Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "układ polaryzacji" wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Analiza wrażliwościowa spektrometru mas z innowacyjnym układem polaryzacji źródła elektronów
Sensitivity analysis of mass spectrometer with innovative biasing system ofin an electron source
Autorzy:
Sikora, J.
Szczepaniak, L.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/155334.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
Tematy:
wrażliwość
spektrometr mas
układ polaryzacji
prąd emisji elektronowej
napięcie przyśpieszające
sensitivity
mass spectrometer
biasing system
ion current
electron emission current
accelerating voltage
Opis:
Praca prezentuje wyniki badań wrażliwości spektrometru mas z nowatorskim układem polaryzacji źródła elektronów, zapewniającym niezależny dobór natężenia prądu emisji elektronowej i napięcia przyśpieszającego elektrony. Dzięki takiemu rozwiązaniu możliwe jest wyznaczenie wrażliwości natężenia prądu jonowego niezależnie względem natężenia prądu emisji elektronowej i napięcia przyśpieszającego elektrony. Badania objęły również pozostałe charakterystyki spektrometru mas oraz wrażliwości natężenia prądu jonowego względem ciśnienia i napięcia przyspieszającego jony. Wyniki potwierdzają zalety nowego rozwiązania w spektrometrze mas.
The sensitivity measurement results of a mass spectrometer (Fig. 1) with an innovative biasing system in an electron source [1] are presented. The biasing system ensures that an accelerating voltage and an electron emission current are independent of each other. Owing to that, the sensitivity of an ion current versus the electron emission current (Fig. 2), and independently versus the electron accelerating voltage (Fig. 3) can be determined. The researches included the determination of the mass spectrometer characteristics and sensitivity of the ion current in function of a pressure (Fig. 4.) and the ion current in function of an ion accelerating voltage (Fig. 5, Fig. 6). The results confirm that new biasing system is highly suitable for the mass spectrometer.
Źródło:
Pomiary Automatyka Kontrola; 2012, R. 58, nr 3, 3; 256-259
0032-4140
Pojawia się w:
Pomiary Automatyka Kontrola
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Układ do precyzyjnego zasilania magnetronowych źródeł plazmy
Precision power supply for magnetron plasma source
Autorzy:
Gospodarczyk, A.
Majcher, A.
Mrozek, M.
Przybylski, J.
Neska, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/256822.pdf
Data publikacji:
2011
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
zasilacz
magnetronowe źródło plazmy
zasilacz polaryzacji podłoża
zasilacz impulsowy
przetwornica mocy DC/DC
power supply
magnetron plasma source
bias power supply
switched power supply
high power DC/DC converter
Opis:
W artykule przedstawiono opracowany w ITeE - PIB układ do precyzyjnego zasilania magnetronowych źródeł plazmy z układem szybkiej reakcji na dynamiczne zmiany parametrów wyjściowych. Przeprowadzono badania opracowanego zasilacza. Wykorzystano w nich autorski symulator mikrozwarć, który umożliwia efektywne testowanie modułu blokowania mikrozwarć na wyjściu zasilacza. Opracowaną konstrukcję charakteryzuje szybka odpowiedź na dynamiczne zmiany obciążenia oraz duża rozdzielczość regulacji przebiegu wyjściowego, co zapewnia właściwą pracę w urządzeniach technologicznych przeznaczonych m.in. do konstytuowania powłok nanometrycznych oraz powłok kompozytowych o dokładnie określonym składzie.
The paper presents, developed in ITeE - PIB, precision power supply with fast response to dynamic change in output parameters for magnetron plasma source . Investigation of this power supply are described. Used in them original micro short circuit simulator, which allows efficient testing of the short circuit block output module of the power supply. The designed device is characterized by fast dynamic response to load changes and high resolution output. It allows proper operation of technological equipment for such processes as the constitution of the nano-scale coatings and composite coatings with a well defined composition.
Źródło:
Problemy Eksploatacji; 2011, 4; 149-159
1232-9312
Pojawia się w:
Problemy Eksploatacji
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies