Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Padmore, H. A." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Photoelectron Emission Microscopy and its Application to the Study of Polymer Surfaces
Autorzy:
Cossy-Favre, A.
Diaz, J.
Anders, S.
Padmore, H.
Liu, Y.
Samant, M.
Stöhr, J.
Brown, H.
Russell, T. P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1964108.pdf
Data publikacji:
1997-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.16.Ms
73.61.Ph
64.75.+g
Opis:
The X-ray photoelectron emission microscopy at the Advanced Light Source has a spatial resolution of 0.2 microns at an accelerating voltage of 12 kV. The tunability of the photon energy is used to provide chemical state information using near edge X-ray absorption fine structure spectroscopy on the sub-micrometer scale. The homogeneity of thin films of polymer blends was studied for various film thicknesses. The polystyrene/polyvinylmethylether film of 194 Å showed protrusions of 2-3 μm diameter with an enriched polystyrene content while the polystyrene/polystyreneacrylonitrile 504 Å thick films showed 5-6 μm segregated regions without any topological structure.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1997, 91, 5; 923-927
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Soft X-Ray Spectromicroscopy and its Application to Semiconductor Microstructure Characterization
Autorzy:
Gozzo, F.
Franck, K.
Howells, M. R.
Hussain, Z.
Warwick, A.
Padmore, H. A.
Triplett, B. B.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1963346.pdf
Data publikacji:
1997-04
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.16.-d
85.40.-e
79.60.-i
Opis:
The universal trend towards device miniaturization has driven the semiconductor industry to develop sophisticated and complex instrumentation for the characterization of microstructures. Many significant problems of relevance to the semiconductor industry cannot be solved with conventional analysis techniques, but can be addressed with soft X-ray spectromicroscopy. An active spectromicroscopy program is being developed at the Advanced Light Source, attracting both the semiconductor industry and the materials science academic community. Examples of spectromicroscopy techniques are presented. An Advanced Light Source μ-XPS spectromicroscopy project is discussed, involving the first microscope completely dedicated and designed for microstructure analysis on patterned silicon wafers.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1997, 91, 4; 697-705
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies