Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "PVD test stand" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
Modułowe stanowisko badawcze do procesów PVD pozwalające na wdrażanie nowatorskich technologii inżynierii powierzchni
Modular test stand for PVD processes, allowing the implementation of innovative surface engineering technology
Autorzy:
Przybylski, J.
Majcher, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/256901.pdf
Data publikacji:
2011
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
PVD
system sterowania
inżynieria powierzchni
stanowisko badawcze
control system
surface engineering
test stand
Opis:
W artykule przedstawiona została koncepcja budowy modułowego stanowiska badawczego do prowadzenia i wdrażania innowacyjnych technologii PVD w inżynierii powierzchni. Opracowane hybrydowe, wielofunkcyjne stanowisko badawcze pozwoli na realizację unikatowych technologii inżynierii powierzchni. Podstawę opracowanego stanowiska badawczego stanowi unikatowa komora próżniowa. Charakterystyczną cechą zaprojektowanej komory procesowej jest rozmieszczenie otworów technologicznych pozwalające na wytworzenie złożonej plazmy w ramach możliwości jednoczesnej pracy różnych rodzajów źródeł plazmy, których rozmieszczenie geometryczne pozwala na ich wzajemne działanie w centralnej przestrzeni komory. Innowacyjnym elementem opracowanego stanowiska technologicznego jest specjalistyczny moduł "load-lock" pozwalający na umieszczanie i wyjmowanie substratów bez konieczności przerywania procesu technologicznego. Ważnym elementem stanowiska będzie układ do analizy spektralnej plazmy i wykorzystania do sterowania procesem jej wytwarzania. Modułowa budowa stanowiska pozwoli na wygodną rekonfigurację na potrzeby wdrażanych nowych technologii.
The article presents the concept of modular construction of the test stand to lead and implement innovative PVD technology in surface engineering. Developed hybrid, multifunctional test stand will allow implement a unique surface engineering technology. The basis of the developed test stand is an unique vacuum chamber. A characteristic feature of the vacuum chamber is designed arrangement of vacuum flange enabling produce a complex plasma by simultaneous operation of different types of plasma sources. Their geometric arrangement allows their mutual action in the central area of the chamber. Innovative element of the developed test stand is a specialized load lock module allowing the placement and removal of substrates without interrupting the process. An important element of the stand will be a system for spectral analysis of plasma and use this analysis to control the plasma generation process. Modular design allows the user to conveniently reconfigure the stand for new technologies implementation.
Źródło:
Problemy Eksploatacji; 2011, 3; 197-204
1232-9312
Pojawia się w:
Problemy Eksploatacji
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Concept of Electron Beam Physical Vapour Deposition test stand with specific functional properties
Koncepcja budowy stanowiska do technologii Electron Beam Physical Vapor Deposition o specyficznych cechach użytkowych
Autorzy:
Przybylski, J.
Majcher, A.
Gut, P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/187999.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
Tematy:
EB-PVD
surface engineering
electron gun
modular test stand
inżynieria powierzchni
działo elektronowe
modułowe stanowisko badawcze
Opis:
EB-PVD technology is currently the subject of intense material engineering investigations, because its application enables the procurement of specific functional materials, especially materials with increased antiwear properties. The efficiency of such tests can be significantly increased by the application of test stands, allowing for the realisation of investigations on a wide range of materials with an easy selection and alteration of process parameters and the application of various methods of additional plasma ionisation. The article presents the concept of such a stand that assumes the inclusion of an electron gun into the test stand itself. Additionally, the conditions of the integration of this element with the test stand are shown. The inclusion of the gun does not change the functionality and modularity of the stand.
Technologia fizycznego osadzania z fazy gazowej z wykorzystaniem wiązki elektronowej (EB-PVD), dzięki uzyskiwaniu różnorodnych materiałów funkcjonalnych, o zwiększonych właściwościach w szczególności przeciwzużyciowych, jest przedmiotem intensywnych badań inżynierii materiałowej. Efektywność takich badań może być zwiększona poprzez wykorzystanie odpowiednich stanowisk umożliwiających prowadzenie prac z szerokim zakresem materiałów, łatwym doborem i zmianą parametrów procesowych, stosowaniem różnych metod dodatkowej jonizacji plazmy. W artykule przedstawiono koncepcję budowy takiego stanowiska. Zakłada ona włączenie wyrzutni elektronowej do stanowiska badawczego technologii PVD. Przedstawiono warunki integracji tego elementu ze stanowiskiem. Dołączenie wyrzutni zachowuje dotychczasową funkcjonalność i modułowość stanowiska oraz zapewnia uzyskanie specyficznych cech użytkowych dających możliwość powtarzalnej produkcji materiałów komercyjnych oraz prowadzenia prac badawczo-rozwojowych.
Źródło:
Tribologia; 2013, 2; 151-158
0208-7774
Pojawia się w:
Tribologia
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Multilevel control system for low-pressure plasma processes
Wielopoziomowy system sterowania stanowiska PVD
Autorzy:
Przybylski, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/256473.pdf
Data publikacji:
2016
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
control system
PVD test stand
modbus communication module
system sterowania
stanowisko PVD
Opis:
The article presents a multilayer control system for test stands designed for PVD (Physical Vapour Deposition) technological processes used for depositing thin surface layers. This system provides control of the test stand via the HMI (Human Machine Interface) control panel and by using specialized supplies of plasma sources. The primary control system that utilizes a PC computer with a dedicated application allows a full automation of surface layer deposition technology. Developed and implemented on a test stand, the systems have been tested based on sample technological processes used in material engineering.
W artykule przedstawiono wielopoziomowy system sterowania przeznaczony dla stanowisk do prowadzenia procesów technologicznych PVD (Physical Vapour Deposition) wykorzystywanych w nakładaniu cienkich warstw wierzchnich. System pozwala na bezpośrednie sterowanie stanowiskiem badawczym za pomocą panelu operatorskiego HMI (Human Machine Interface) oraz przy wykorzystaniu specjalizowanych zasilaczy źródeł plazmy. Nadrzędny system sterowania wykorzystujący komputer PC z dedykowaną aplikacją pozwala na pełną automatyzację realizacji technologii osadzania warstw wierzchnich. Opracowany i zaimplementowany na stanowisku badawczym system został przetestowany w przykładowych procesach technologicznych wykorzystywanych w inżynierii materiałowej.
Źródło:
Problemy Eksploatacji; 2016, 3; 115-123
1232-9312
Pojawia się w:
Problemy Eksploatacji
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies