Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Duś, R." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-9 z 9
Tytuł:
The Response of Work Function οf Thin Metal Films to Interaction with Hydrogen
Autorzy:
Duś, R.
Nowicka, E.
Nowakowski, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1811510.pdf
Data publikacji:
2008-12
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.43.-h
82.30.Rs
73.30.+y
Opis:
The aim of this paper is to summarize the results of experiments carried out at our laboratory on the response of the work function of several thin films of transition metals and rare earth metals to interaction with molecular hydrogen. The main focus concerns the description of surface phenomena accompanying the reaction of hydride formation as a result of the adsorbate's incorporation into the bulk of the thin films. Work function changes Δ Φp caused by adsorption and reaction concern the surface, hence this experimental method is appropriate for solving the aforementioned problem. A differentiation is made between the work function changes ΔΦp due to creation of specific adsorption states characteristic of hydrides, and ΔΦp arising as a result of surface defects and protrusions induced in the course of the reaction. The topography of thin metal films and thin hydride films with defects and protrusions was illustrated by means of atomic force microscopy. For comparison, the paper discusses work function changes caused by $H_2$ interaction with thin films of metals which do not form hydrides (for example platinum), or when this interaction is performed under conditions excluding hydride formation for thermodynamic reasons. Almost complete diminishing of ΔΦp was observed, in spite of significant hydrogen uptake on some rare earth metals, caused by formation of the ordered H-Y-H surface phase.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2008, 114, S; S-29-S-47
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The Multicomponent PZT-Type Ceramics for Micromechatronic Applications
Autorzy:
Bochenek, D.
Niemiec, P.
Adamczyk, M.
Skulski, R.
Zachariasz, R.
Wodecka-Duś, B.
Machnik, Z.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/353571.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
multicomponent PZT-type ceramics
piezoelectrics
micromechatronics
actuators
Opis:
In the paper two compositions of the multi-component PZT-type ceramics admixtures by Mn4+, Sb3+, W6+, Ni6+ were presented. The ceramic powders were synthesized by the calcination of powders while their densification was carried out by free sintering method. The dielectric, ferroelectric, piezoelectric studies and DC electrical conductivity of the multicomponent PZT-type samples were presented. The results of the multi-component ceramics predispose these type materials in micromechatronic and microelectronic applications for example as element of the actuators.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2017, 62, 2A; 667-672
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Negatively and Positively Polarized Hydrogen Adspecies on Thin Platinum Films
Autorzy:
Nowicka, L.
Wolfram, Z.
Duś, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1892305.pdf
Data publikacji:
1992-01
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
82.65.-i
73.60.Aq
Opis:
Hydrogen adsorption on thin platinum films under isothermal conditions within the temperature and pressure intervals 78-298 K and 10$\text{}^{-10}$-10$\text{}^{-2}$ Torr has been studied measuring simultaneously surface potential (SP) and pressure (P), by means of a sensitive, short response time apparatus. Two forms of hydrogen deposit of different electrical character have been distinguished. The first one arising at the beginning of adsorption decreases the surface potential, the second one following it increases the SP due to positively polarized adspecies formation. This positively polarized form is inhomogeneous as concerns binding energy. Hydrogen uptake associated with the decrease of SP becomes larger with increase of temperature. It seems that this β¯ form of the adsorbate stabilizes the positively polarized adspecies on the surface.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1992, 81, 1; 117-124
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Nanostructure of Thin Gold Films Investigated by Means of Atomic Force Microscopy and X-Ray Reflectometry Methods
Autorzy:
Żymierska, D.
Auleytner, J.
Domagała, J.
Kobiela, T.
Duś, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2035502.pdf
Data publikacji:
2002-08
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.55.-a
68.37.Ps
61.10.Kw
Opis:
A study of the thin gold film growth, during the deposition on glass substrate under UHV conditions at low temperatures, is presented. The complementary methods, the atomic force microscopy and grazing incidence X-ray reflectometry, are used for the research. It is shown that due to variation of the time of deposition from 2 to 50 min different kinds of thin Au films nanostructures are obtained: from discontinuous films consisting of isolated islands, via formation of the chains of islands, up to continuous films.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2002, 102, 2; 289-294
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Metal-Semiconductor Transition on the Surface and in the Bulk of Europium Hydride Thin Film
Autorzy:
Knor, M.
Nowakowski, R.
Duś, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1418265.pdf
Data publikacji:
2012-10
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
67.63.Gh
73.61.-r
78.66.-w
73.20.-r
Opis:
Thin europium films (20-50 nm thick) on a glass substrate were transformed into $EuH_x$ (0 < x < 2) by interaction with H_2 introduced into the reactor in successive calibrated doses. By measuring the pressure, the hydrogen uptake (H/Eu) was determined at every step of the reaction. In situ monitoring of bulk properties (electrical resistance R(H/Eu), relative transparency to light T(H/Eu)/$T_0$ and (H/Eu) dependent light transparency spectrum) confirms metal-semiconductor transition at room temperature. Both the electrical resistance and optical transparency of the film strongly increase with hydrogen concentration as a consequence of the resulting increase of the content of semiconducting dihydride. Moreover, the course of work function changes ΔΦ(H/Eu) indicates inversion of the charge-transfer direction on the surface. The transition at room temperature from positively to negatively polarized hydrogen adsorbate was observed in situ during hydrogen uptake. As a result, the work function at equilibrium state varies with hydrogen content from +18 to -18 mV with respect to pure metal film, reflecting the change of "mirror potential" generated on the surface due to the accumulation of hydrogen adsorbates in the subsurface region.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2012, 122, 4; 698-703
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Dimensional Crossovers in Magnetoresistance of Submicron Films and Wires of CdTe:In
Autorzy:
Jaroszyński, J.
Wróbel, J.
Sawicki, M.
Skośkiewicz, T.
Karczewski, G.
Wojtowicz, T.
Kossut, J.
Dietl, T.
Kamińska, E.
Papis, E.
Piotrowska, A.
Duś, R.
Nowakowski, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1952536.pdf
Data publikacji:
1996-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
71.55.Jv
Opis:
We present millikelvin studies of magnetoresistance for epitaxial films and wires of CdTe:In. In comparison to the data with theoretical predictions for the weakly localized regime we put into the evidence the presence of the temperature-induced dimensional crossovers in the studied systems. Our measurements probe the electron phase-breaking rate and indicate that the main dephasing mechanism arises from electron scattering from thermal fluctuations of three- or two-dimensional electron liquid.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1996, 90, 5; 1027-1031
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Badania kompatybilności elektromagnetycznej (EMC) instalacji elektronicznych obrabiarek Cz. 1. Uwarunkowania prawne
Testing of electrical and electronic installation of machine tool for electromagnetic (EMC) interferences. Part 1 – legal norms
Autorzy:
Łakomiec, K.
Spadło, S.
Duś-Spadło, J.
Mijas, R.
Serwicki, T.
Skowron, E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/404361.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Wydawnictwo AWART
Tematy:
machine tool
electronic installation
EMC susceptibility
narzędzia tnące
instalacja elektroniczna
EMC
Opis:
In international standards concerning conditions were established emissivity and electromagnetic noise immunities of produced products. The production of machine tools requires applying high standards much than the production of products of functional typical products. Electronic components intended for applications in the technique of the structure of machine tools require adapting laboratories for research according to appropriate standards.
W standardach międzynarodowych ustalono warunki dotyczące emisyjności i odporności na zakłócenia elektromagnetyczne produkowanych wyrobów. Produkcja obrabiarek wymaga zastosowanie standardów na znacznie wyższym poziomie niż produkcja typowych produktów użytkowych. Badania podzespołów elektronicznych przeznaczonych do zastosowań w budowie obrabiarek wymagają odpowiedniego dostosowania laboratoriów badawczych do obowiązujących standardów międzynarodowych.
Źródło:
Obróbka Metalu; 2017, 4; 19-22
2081-7002
Pojawia się w:
Obróbka Metalu
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Badania kompatybilności elektromagnetycznej (EMC) instalacji elektronicznych obrabiarek Cz. 1. Charakterystyka zakłóceń
Testing of electronic installation of machine-tool for electromagnetic interferences (EMC). Part II. Characteristics of interferences
Autorzy:
Łakomiec, K.
Spadło, S.
Duś-Spadło, J.
Mijas, R.
Serwicki, T.
Skowron, E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/404465.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Wydawnictwo AWART
Tematy:
machine tool
mechatronic device
electronic installation
electromagnetic compatibility (EMC)
obrabiarki skrawające
urządzenia mechatroniczne
zakłócenia elektromagnetyczne
Opis:
The production of cutting machines requires standards to be kept at a much higher level than the production of most typical utility products. One of these conditions for the operational correctness of machine tools is the emissivity of interfering signals and resistance to external electromagnetic interference. International standards set boundary conditions for these issues. This part of the paper presents the characteristics of disturbances that may occur in this area. The use of mechatronic devices in the construction of machine tools, as well as electronic components requires adaptation of laboratory research capabilities in accordance with these standards.
Produkcja obrabiarek skrawających wymaga zachowania standardów na znacznie wyższym poziomie niż produkcja większości typowych produktów użytkowych. Jednym z tych uwarunkowań poprawności użytkowej obrabiarek jest emisyjność sygnałów zakłócających i odporność na zewnętrzne zakłócenia elektromagnetyczne. W standardach międzynarodowych określono warunki graniczne dotyczące tych zagadnień. W tej części opracowania przedstawiono charakterystykę zakłóceń jakie w tym obszarze mogą wystąpić. Stosowanie w budowie obrabiarek urządzeń mechatronicznych, a także podzespołów i elementów elektronicznych wymaga dostosowania możliwości badawczych laboratoriów odpowiednio do tych standardów.
Źródło:
Obróbka Metalu; 2018, 1; 24-29
2081-7002
Pojawia się w:
Obróbka Metalu
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Badania kompatybilności elektromagnetycznej elektrycznych i elektronicznych instalacji obrabiarek. Cz 3 Sposoby pomiarów
Testing of electrical and electronic installation of machine tool for electromagnetic (EMC) interferences. Part III: Measurements methods
Autorzy:
Łakomiec, K.
Spadło, S.
Duś-Spadło, J.
Mijas, R.
Serwicki, T.
Skowron, E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/404389.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Wydawnictwo AWART
Tematy:
machine tool
electronic installation
electromagnetic immunity (EMC)
EMC measurement methods
EMC (kompatybilność elektromagnetyczna)
zakłócenia elektromagnetyczne
wyładowania elektrostatyczne
Opis:
W trzeciej części opracowania przedstawiono sposoby realizacji pomiarów podczas badań kompatybilności elektromagnetycznej układów elektrycznych obrabiarek skrawających. Poprawnie przeprowadzone pomiary są warunkiem uzyskania wiarygodnej oceny tej cechy obrabiarek. Pomiary te w dużej mierze są znormalizowane, a w artykule podano aktualne dokumenty z tego zakresu.
This part of the paper presents the methods of measurements implementation during electromagnetic compatibility tests of electrical systems of machine tools. Correctly carried out measurements are a prerequisite for obtaining a reliable assessment of this feature of machine tools. These measurements are largely standardized, and the article gives current documents in this field.
Źródło:
Obróbka Metalu; 2018, 2; 50-55
2081-7002
Pojawia się w:
Obróbka Metalu
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-9 z 9

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies