Układ do precyzyjnego zasilania magnetronowych źródeł plazmy

W artykule przedstawiono opracowany w ITeE - PIB układ do precyzyjnego zasilania magnetronowych źródeł plazmy z układem szybkiej reakcji na dynamiczne zmiany parametrów wyjściowych. Przeprowadzono badania opracowanego zasilacza. Wykorzystano w nich autorski symulator mikrozwarć, który umożliwia efektywne testowanie modułu blokowania mikrozwarć na wyjściu zasilacza. Opracowaną konstrukcję charakteryzuje szybka odpowiedź na dynamiczne zmiany obciążenia oraz duża rozdzielczość regulacji przebiegu wyjściowego, co zapewnia właściwą pracę w urządzeniach technologicznych przeznaczonych m.in. do konstytuowania powłok nanometrycznych oraz powłok kompozytowych o dokładnie określonym składzie.

The paper presents, developed in ITeE - PIB, precision power supply with fast response to dynamic change in output parameters for magnetron plasma source . Investigation of this power supply are described. Used in them original micro short circuit simulator, which allows efficient testing of the short circuit block output module of the power supply. The designed device is characterized by fast dynamic response to load changes and high resolution output. It allows proper operation of technological equipment for such processes as the constitution of the nano-scale coatings and composite coatings with a well defined composition.