Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

CVD Growth of Graphene Stacks on 4H-SiC (0001) Surface - X-ray Diffraction and Raman Spectroscopy Study

Tytuł:
CVD Growth of Graphene Stacks on 4H-SiC (0001) Surface - X-ray Diffraction and Raman Spectroscopy Study
Autorzy:
Tokarczyk, M.
Kowalski, G.
Grodecki, K.
Urban, J.
Strupiński, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1399073.pdf
Data publikacji:
2013-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.48.Gh
61.72.Dd
63.22.Rc
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2013, 124, 5; 768-771
0587-4246
1898-794X
Język:
angielski
Prawa:
Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Features associated with short and prolonged growth time in the chemical vapor deposition process of growth of graphene stacks on SiC (0001) substrate are reported. In particular general bimodal (as far as $d_{002}$ interlayer spacing is concerned) distribution of graphene species across the surface of the samples is observed. It consists of thin few layer graphene coverage of most of the sample surface accompanied by thick graphite-like island distribution. It points to the two independent channels of graphene stacks growth with two characteristic growth rates.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies