrations > 2 mg dm–3 were recognized as therapeutic fluoride waters. Five waters were classified as siliceous ones owing to the content of silicon compounds above 70 mg dm–3 (H2SiO3). Twenty-eight of the analysed waters contain sulphides (H2S+HS–) in concentrations > 1 mg dm–3 and 64 waters contain iodide in concentrations > 1 mg dm–3. Carbon dioxide, which occurs in 72 waters in concentrations above 1 g dm–3 (acidulous waters), proved to be the most widespread component. Waters which contain radon in an amount corresponding to the radiation of 74 Bq (2 nCi) in 1 dm3 are classified as radon waters. Ten of the analysed waters were found to contain this element. The waters were highly varied in chemical composition and type of specific components. Sulphurous waters are mainly used for mineral baths; ferruginous waters are drunk; fluoride and silicon-rich waters are taken for mineral baths and iodide waters are used for mineral baths and inhalations. Using these waters in balneotherapy is an important part of spa treatment and defines different healing profiles of Polish health resorts.
W pracy przedstawiono charakterystykę leczniczych wód swoistych polskich uzdrowisk. Są to wody zawierające jodki, fluorki, związki krzemu, związki siarki (II), żelazo (II), dwutlenek węgla i radon w stężeniach decydujących o statusie leczniczym wody i sposobie jej wykorzystania do zabiegów kuracyjnych. Na podstawie wyników analiz fizykochemicznych stwierdzono, że spośród 160 wód pochodzących z 39 miejscowości uzdrowiskowych 37 wód zawiera żelazo (II) w stężeniu > 10 mg dm–3 wymaganym dla uznania wody za żelazistą 12 wód zawierających fluorki w stężeniu > 2 mg dm–3 uznano za lecznicze wody fluorkowe; 5 wód ze względu na zawartość związków krzemu w stężeniu > 70 mg dm–3 (H2SiO3) zaliczono do wód krzemowych; 28 wód zawiera związki siarki (II) w stężeniu > 1 mg dm–3 (HS– + H2S), a 64 wody zawierają jodki w stężeniu > 1 mg dm–3. Najczęściej występującym składnikiem swoistym wód leczniczych jest dwutlenek węgla, którego stężenie w 72 wodach przekracza 1 g dm–3 (szczawy). Wody zawierające radon w ilości, której odpowiada aktywność promieniotwórcza co najmniej 74 Bq dm–3 (2 nCi), są zaliczane do wód radonowych. Pierwiastek ten występuje w 10 badanych wodach. Omawiane wody charakteryzują się dużym zróżnicowaniem podstawowego składu chemicznego oraz zawartością ww. składników swoistych. Wody swoiste siarczkowe są wykorzystywane głównie do kąpieli, wody żelaziste do kuracji pitnych, wody fluorkowe i krzemowe do kąpieli, a jodkowe do kąpieli i inhalacji. Stosowanie tych wód w balneoterapii stanowi ważną część działalności uzdrowiskowej i uzasadnia różne profile lecznicze polskich uzdrowisk.
Źródło:: Journal of Elementology; 2011, 16, 4
1644-2296
Pojawia się w:: Journal of Elementology
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Informacja

Wyszukujesz frazę "silicon fluoride" wg kryterium: Temat

Źródło danych

Dostawca treści

Kolekcja

Rok wydania

Wydawca

Temat

Autor

Typ dokumentu

Język