Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "ion" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
Wyświetlanie 1-15 z 34
Tytuł:
New Approach to Non-Volatile Metal Ion Production Using Plasma Ion Source with Internal Evaporator
Autorzy:
Turek, Marcin
Droździel, Andrzej
Pyszniak, Krzysztof
Filiks, Janusz
Węgierek, Paweł
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2206283.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
Tematy:
ion sources
ion implantation
ion beams
Opis:
A new approach to application the internal evaporator in an arc discharge ion source is presented, namely a crucible with a plug made of feeding substance. This solution is suitable especially for high-melting point metallic feeding substances. The ion source was tested using Ni and Cr. Basic ion source characteristics, i.e. dependences of ion current and discharge voltage on discharge and filament currents as well as on the external magnetic field flux density are shown and discussed in order to find optimal working conditions. The maximal ion currents were 18 μA for Ni+ and 38μA for Cr+. The stability of the ion current was also tested. It was proven that ion source is able to provide intense ion beam current long enough to perform irradiations with the fluence of ~5×1015 cm-2 confirming the usefulness of the design for ion implantation purposes.
Źródło:
Advances in Science and Technology. Research Journal; 2022, 16, 5; 20--27
2299-8624
Pojawia się w:
Advances in Science and Technology. Research Journal
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Post acceleration of ions emitted from laser and spark - generated plasmas
Autorzy:
Torrisi, L.
Cavallaro, S.
Rosiński, M.
Nassisi, V.
Paperny, V.
Romanov, I.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/146658.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
post ion acceleration
laser plasma
ion beam
ion implantation
Opis:
Pulsed lasers at intensities of the order of 1010 W/cm2 interacting with solid matter in vacuum, produce hot plasmas at high temperatures and densities. The charge state distributions of the plasma generate a high electric field, which induces high ion acceleration along the normal to the target surface. The high yield of the emitted ions can generate a near constant current by using repetitive pulses irradiating thick targets. In order to increase ion energy, a post-acceleration system can be employed by using acceleration voltages above 10 kV. Special ion extraction methods can be employed to generate the final ion beam, which is multi-ionic and multi-energetic, due to the presence of different ion species and of different charge states. In this article four different methods of post ion acceleration, employed at the INFN-LNS of Catania, at the IPPLM of Warsaw, at the INFN of Lecce and at the LPI of Moscow, are presented, discussed and compared. All methods are able to implant ions in different substrates at different depth and at different dose-rates.
Źródło:
Nukleonika; 2012, 57, 3; 323-332
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
An algorithm for the calculation of heavy ion ranges in SiO2
Autorzy:
Kabadayi, Ö.
Gümüs, H.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/148433.pdf
Data publikacji:
2003
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
ion implantation
ion range
SiO2
Opis:
The heavy ion ranges in amorphous SiO2 have been calculated by using a technique based on solution of first order ODE’s. Br, Au, Hg, Bi, projectiles have been chosen as incident ion. Since the target is assumed to be amorphous, Bragg’s rule can be used to calculate electronic and nuclear stopping powers in the compound. Numerical solutions have been performed by using Fehlberg fourth-fifth order Runge-Kutta method. The results are compared with experimental data, as well as with the result of the Monte Carlo program SRIM and other standard procedures such as PRAL and WS [19]. It is found that the agreement between our method and the experiment is good and within 10%.
Źródło:
Nukleonika; 2003, 48, 3; 145-149
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Recent development in ECR sources
Autorzy:
Bieth, C.
Kantas, S.
Sortais, P.
Kanjilal, D.
Rodrigues, G.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/148676.pdf
Data publikacji:
2003
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
ion source
ECR source
superconducting coils
high temperature superconducting wires
high charge state ion source
ion implantation
Opis:
Recent developments and improvements on the ECR ion source family at PANTECHNIK S.A. are presented. A lot of work has been done in the Ion Implantation Technology with the MICROGAN IndustryŽ source: more than 3 mA have been produced on B1+, P1+ and few hundred žAe on charge state 3+, 4+. Three other developments are described in this paper: a) the construction of the first source using high temperature superconducting coils (30 K) PKSUSŽ - Space Cryomagnetics (UK), in collaboration with NSC (New Delhi); b) the construction of the PHOENIX ECR source (used in the “1+/n+” process for radioactive beam) for different laboratories; c) and the first results on PK 2.45 (a cheap source working at 2.45 GHz) able to produce high current of monocharged beam. We will also present some special products for beam acceleration and diagnosis.
Źródło:
Nukleonika; 2003, 48,suppl.2; 93-98
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Investigations of positron lifetime spectra in iron defected with highly energetic Bi and Kr ions
Autorzy:
Pietrzak, R.
Szatanik, R.
Glatki, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/146340.pdf
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
ion implantation
defects
annihilation
Opis:
The positron lifetime spectra in iron defected with a beam of Bi+51 and Kr+27 ions of energies 670 MeV and 240 MeV, respectively, were investigated. These spectra were analysed by an appropriate separation in 1, 2 or 3 components. It has been found that the experimental data best fit to the assumed model if only two components are taken into account. For comparison, we investigated both irradiated and non-irradiated surfaces of the sample. We have taken into account the fact that the range of penetration of iron by Bi and Kr ions is small. The dependence of the positron lifetime spectra on the absorbed dose and kind of the bombarding ions is presented.
Źródło:
Nukleonika; 2010, 55, 1; 27-30
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Modification of TiN coatings by ion implantation
Autorzy:
Narojczyk, J.
Morozow, D.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/386761.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Politechnika Białostocka. Oficyna Wydawnicza Politechniki Białostockiej
Tematy:
ion implantation
TiN
silicon
HSS
turning
Opis:
The high-speed steel HS 6-5-2 cutting inserts coated with TiN were subjected to ion implantation with both silicon (dose 2x1017Si+ /cm2 ) and silicon with nitrogen ions (dose (1+1)x1017(Si+ + N+ )/cm2 ) on the subsurface layer of the rake face. Microhardness was examined before and after ion implantation. The composition and structural properties of the subsurface layer were examined by Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy (GD-OES). The turning tests of 40H construction steel with the use of the cutting inserts implanted and non-implanted were performed. During the tests the two components of the net cutting force (the main cutting force Fc and feed force Ff) as well as the wear parameters VB on the major flankalong with the surface roughness (Ra) were measured. The implanted inserts exhibited higher durability compared to non-implanted ones.
Źródło:
Acta Mechanica et Automatica; 2017, 11, 3; 190-193
1898-4088
2300-5319
Pojawia się w:
Acta Mechanica et Automatica
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Ion Beam Induced Surface Modification of ta-C Thin Films
Autorzy:
Berova, M.
Sandulov, M.
Tsvetkova, T.
Kitova, S.
Bischoff, L.
Boettger, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1033772.pdf
Data publikacji:
2017-08
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
carbon
ion implantation
atomic force microscopy
Opis:
Thin film samples (d ≈40 nm) of tetrahedral amorphous carbon (ta-C), deposited by filtered cathodic vacuum arc, were implanted with Ga⁺ at ion energy E =20 keV and ion fluences D=3×10¹⁴-3×10¹⁵ cm¯² and N⁺ with the same energy and ion fluence D=3×10¹⁴ cm¯². The Ga⁺ ion beam induced surface structural modification of the implanted material, displayed by formation of new phase at non-equilibrium condition, which could be accompanied by considerable changes in the optical properties of the ta-C films. The N⁺ implantation also results in modification of the surface structure. The induced structural modification of the implanted material results in a considerable change of its topography and optical properties. Nanoscale topography and structural properties characterisation of the Ga⁺ and N⁺ implanted films were performed using atomic spectroscopy analysis. The observed considerable surface structural properties modification in the case of the higher fluence Ga⁺ implanted samples results from the relatively high concentration of introduced Ga⁺ atoms, which is of the order of those for the host element.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2017, 132, 2; 299-301
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Badanie odkształceń sieci krystalicznej w implantowanej warstwie epitaksjalnej GaN osadzonej metodą MOCVD na podłożu szafirowym o orientacji [001]
Lattice strain study in implanted GaN epitaxial layer deposited by means of MOCVD technique on [001] oriented sapphire substrate
Autorzy:
Wójcik, M.
Gaca, J.
Wierzbicka, E.
Turos, A.
Strupiński, W.
Caban, P.
Sathish, N.
Pągowska, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/192129.pdf
Data publikacji:
2011
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:
HRXRD
implementacja jonowa
dyfrakcja
ion implantation
diffraction
Opis:
W pracy zbadano warstwy epitaksjalne GaN o grubości 1000 nm implantowane jonami Ar++ w zakresie dawek od 7 ⋅ 1013 cm-2 do 1 ⋅ 1015 cm-2. Wyznaczono zakres proporcjonalności pomiędzy dawką a średnią zmianą odległości pomiędzy płaszczyznami równoległymi do powierzchni swobodnej implantowanego kryształu GaN. Wyznaczono korelację pomiędzy wielkością dawki jonów a rozkładem odkształceń sieci krystalicznej występujących w kierunku [001] w warstwie epitaksjalnej. Stwierdzono, że odkształcane są płaszczyzny sieciowe równolegle do interfejsu, a komórka elementarna warstwy implantowanej ulega tetragonalizacji.
In the present work 1000 nm epitaxial GaN layer implanted with Ar++ ions in the dose range from 7 ⋅ 1013 cm-2 to 1 ⋅ 1015 cm-2 was investigated. The range of linearity between dose and the average change of interplanar spacing of planes parallel to the surface of the implanted GaN crystal was determined. It was found a correlation between the distribution of displaced atoms and lattice deformation occurring in the [001] direction in the epitaxial layer. It was also observed the tetragonalization of unit cell due to implantation.
Źródło:
Materiały Elektroniczne; 2011, T. 39, nr 4, 4; 22-31
0209-0058
Pojawia się w:
Materiały Elektroniczne
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Wettability of the surface of bacterial cellulose film modified with the ion implantation
Autorzy:
Betlej, Izabela
Barlak, Marek
Wilkowski, Jacek
Werner, Zbigniew
Zagórski, Jerzy
Lipska, Karolina
Boruszewski, Piotr
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2171751.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Szkoła Główna Gospodarstwa Wiejskiego w Warszawie. Wydawnictwo Szkoły Głównej Gospodarstwa Wiejskiego w Warszawie
Tematy:
bacterial cellulose
wettability
surface modification
ion implantation
Opis:
Wettability of the surface of bacterial cellulose film modified with low energy ion implantation The paper presents the preliminary results of the modification on the water wettability of cellulose, using ion implantation method. Two kinds ions of the noble gases, i.e. helium and argon were implanted with fluences of 1e15 nand 1e16 cm-2, and with the ion energy of 60 keV. The measurements of the contact angle values show the different influence of both types ions on the hydrophobicity of the modified cellulose, but the hydrophobicity of implanted cellulose increases in all cases. The real investigations were supplemented with the modelling results of the depth profiles of the implanted ions and the main parameters of the modelled peaks.
Zwilżalność powierzchni celulozy bakteryjnej modyfikowanej metodą implantacji jonów. Artykuł przedstawia wstępne wyniki modyfikacji na zwilżalność wodą implantowanej jonami celulozy. W badaniach wykorzystano dwa rodzaje gazów szlachetnych, tj. hel i argon. Implantowane dawki wynosiły 1e15 i 1e16 cm-2, a energia jonów 60 keV. Pomiary kąta zwilżania pokazują różny wpływ obydwu typów jonów na hydrofobowość modyfikowanej celulozy, jednakże hydrofobowość wzrasta we wszystkich przypadkach. Badania zostały uzupełnione wynikami modelowania głębokosciowych profili implantowanych jonów i głównych parametrów modelowanych pików.
Źródło:
Annals of Warsaw University of Life Sciences - SGGW. Forestry and Wood Technology; 2022, 118; 15--21
1898-5912
Pojawia się w:
Annals of Warsaw University of Life Sciences - SGGW. Forestry and Wood Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Change of silica luminescence due to fast hydrogen ion bombardment
Autorzy:
Zhurenko, V. P.
Kalantaryan, O. V.
Kononenko, S. I.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/146688.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
luminescent spectrum
absorption dose
ion implantation
silica
Opis:
This paper deals with the luminescence of silica (KV-type) induced by beam of hydrogen ions with the energy of 210 keV per nucleon. An average implantation dose of up to 3.5 × 1021 cm–3 (5 × 1010 Gy) was accumulated during irradiation over an extended period. The luminescent spectra consisted of the blue band (maximum at 456 nm) and the red band (650 nm) in the visible range. It was shown that increase in the absorption dose had an effect on the silica luminescence. It was found that the most significant changes in the spectrum occurred during the dose accumulation in the region of 550–700 nm. The shape of the spectrum of the luminescent radiation in this wavelength range was affected both by the oxygen deficient centres (blue band) and non-bridging oxygen hole centers (red band). Mathematical processing of the experimental spectra permitted to identify contributions to the luminescent radiation coming from both types of defects.
Źródło:
Nukleonika; 2015, 60, 2; 289-292
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
High - temperature oxidation resistance in yttrium implanted stainless steel
Autorzy:
Barlak, M.
Piekoszewski, J.
Werner, Z.
Sartowska, B.
Waliś, L.
Starosta, W.
Kierzek, J.
Kowalska, E.
Wilhelm, R. A.
Pochrybniak, C.
Woźnica, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/146785.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
high-temperature oxidation resistance
ion implantation
yttrium
Opis:
Austenitic AISI 304, 316L and ferritic 430 stainless steels were implanted with yttrium to fluences ranging between 1 x 1015 and 5 x 1017 ions/cm2. The samples were subjected to oxidation in air at a temperature of 1000 centigrade for a period of 100 h and next examined by stereoscopic optical microscopy (OM), scanning electron microscopy (SEM), energy dispersive X-ray spectrometry (EDX) and Rutherford back scattering spectrometry (RBS). The results obtained with the use of ion implantation are discussed.
Źródło:
Nukleonika; 2012, 57, 4; 473-476
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Thermal Desorption of Argon Implanted into Gallium Arsenide
Autorzy:
Turek, Marcin
Droździel, Andrzej
Pyszniak, Krzysztof
Węgierek, Paweł
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2201837.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
Tematy:
thermal desorption spectroscopy
gallium arsenide
ion implantation
Opis:
Thermal desorption of Ar implanted with energies 150 keV and 100 keV with fluence 1×10^16 cm^-2 into GaAs is considered. A sudden release of Ar is observed in temperature range 1100 -1180 K as a single narrow peak in TDS (Thermal Desorption Spectroscopy) spectra. This is accompanied by a strong background signal from atmospheric Ar trapped in various parts of the spectrometer. Desorption peak shift analysis allows estimation of desorption activation energy values - these are 3.6 eV and 2.5 eV for implantation energies 150 keV and 100 keV, respectively. These results are comparable to that measured for Ar implanted into germanium target.
Źródło:
Advances in Science and Technology. Research Journal; 2022, 16, 4; 318--326
2299-8624
Pojawia się w:
Advances in Science and Technology. Research Journal
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Modelling of the ion implantation modification of WC-Co indexable knives for wood machining
Autorzy:
Barlak, Marek
Wilkowski, Jacek
Werner, Zbigniew
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2206680.pdf
Data publikacji:
2019
Wydawca:
Szkoła Główna Gospodarstwa Wiejskiego w Warszawie. Wydawnictwo Szkoły Głównej Gospodarstwa Wiejskiego w Warszawie
Tematy:
WC-Co indexable knives
ion implantation
modelling
Opis:
Modelling of the ion implantation modification of WC-Co indexable knives for wood machining. The paper presents the results of the modelling of nitrogen ion implantation parameters for W-C-Co material. Applications include the modification processes of WC-Co indexable knives for wood machining.
Modelowanie parametrów implantacji jonów w procesach modyfikacji wymiennych noży WC-Co, stosowanych do obróbki materiałów drzewnych. W artykule przedstawiono wyniki modelowania parametrów implantacji jonów azotu do podłoża W-C-Co. Mogą być one wykorzystane w procesach modyfikacji wymiennych noży WC-Co, stosowanych do obróbki materiałów drzewnych.
Źródło:
Annals of Warsaw University of Life Sciences - SGGW. Forestry and Wood Technology; 2019, 106; 57--61
1898-5912
Pojawia się w:
Annals of Warsaw University of Life Sciences - SGGW. Forestry and Wood Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The effect of nitrogen ion implantation on nano-scale hardness and elastic modulus of WC-Co indexable knives for wood materials machining
Autorzy:
Wilkowski, Jacek
Barlak, Marek
Bottger, Roman
Werner, Zbigniew
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/24072057.pdf
Data publikacji:
2019
Wydawca:
Szkoła Główna Gospodarstwa Wiejskiego w Warszawie. Wydawnictwo Szkoły Głównej Gospodarstwa Wiejskiego w Warszawie
Tematy:
ion implantation
WC-Co indexable knives
nitrogen ion implantation
nano-scale mechanical
behavior
hardness
elastic modulus
wood materials machining
Opis:
The effect of nitrogen ion implantation on nano-scale hardness and elastic modulus of WC-Co indexable knives for wood materials machining. The paper presents the results of a study investigating the effects of nitrogen ion implantation into the surface layer of WC-Co blades, used for machining wood materials, on their hardness and modulus of elasticity at the nano-scale. The modified blades were analyzed in six variants of implantation process parameters, and compared with control blades (virgin, unmodified). Three energies of accelerating nitrogen ions were used in the implantation process (5, 50 and 500 keV) and two doses of implanted ions (1e17 and 5e17 cm-2). The nano-hardness and elastic modulus of all blades were measured using an Anton Paar TriTec (UNHT) hardness tester.
Wpływ implantacji jonów azotu na twardość i moduł sprężystości w nano-skali noży wymiennych WC-Co do obróbki materiałów drzewnych. W artykule przedstawiono wyniki wpływu procesu implantacji jonów azotu do warstwy wierzchniej ostrzy WC-Co do obróbki materiałów drzewnych na ich twardość i moduł sprężystości w nano-skali. Analizowano ostrza modyfikowane w sześciu wariantach parametrów procesu implantacji, oraz w celach porównawczych, ostrza kontrolne (niemodyfikowane). Zastosowano trzy energie przyspieszenia jonów azotu w procesie implantacji (5, 50 i 500 keV) oraz dwie dawki implantowanych jonów (1e17 oraz 5e17 cm-2). Pomiaru twardości i modułu sprężystości w nano-skali wszystkich ostrzy dokonano przy użyciu twardościomierza Anton Paar TriTec (UNHT).
Źródło:
Annals of Warsaw University of Life Sciences - SGGW. Forestry and Wood Technology; 2019, 108; 79--83
1898-5912
Pojawia się w:
Annals of Warsaw University of Life Sciences - SGGW. Forestry and Wood Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Influence of the ion implantation of nitrogen and selected metals on the lifetime of WC-Co indexable knives during MDF machining
Autorzy:
Barlak, Marek
Wilkowski, Jacek
Szymanowski, Karol
Czarniak, Paweł
Podziewski, Piotr
Werner, Zbigniew
Zagórski, Jerzy
Staszkiewicz, Bogdan
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/24072187.pdf
Data publikacji:
2019
Wydawca:
Szkoła Główna Gospodarstwa Wiejskiego w Warszawie. Wydawnictwo Szkoły Głównej Gospodarstwa Wiejskiego w Warszawie
Tematy:
WC-Co composites
ion implantation
modelling
MDF
milling
Opis:
Influence of the ion implantation of nitrogen and selected metals on the lifetime of WC-Co indexable knives during MDF machining. The paper presents the results of durability tests for WC-Co indexable knives during the machining of MDF. The knives were implanted with nitrogen, zirconium, molybdenum and tin, using MEVVA type implanter with non-mass separated beam. Additionally, the Monte Carlo simulation results of the main parameters of the depth profiles of the implanted elements are presented in this paper. A higher correlation of tool life with the project range and range straggling than with the parameter of the peak volume dopant concentration was demonstrated.
Wpływ implantacji jonów azotu i jonów wybranych metali na trwałość wymiennych noży WC-Co podczas obróbki płyt MDF. W artykule przedstawiono wyniki testów trwałościowych wymiennych noży WC-Co podczas obróbki płyt MDF. Noże były implantowane jonami azotu, cyrkonu, molibdenu i cyny, przy użyciu implantatora typu MEVVA bez separacji masowej. Ponadto, w artykule zamieszczono wyniki modelowania profili głębokościowych implantowanych pierwiastków, uzyskanych przy pomocy programu opartego o metodę Monte Carlo. Wykazano wyższe zależności korelacyjne trwałości ostrza z wartościami zasięgu rzutowanego i rozrzutu zasięgu niż z wartościami maksymalnej koncentracji objętościowej domieszki.
Źródło:
Annals of Warsaw University of Life Sciences - SGGW. Forestry and Wood Technology; 2019, 108; 45--52
1898-5912
Pojawia się w:
Annals of Warsaw University of Life Sciences - SGGW. Forestry and Wood Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Wyświetlanie 1-15 z 34

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies