Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Tymicki, E." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-5 z 5
Tytuł:
Wzrost politypu 3C-SiC z roztworu metodą TSSG
Solution growth of 3C-SiC by TSSG method
Autorzy:
Raczkiewicz, M.
Tymicki, E.
Łukasiewicz, T.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/192158.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:
polityp 3C
SiC
wzrost z roztworu
polytype 3C
solution growth
Opis:
W tej pracy przedstawiono metodę wzrostu węglika krzemu politypu 3C. Jako zarodki posłużyły monokrystaliczne płytki węglika krzemu o politypach heksagonalnych 4H-SiC oraz 6H-SiC. Zbadano wzrost na płaszczyznach o orientacji (0001) oraz (000-1). Określony został zakres temperatur, pozwalający na otrzymanie struktur o wysokiej jednorodności politypowej, która została potwierdzona analizą fazową otrzymanego materiału oraz pomiarami widma Ramana.
In this paper, solution growth of 3C-SiC was demonstrated. Monocrystalline 4H-SiC and 6H-SiC wafers were used as seeds. Growth was observed on (0001) and (000-1) planes. The temperature range enabling the fabrication of 3C-SiC structures of high polytypic homogeneity was determined and 3C-SiC growth was confirmed by XRD and Raman spectroscopy.
Źródło:
Materiały Elektroniczne; 2015, T. 43, nr 2, 2; 4-11
0209-0058
Pojawia się w:
Materiały Elektroniczne
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Structural and Electrical Properties of SiC Grown by PVT Method in the Presence of the Cerium Vapor
Autorzy:
Avdonin, A.
Racka, K.
Tymicki, E.
Grasza, K.
Jakieła, R.
Pisarek, M.
Dobrowolski, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1399070.pdf
Data publikacji:
2013-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
74.25.F-
61.72.-y
81.10.Bk
61.72.uf
Opis:
The results of investigation of structural and electrical properties of bulk SiC crystals, which were grown by physical vapor transport method with different Ce impurity content added to the SiC source material, are presented. The gradual dosage of cerium from the SiC source and continuous presence of the cerium vapor over the SiC crystallization fronts during the crystal growth processes are confirmed. The cerium influences the overall concentration of structural defects. The increase of the concentration of both, donors and acceptors, and appearance of new shallow donors (15-32 meV) in 4H-SiC crystals are observed.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2013, 124, 5; 761-764
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Magneto-Luminescence Study of Silicon-Vacancy in 6HSi
Autorzy:
Wysmołek, A.
Wardak, K.
Stępniewski, R.
Baranowski, J.
Potemski, M.
Tymicki, E.
Grasza, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2047066.pdf
Data publikacji:
2006-09
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
78.55.Hx
71.55.-i
71.55.Ht
Opis:
The magneto-spectroscopy studies of luminescence related to silicon-vacancy, in high quality 6H-SiC crystals grown by the seeded physical vapor transport method, are presented. The superior optical quality of these crystals allowed us to resolve a doublet structure of the 1.398 eV emission line (V$\text{}_{2}$ line), commonly assigned to the transitions involving two singlet states of the silicon-vacancy. Experiments performed in magnetic fields up to 20 T showed that each doublet constituent of the V$\text{}_{2}$ line splits into four components for the magnetic field parallel to the c-axis of the 6H-SiC crystals. This result could be hardly explained in terms of a singlet to singlet transition. The analysis of the angle-resolved luminescence experiments in high magnetic fields serves us to discuss the symmetry of the defect states responsible for the V$\text{}_{2}$-line in silicon carbide.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2006, 110, 3; 437-442
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Raman Piezospectroscopy of Phonons in Bulk 6H-SiC
Autorzy:
Grodecki, K.
Wysmołek, A.
Stępniewski, R.
Baranowski, J.
Hofman, W.
Tymicki, E.
Grasza, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1791360.pdf
Data publikacji:
2009-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
62.50.-p
42.65.Dr
63.20.-e
78.30.-j
Opis:
Raman piezospectroscopy of high quality 6H-SiC crystals is presented. The crystals used in experiments were grown by the seeded physical vapor transport method. Uniaxial stress up to 0.9 MPa, obtained using a spring apparatus, was applied along [11-20] and [10-10] directions. It was found that the application of uniaxial stress led to different energy shifts of the observed phonon excitations in the investigated 6H-SiC crystals. The obtained pressure coefficients vary in the range 0.98-5.5 $cm^{-1}$ $GPa^{-1}$ for different transverse optical phonon modes. For longitudinal optic phonon modes pressure coefficients in the range 1.6-3.6 $cm^{-1}$ $GPa^{-1}$ were found. The data obtained could be useful in evaluation of local strain fields in SiC based structures and devices including epitaxial graphene.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2009, 116, 5; 947-949
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
15R-SiC w kryształach 4H- i 6H-SiC otrzymywanych metodą transportu fizycznego z fazy gazowej
15R-SiC inclusions in 4H- and 6H-SiC crystals grown by the physical vapour transport method
Autorzy:
Tymicki, E.
Raczkiewicz, M.
Racka, K.
Grasza, K.
Kościewicz, K.
Diduszko, R.
Mazur, K.
Łukasiewicz, T.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/192088.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:
SiC
15R-SiC
wtrącenie politypowe
metoda PVT
polytype inclusion
PVT method
Opis:
W pracy zaprezentowano wyniki eksperymentów, mających na celu określenie warunków wzrostu kryształów 4H- oraz 6H-SiC wolnych od wtrąceń politypu 15R-SiC. Kryształy SiC otrzymane w procesie krystalizacji metodą transportu fizycznego z fazy gazowej (PVT) zostały zbadane przy użyciu metod badawczych takich jak: dyfrakcja rentgenowska (XRD), dyfrakcja elektronów wstecznie rozproszonych (EBSD), mikroskopia optyczna oraz trawienie chemiczne, pod kątem występowania wtrąceń politypu 15R w strukturach krystalicznych 4H- oraz 6H-SiC. Otrzymane wyniki badań zostały odniesione do parametrów wzrostu tj.: temperatury, ciśnienia, rodzaju materiału wsadowego, oraz jakości i orientacji monokrystalicznego zarodka SiC. Przeprowadzona została dyskusja na temat wpływu warunków wzrostu na powstawanie politypu 15R, z której jednoznacznie wynika, że tworzenie się wtrąceń politypowych 15R w strukturach 4H i 6H wiąże się ze znacznym spadkiem jakości strukturalnej otrzymanych kryształów. Z przeprowadzonych badań wynika, że otrzymanie jednorodnych kryształów politypu 6H i 4H bez wtrąceń 15R-SiC metodą PVT jest trudne ze względu na bardzo szeroki zakres warunków, w których polityp 15R występuje.
In this paper the main problems which have to be resolved to obtain 4H- and 6H-SiC crystals free from 15R-SiC inclusions by the physical vapour transport method (PVT) are presented. The resultant SiC crystals have been investigated using various experimental methods such as X-ray diffraction (XRD), electron backscatter diffraction (EBSD), optical microscopy and KOH etching in order to check the quality of the crystal structure and the amount of the 15R-SiC inclusions. The obtained results have been analysed with reference to the following growth conditions: temperature, pressure, type of the SiC source material and the quality of the crystal seed. The investigations have showed that a serious deterioration of the structural quality is unavoidable when the 15R-SiC polytype occurs in hexagonal polytypes such as 4H- and 6H-SiC. Obtaining homogenious 4H-SiC and 6H-SiC crystals without any 15R-SiC inclusions by the PVT method is difficult due to there being a very wide range of conditions in which the 15R-SiC polytype appears.
Źródło:
Materiały Elektroniczne; 2012, T. 40, nr 3, 3; 17-27
0209-0058
Pojawia się w:
Materiały Elektroniczne
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-5 z 5

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies