Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Strupinski, W." wg kryterium: Autor


Tytuł:
Badanie heterostruktur związków AIIIN zawierających warstwy ultracienkie
The investigation of heterostructures based on AIIIN compounds with ultra thin crystalline layers
Autorzy:
Wójcik, M.
Gaca, J.
Turos, A.
Strupiński, W.
Caban, P.
Borysiuk, J.
Pathak, A. P.
Sathish, N.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/192320.pdf
Data publikacji:
2008
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:
heterostruktura
AIIIN
warstwa buforowa
XRD
heterostructure
buffer layer
Opis:
Niedopasowanie sieciowe pomiędzy szafirowym podłożem i warstwą epitaksjalną GaN prowadzi do powstawania naprężeń i dyslokacji niedopasowania. Jest ono także główną przyczyną trudności, na jakie napotyka wzrost epitaksjalny warstw związków AIIIN. Próby rozwiązania tego problemu polegają m.in. na stosowaniu warstwy buforowej [1-3]. Niekiedy może ona zawierać supersieć o bardzo krótkiej fali modulacji składu chemicznego, która obniża gęstość dyslokacji, a także poprawia strukturę docelowej warstwy epitaksjalnej [4-5]. W artykule prezentowane są wyniki badań systemów epitaksjalnych związków AIIIN, odkładanych na podłożu szafirowym o orientacji 001, dotyczące struktury warstw AlN, AlGaN oraz GaN o bardzo małej grubości, a także cech budowy krystalicznej warstwy buforowej i jej wpływu na wzrost i strukturę docelowej warstwy epitaksjalnej GaN.
The lattice misfit between Al2O3 substrate and epitaxial GaN layer generates stresses and numerous misfit dislocations. This leads to difficulties in the epitaxial growth of the GaN layer. The attempts to resolve this growth problems consist in employing the buffer layer with the ultra thin period AlGaN/GaN superlattice. This superlattice is expected to reduce the dislocations density and improve the structure of epitaxial GaN layer. In this work we present the results of the investigation of the structure of AlGaN/GaN superlattice used as a buffer layer on the crystalline and chemical order of the extremely thin AlN, GaN and AlGaN layers
Źródło:
Materiały Elektroniczne; 2008, T. 36, nr 4, 4; 61-84
0209-0058
Pojawia się w:
Materiały Elektroniczne
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Badanie odkształceń sieci krystalicznej w implantowanej warstwie epitaksjalnej GaN osadzonej metodą MOCVD na podłożu szafirowym o orientacji [001]
Lattice strain study in implanted GaN epitaxial layer deposited by means of MOCVD technique on [001] oriented sapphire substrate
Autorzy:
Wójcik, M.
Gaca, J.
Wierzbicka, E.
Turos, A.
Strupiński, W.
Caban, P.
Sathish, N.
Pągowska, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/192129.pdf
Data publikacji:
2011
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:
HRXRD
implementacja jonowa
dyfrakcja
ion implantation
diffraction
Opis:
W pracy zbadano warstwy epitaksjalne GaN o grubości 1000 nm implantowane jonami Ar++ w zakresie dawek od 7 ⋅ 1013 cm-2 do 1 ⋅ 1015 cm-2. Wyznaczono zakres proporcjonalności pomiędzy dawką a średnią zmianą odległości pomiędzy płaszczyznami równoległymi do powierzchni swobodnej implantowanego kryształu GaN. Wyznaczono korelację pomiędzy wielkością dawki jonów a rozkładem odkształceń sieci krystalicznej występujących w kierunku [001] w warstwie epitaksjalnej. Stwierdzono, że odkształcane są płaszczyzny sieciowe równolegle do interfejsu, a komórka elementarna warstwy implantowanej ulega tetragonalizacji.
In the present work 1000 nm epitaxial GaN layer implanted with Ar++ ions in the dose range from 7 ⋅ 1013 cm-2 to 1 ⋅ 1015 cm-2 was investigated. The range of linearity between dose and the average change of interplanar spacing of planes parallel to the surface of the implanted GaN crystal was determined. It was found a correlation between the distribution of displaced atoms and lattice deformation occurring in the [001] direction in the epitaxial layer. It was also observed the tetragonalization of unit cell due to implantation.
Źródło:
Materiały Elektroniczne; 2011, T. 39, nr 4, 4; 22-31
0209-0058
Pojawia się w:
Materiały Elektroniczne
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Comparative Morphological Analysis of Graphene on Copper Substrate obtained by CVD from a Liquid Precursor
Autorzy:
Weiss, M.
Walkowiak, M.
Wasiński, K.
Półrolniczak, P.
Kokocińska, B.
Strupiński, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1032380.pdf
Data publikacji:
2017-06
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.65.Pq
81.05.ue
Opis:
Graphene film has been produced on untreated Cu substrate by a chemical vapor deposition technique in ambient pressure with liquid ethanol serving as the carbon precursor. The obtained material has been subjected to morphological study, directly on Cu substrate, by means of optical microscopy, scanning electron microscopy, atomic force microscopy, and a detailed Raman analysis. As a benchmark material, graphene obtained on Cu by a conventional CVD from gaseous methane was used. This simple experimental setup has proved to enable obtaining large area graphene samples with nearly 100% substrate coverage and large domains of one carbon layer. As compared to graphene from gaseous precursor, the presented approach resulted in visibly more defects and impurities. These imperfections are due to more complex precursor molecular structure and lack of Cu pretreatment with hydrogen, the later cause being easy to eliminate in course of further optimization of the method. The described approach can be regarded as a viable, low-cost, and experimentally simple alternative for the existing techniques of producing large area graphene. By providing direct comparison with the conventional method, the paper's intention is to provide deeper insight and to fill gap in the understanding of mechanisms involved in graphene formation on copper.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2017, 131, 6; 1497-1506
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Comparison of CVD graphene grown on copper foil and PVD copper
Porównanie własności grafenu otrzymanego metodą CVD na folii miedzianej oraz warstwie PVD miedzi
Autorzy:
Pasternak, I.
Grodecki, K.
Piątkowska, A.
Ciuk, T.
Caban, P.
Strupiński, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/192272.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:
graphene on copper foils
PVD copper films
grain boundaries
Raman spectroscopy
grafen na folii miedzianej
warstwy PVD miedzi
granice ziaren
spektroskopia ramanowska
Opis:
Graphene synthesis by the CVD method performed on the surface of copper is one of the most promising techniques for producing graphene for low cost and large scale applications. Currently, the most commonly used Cu substrate for graphene growth is foil, however, there is still a need to find new substrates and improve the quality of graphene layers. Sputtered Cu films on insulating substrates are considered as an alternative. Here we show the properties of graphene grown by the CVD method on thin copper foil and PVD copper films on Si/SiO2 substrates. We compare data on the properties of graphene films transferred from different copper substrates onto SiO2/Si substrates. We note that graphene grown on sputtered Cu films creates a multilayer form on the boundaries which can be identified on micro-Raman maps and in SEM images.
Wytwarzanie grafenu metodą CVD na podłożach miedzianych jest jedną z najbardziej perspektywicznych metod otrzymywania grafenu ze względu na niski koszt podłoża oraz szerokie możliwości zastosowania w przemyśle. Obecnie najczęściej stosowanym do wzrostu grafenu podłożem miedzianym jest folia, jednakże ciągle istnieje potrzeba znalezienia nowego podłoża tak by poprawić jakość warstw grafenu. Jako alternatywę rozważa się cienkie warstwy miedzi wytwarzane metodami PVD osadzane na nieprzewodzącym podłożu. W niniejszym artykule przedstawiamy własności grafenu wytwarzanego metodą CVD na cienkiej folii miedzianej oraz na warstwach miedzi osadzonych na Si/SiO2. Porównujemy także wyniki otrzymane dla przeniesionych warstw grafenu z obu rodzajów próbek.
Źródło:
Materiały Elektroniczne; 2013, T. 41, nr 2, 2; 26-33
0209-0058
Pojawia się w:
Materiały Elektroniczne
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
CVD Growth of Graphene Stacks on 4H-SiC (0001) Surface - X-ray Diffraction and Raman Spectroscopy Study
Autorzy:
Tokarczyk, M.
Kowalski, G.
Grodecki, K.
Urban, J.
Strupiński, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1399073.pdf
Data publikacji:
2013-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.48.Gh
61.72.Dd
63.22.Rc
Opis:
Features associated with short and prolonged growth time in the chemical vapor deposition process of growth of graphene stacks on SiC (0001) substrate are reported. In particular general bimodal (as far as $d_{002}$ interlayer spacing is concerned) distribution of graphene species across the surface of the samples is observed. It consists of thin few layer graphene coverage of most of the sample surface accompanied by thick graphite-like island distribution. It points to the two independent channels of graphene stacks growth with two characteristic growth rates.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2013, 124, 5; 768-771
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Defect Transformations in Ion Bombarded InGaAsP
Autorzy:
Ratajczak, R.
Turos, A.
Stonert, A.
Nowicki, L.
Strupiński, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1504046.pdf
Data publikacji:
2011-07
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.43.-j
61.72.-y
81.05.-t
82.80.-d
85.40.-e
Opis:
Damage buildup and defect transformations at temperatures ranging from 15 K to 300 K in ion bombarded InGaAsP epitaxial layers on InP were studied by in situ Rutherford backscattering/channeling measurements using 1.4 MeV $\text{}^4He$ ions. Ion bombardment was performed using 150 keV N ions and 580 keV As ions to fluences ranging from 5 × $10^{12}$ to 6 × $10^{14}$ at./$cm^2$. Damage distributions were determined using the McChasy Monte Carlo simulation code assuming that they consist of randomly displaced lattice atoms and extended defects producing bending of atomic planes. Steep damage buildup up to amorphisation with increasing ion fluence was observed. Defect production rate increases with the ion mass and decreases with the implantation temperature. Parameters of damage buildup were evaluated in the frame of the multi-step damage accumulation model. Following ion bombardment at 15 K defect transformations upon warming up to 300 K have also been studied. Defect migration beginning above 100 K was revealed leading to a broad defect recovery stage with the activation energy of 0.1 eV for randomly displaced atoms and 0.15 eV for bent channels defects.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 1; 136-139
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
ESR Spectroscopy of Graphene with Adsorbed NaCl Particles
Autorzy:
Karpierz, E.
Drabińska, A.
Bożek, R.
Kaźmierczak, P.
Wysmołek, A
Kamińska, M
Strupiński, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1376214.pdf
Data publikacji:
2014-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.05.ue
72.10.Fk
78.67.Wj
72.80.Vp
Opis:
Due to its peculiar properties graphene is a good candidate for sensor materials. Therefore, it is important to study influence of different fluids on graphene layer. The presented studies showed pinning of NaCl microcrystals to graphene surface after immersing graphene in NaCl solution and subsequent careful rinsing with distilled water. The atomic force microscopy images revealed presence of many NaCl-related structures over 100 nm high on graphene surface. The electron spin resonance spectrum for magnetic field perpendicular to the graphene layer consisted of several lines originating from NaCl. The pinning of NaCl microcrystals resulted in increase of electron scattering, as confirmed by the Raman spectroscopy (the increase of intensity of D and D' bands) and weak localization measurement (the decrease of coherence length).
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2014, 126, 5; 1187-1189
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Functional Properties of Monolayer and Bilayer Graphene Hall-Effect Sensors
Autorzy:
Kachniarz, M.
Petruk, O.
Salach, J.
Ciuk, T.
Strupiński, W.
Bieńkowski, A.
Szewczyk, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1030244.pdf
Data publikacji:
2017-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
07.55.Ge
85.75.Ss
85.30.Fg
81.05.ue
73.22.Pr
72.80.Vp
Opis:
The paper describes the design, development, and investigation of a new type of Hall-effect sensors of a magnetic field made of graphene. The epitaxial growth of high-quality graphene structures was performed using a standard hot-wall CVD reactor, which allows for easy integration with an existing semiconductors production technologies. The functional properties of developed Hall-effect sensors based on graphene were investigated on special experimental setup utilizing Helmholtz coils as a source of reference magnetic field. Monolayer and quasi-free-standing bilayer graphene structures were tested. Results presented in the paper indicate that graphene is very promising material for development of Hall-effect sensors. Developed graphene Hall-effect sensor exhibit highly linear characteristics and high magnetic field sensitivity.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2017, 131, 5; 1250-1253
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Graphene Based Flow Sensors
Autorzy:
Kaźmierczak, P.
Binder, J.
Boryczko, K.
Ciuk, T.
Strupiński, W.
Stępniewski, R.
Wysmołek, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1195452.pdf
Data publikacji:
2014-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.65.Pq
72.80.Vp
73.30.+y
Opis:
We report on attempts to produce a graphene based liquid flow sensor. Our results indicate that modifications of the electric double layer, formed in the vicinity of the graphene surface, dominate over mechanisms responsible for liquid flow-induced voltage/current generation. Several graphene structures were tested in different measurement configurations, aimed to maximize the generated signal amplitude and its stability. Some realizations of working devices in water as well as in aqueous solutions of NaCl or HCl are presented.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2014, 126, 5; 1209-1211
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
In Situ Raman Spectroscopy of Solution-Gated Graphene on Copper
Autorzy:
Binder, J.
Stępniewski, R.
Strupiński, W.
Wysmołek, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1033795.pdf
Data publikacji:
2017-08
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.65.Pq
78.67.Wj
73.30.+y
Opis:
We present a solution-gated in situ Raman spectroscopy approach, which enables the electrical characterization of graphene on a copper substrate without the need of a transfer process. The application of a voltage across the solution resulted in a shift of the Raman G-band without a significant shift of the 2D band. This observation allowed for the separation of the effects of strain and doping. Based on the G and 2D band shifts we show that we can manipulate the n-type carrier concentration of graphene directly on the copper substrate in a range from about 8× 10¹² cm¯² to about 1.5× 10¹³ cm¯².
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2017, 132, 2; 360-363
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Influence of SiC Surface Preparation on Homoepitaxial Growth; X-ray Reflectometric Studies
Autorzy:
Mazur, K.
Wierzchowski, W.
Wieteska, K.
Hofman, W.
Sakowska, H.
Kościewicz, K.
Strupiński, W.
Graeff, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1538812.pdf
Data publikacji:
2010-02
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.05.cm
61.72.Ff
61.72.up
Opis:
X-ray reflectometric and diffraction topographic methods were applied for examination of 4H and 6H silicon carbide substrates finished with various regimes, as well as, silicon carbide epitaxial layers. The investigations indicated a very good quality of the substrate surfaces finished with the process established at the Institute of Electronic Materials Technology, which provided the surface roughness σ = 0.55 ± 0.07 nm for 4H-SiC wafers. These values were better than those of substrate wafers offered by many commercial producers. The surface roughness was decreased during the initial high temperature etching to σ = 0.22 ± 0.07 nm. A relatively good structural quality was confirmed in the case of 4H epitaxial wafers deposited on the substrates prepared from the crystals manufactured at the IEMT, with the 8° off-cut from the main (001) plane.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2010, 117, 2; 272-276
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
InGaN QW in External Electric Field Controlled by Pumping of 2D-Electron Gas
Autorzy:
Korona, K.
Drabińska, A.
Surowiecka, K.
Wołowiec, L.
Borysiuk, J.
Caban, P.
Strupiński, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1811946.pdf
Data publikacji:
2008-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
73.61.Ey
78.55.Cr
72.40.+w
Opis:
We present investigations of GaInN/GaN/AlGaN structure containing cavity designed so that the electric field inside it can be changed by illumination. Numerical calculations show that illumination can change carrier distributions and consequently change the field and potential. The electric field influences properties of a quantum well placed in the cavity. We confirmed experimentally that the electric field controlled by external bias or by optical pumping, can change energy and occupation of electronic states in the quantum well. The quantum well energy could be changed of about 80 meV by voltage and 15 meV by illumination.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 5; 1179-1186
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Investigation of Misfit Dislocation Sources in GaAs Epitaxial Layers
Autorzy:
Wierzchowski, W.
Mazur, K.
Strupiński, Wł.
Wieteska, K.
Graeff, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1945232.pdf
Data publikacji:
1996-03
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.10.-i
Opis:
The formation of misfit dislocation was studied in GaAs homoepitaxial layers on the substrates containing considerable amount of isoelectronic indium. The layers were grown with metal-oxide chemical vapour deposition and chemical vapour deposition methods including low temperature process with tertiarbutylarsine arsenic source. The critical conditions of misfit dislocation formation were exceeded up to 5×. The samples were examined before and after epitaxial process with a number of different X-ray topographic and diffractometric methods, including high resolution synchrotron white beam topography. The crystallographic identification of the defects was supported by the numerical simulation of topographic images. It was found that a number of threading dislocations, continuing in the epitaxial layer from those existing in the substrate, did not take part in the formation of misfit dislocations despite a suitable slip system. On the other hand, the formation of misfit dislocations from small imperfections of epitaxial deposit was proved in many cases. A reasonable good quality of the layers was confirmed by the resolution of individual defects and only small broadening of rocking curves.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1996, 89, 3; 341-346
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Microscopic Investigation of SiC Epitaxial Layers οn On-Axis 4H-SiC Substrates Using Kelvin Probe Force Microscopy
Autorzy:
Kościewicz, K.
Bożek, R.
Strupiński, W.
Olszyna, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1807654.pdf
Data publikacji:
2009-12
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.35.bg
81.15.-z
34.20.-b
61.05.J-
Opis:
We report on Kelvin probe force microscopy and electron backscatter diffraction measurements of 3C-SiC epitaxial layers grown on exactly oriented Si-face 4H-SiC (0001) substrates in a horizontal hot-wall chemical vapor deposition reactor, in the temperature range from 1150°C to 1620°C, under $H_{2}$ or $H_{2}$ $+SiH_{4}$ atmosphere. The investigated layers were doped with nitrogen (for n-type) and aluminium (for p-type). The electron backscatter diffraction analysis revealed structure of polytype 3C blocks with a relative rotation of 60 and/or 120°. The Kelvin probe force microscopy measurements revealed cubic substructure as a equilateral triangle objects contrast which is characteristic of 3C silicon carbide polytype. The surface potential contrast was found to be dependent on the type and concentration of doping, which could be explained in terms of the impurities accumulation at block boundaries.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2009, 116, S; S-69-S-71
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
MOCVD Growth of InP-Related Materials Using TEA and TBP
Autorzy:
Czub, M.
Strupiński, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1933730.pdf
Data publikacji:
1995-10
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.55.Ce
Opis:
High quality epitaxial layers of GaAs, InP, AlAs, InGaAs, InGaP, InGaAlP have been grown by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition using TMIn, TMGa, TMAl and the less hazardous group V precursors, ΤΒA, TBP. Excellent morphology was obtained for GaAs and InP in the temperature ranges of 570-650°C and 520-650°C, respectively. The V/III ratio as low as 1.5 was used to grow epilayers of InP. The 77 K mobility of InGaAs lattice matched to InP (grown with ΤΒA) was 72360 cm $\text{}^{2}$/(V s) for n = 1.5 × 10$\text{}^{15}$ /cm$\text{}^{-3}$ and a thickness of 2 μm. Comparable photoluminescence parameters of InGaP between layers grown with TBP and PH$\text{}_{3}$ were achieved, but for InGaAlP (TBP) photoluminescence intensity was significantly lower than for InGaAlP (PH$\text{}_{3}$). The promising results allow one to apply of ΤΒA and TBP for developing of device structures.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1995, 88, 4; 695-698
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies