Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Demianenko, A." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
High Temperature Annealing of Ion-Plasma Nanostructured Coatings Based on $AlN-TiB_2(TiSi_2)$
Autorzy:
Pogrebnjak, A.
Abadias, G.
Bondar, O.
Sobol, O.
Beresnev, V.
Pshyk, A.
Demianenko, A.
Belovol, K.
Kolesnikov, D.
Komsta, H.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1365953.pdf
Data publikacji:
2014-06
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.60.Dv
68.37.-d
62.20.-x
Opis:
The coatings investigated in this paper were deposited via the magnetron sputtering of $AlN-TiB_2-Ti-Si_2$ target in Ar atmosphere. The investigation of structural-phase composition, element composition, morphology and mechanical properties before and after annealing up to 1350°C was carried out. The concentration of elements in the coating was changed after annealing at 900°C and further annealing at 1350°C (especially after annealing at 1350°C). The hardness of as-deposited coatings was 15 GPa, but after annealing at 1350°C the value of hardness increased up to 22÷23.5 GPa. The value of the viscoplastic index was 0.07. All this provide high damping properties of the coating, and amorphous-like structure makes promising the use of these coatings as diffusion barriers in the form of independent elements, and as a contacting layer in multilayer wear resistant coatings.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2014, 125, 6; 1284-1287
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies