Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "warstwa buforowa" wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
Badanie heterostruktur związków AIIIN zawierających warstwy ultracienkie
The investigation of heterostructures based on AIIIN compounds with ultra thin crystalline layers
Autorzy:
Wójcik, M.
Gaca, J.
Turos, A.
Strupiński, W.
Caban, P.
Borysiuk, J.
Pathak, A. P.
Sathish, N.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/192320.pdf
Data publikacji:
2008
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:
heterostruktura
AIIIN
warstwa buforowa
XRD
heterostructure
buffer layer
Opis:
Niedopasowanie sieciowe pomiędzy szafirowym podłożem i warstwą epitaksjalną GaN prowadzi do powstawania naprężeń i dyslokacji niedopasowania. Jest ono także główną przyczyną trudności, na jakie napotyka wzrost epitaksjalny warstw związków AIIIN. Próby rozwiązania tego problemu polegają m.in. na stosowaniu warstwy buforowej [1-3]. Niekiedy może ona zawierać supersieć o bardzo krótkiej fali modulacji składu chemicznego, która obniża gęstość dyslokacji, a także poprawia strukturę docelowej warstwy epitaksjalnej [4-5]. W artykule prezentowane są wyniki badań systemów epitaksjalnych związków AIIIN, odkładanych na podłożu szafirowym o orientacji 001, dotyczące struktury warstw AlN, AlGaN oraz GaN o bardzo małej grubości, a także cech budowy krystalicznej warstwy buforowej i jej wpływu na wzrost i strukturę docelowej warstwy epitaksjalnej GaN.
The lattice misfit between Al2O3 substrate and epitaxial GaN layer generates stresses and numerous misfit dislocations. This leads to difficulties in the epitaxial growth of the GaN layer. The attempts to resolve this growth problems consist in employing the buffer layer with the ultra thin period AlGaN/GaN superlattice. This superlattice is expected to reduce the dislocations density and improve the structure of epitaxial GaN layer. In this work we present the results of the investigation of the structure of AlGaN/GaN superlattice used as a buffer layer on the crystalline and chemical order of the extremely thin AlN, GaN and AlGaN layers
Źródło:
Materiały Elektroniczne; 2008, T. 36, nr 4, 4; 61-84
0209-0058
Pojawia się w:
Materiały Elektroniczne
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Influence of austenitic interlayer on the properties of stellite padding welds after impact-hardening
Ocena wpływu międzywarstwy austenitycznej na właściwości napoin stellitowych utwardzonych udarowo
Autorzy:
Henzler, Weronika
Sawa, Mateusz
Trębicki, Przemysław
Szala, Mirosław
Winiarski, Grzegorz
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1819232.pdf
Data publikacji:
2021
Wydawca:
Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
Tematy:
stellit
napawanie TIG
warstwa buforowa
twardość
umocnienie udarowe
młot resorowy
stellite
TIG cladding
interlayer
hardness
impact hardening
spring hammer
Opis:
Stellites (Co-Cr-W-C) are the specific group of coating materials used for surface modification of the engineering materials and for remanufacturing. The aim of the paper was to research the influence of austenitic (308LSi) interlayer on hardening rate of stellite 1 and stellite 6 after impact hardening. The samples have been cladded by TIG welding method with interlayer and without. Before impact hardening the samples have been visually and penetrant non-destructive tested. The samples after impact hardening have been tested by metallographic and Vickers hardness methods. The highest impact hardening effect have been revealed for coatings deposited with interlayer. The highest impact hardening effect was achieved for the padding welds produced with the interlayer, i.e. for stellite 1 (increased by 29.8%) and stellite 6 (increased by 42.7%). The hardening of the coating samples deposited without interlayer was lower and amounted to stellite 1 (increased by 13.7%) and stellite 6 (increased by 29.8%) respectively. The highest hardness values were obtained for impact-hardened cladded welds without the use of an interlayer (stellite 1; 790 HV0.1 and stellite 6; 732 HV0.1). The use of an interlayer reduces the hardness of the stellite coating while increasing the susceptibility to hardening and plastic deformation of the produced coating.
Stellity (Co-Cr-W-C) stanowią grupę materiałów stosowanych do napawania produkcyjnego i regeneracyjnego. Celem pracy było zbadanie wpływu międzywarstwy austenitycznej (308LSi) na stopień umocnienia się napoin stellitowych (stellit 1 i stellit 6), poddanych działaniu obciążeń udarowych. Próbki napawano metodą TIG z zastosowaniem międzywarstwy oraz bez udziału międzywarstwy. Po przeprowadzeniu badań wizualnych i penetracyjnych próbki zostały poddane utwardzeniu udarowemu. Wykonano badania metalograficzne oraz badania mikrotwardości sposobem Vickersa. Największe utwardzenie udarowe uzyskano dla napoin wytworzonych z międzywarstwą, tj. dla stellitu 1: 29.8% i stellitu 6: 42.7%. Utwardzenie próbek napawanych bez międzywarstwy było niższe i wynosiło kolejno dla stellitu 1: 13.7% i stellitu 6: 29.8%. Najwyższe wartości twardości uzyskano dla napoin utwardzanych udarowo bez zastosowania międzywarstwy (stellit 1; 790 HV0,1 i stellit 6; 732 HV0,1). Zastosowanie międzywarstwy obniża mikrotwardość powłoki stellitowej jednocześnie zwiększając podatność do umocnienia i odkształcenia plastycznego wytworzonej powłoki.
Źródło:
Welding Technology Review; 2021, 93, 2; 13--20
0033-2364
2449-7959
Pojawia się w:
Welding Technology Review
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Badania nad technologią otrzymywania cienkich warstw emitera metodą rozpylania magnetronowego dla zastosowań w ogniwach CIGS
Research on the technology of obtaining thin layers of emitter in CIGS photovoltaic cells by using magnetron sputtering process
Autorzy:
Pietraszek, J.
Gułkowski, S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/105005.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Politechnika Rzeszowska im. Ignacego Łukasiewicza. Oficyna Wydawnicza
Tematy:
CIGS
CdS
warstwa buforowa
ogniwa fotowoltaiczne
kąpiel chemiczna
CBD
rozpylanie magnetronowe
ogniwa cienkowarstwowe
buffer layer
photovoltaic cells
chemical bath deposition
magnetron sputtering
thin film cell
Opis:
Cienkowarstwowe ogniwa fotowoltaiczne wykonane na bazie struktury CIGS (mieszaniny pierwiastków miedzi, indu, galu oraz selenu) należą do II generacji ogniw fotowoltaicznych. Wykazują one efektywność na poziomie zbliżonym do ogniw I generacji, lecz ze względu na niższe zużycie materiału, coraz częściej wypierają z rynku ogniwa krzemowe Artykuł przedstawia rezultaty badań dotyczących sposobu otrzymywania warstwy buforowej CdS (siarczku kadmu), zastosowanej w cienkowarstwowych ogniwach fotowoltaicznych typu CIGS. Przyjęto dwa rozwiązania technologii nanoszenia: warstwa okna CdS uzyskana metodą rozpylenia magnetronowego oraz warstwa okna CdS uzyskana metodą kąpieli chemicznej (CBD– Chemical Bath Deposition). Struktura ta powinna posiadać odpowiednią wielkość przerwy energetycznej, która pozwali na większą absorpcję fotonów, a także wymaga się, aby była cienka (mniej niż 100 nm) i jednolita. Warstwy CdS zostały nałożone przez osadzanie w kąpieli chemicznej CBD na szklanych podłożach pokrytych Mo/CIGS (naniesione warstwy metodą sputteringu magnetronowego). Uzyskano dzięki temu warstwę emitera o grubości 80 nm po czasie osadzania 35 minut. Dla porównania warstwy CdS zostały nałożone poprzez sputtering magnetronowy na podłożu Mo/CIGS, uzyskanym tą samą metodą. Następnie oba rozwiązania zostały przebadane pod względem morfologii powierzchni na elektronowym mikroskopie skaningowym, jak również przeprowadzono analizy składu pierwiastkowego warstw. Zarówno jedna, jak i druga metoda prowadzi do otrzymania warstwy emitera CdS dla zastosowań w ogniwach CIGS.
Thin-film photovoltaic cells created based on the structure of CIGS (a mixture of the elements copper, indium, gallium and selenium) belong to the second generation of photovoltaic cells. They show the effectiveness of a level similar to the cells of the first generation, but due to lower material consumption, they increasingly forcing out silicon solar cells. The article presents the results of research of the method for obtaining a CdS buffer layer, used in thin-film CIGS photovoltaic cells. Two technology solutions of application were adopted: layer of CdS window obtained by the magnetron sputtering and layer of CdS obtained by chemical method (CBD- Chemical Bath Deposition). CdS layer has been imposed by the deposition in the chemical bath on glass substrates covered with Mo/CIGS (layers applied by magnetron sputtering). Allowing an emitter layer having a thickness of 80 cm after 35 minutes of deposition time. For comparison, a CdS layer was applied by magnetron sputtering on the substrate Mo/CIGS obtained by the same method. Subsequently, both solutions were examined in the SEM microscope to check the surface morphology, and also to analysis the elemental composition of the layers. Both methods leads to receive CdS emitter layer for use in CIGS cells.
Źródło:
Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury; 2017, 64, 1; 173-180
2300-5130
2300-8903
Pojawia się w:
Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies