Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Wieteska, M." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-15 z 15
    Tytuł:
    Interference Fringes in the Plane Wave Topographic Images of Growth Bands in Si:Ge
    Autorzy:
    Wieteska, K.
    Wierzchowski, W.
    Graeff, W.
    Lefeld-Sosnowska, M.
    Regulska, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/2030662.pdf
    Data publikacji:
    2002-05
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.72.Ff
    Opis:
    An Si:Ge crystal with approximately 3% of germanium was studied with strongly collimated short-wavelength monochromatic synchrotron beam (beamline E2 at HASYLAB). The topographs obtained in the asymmetric 224 reflection revealed the presence of interference fringes related to growth bands caused by segregation of germanium. The fringes, observed for the first time, were strongly dependent on the angular setting and it was possible to distinguish at least three systems of fringes. A number of features of the existing strain field, which may be important for the formation of the fringes, was determined using other topographic methods, especially the Bragg-case section topography.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2002, 101, 5; 729-734
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    White Beam Synchrotron Topographic Characterisation of Silicon Wafers Directly Bonded by Oxide Layer
    Autorzy:
    Wierzchowski, W.
    Wieteska, K.
    Graeff, W.
    Gawlik, G.
    Pawłowska, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/2011029.pdf
    Data publikacji:
    1999-08
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.10.Yh
    68.35.-p
    Opis:
    Various types of layer structures obtained by direct bonding of oxidised silicon wafers were studied by means of different X-ray topographic methods using white synchrotron beam and the observation of selective etching pattern using scanning electron microscopy and optical microscopy with Nomarski contrast. In the present investigation the particularly important results were obtained with synchrotron section topography, which revealed different defects caused by bonding of thick wafers, in particular the dislocations and microcracks. The different situation was observed in the case of bonding with a very thin layer separated from a silicon substrate by high dose proton implantation. In this case a thin layer accommodated practically all induced strain and the bonded oxidised thick substrate remained defect-free in its inner volume.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 1999, 96, 2; 283-288
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Poprawa jakości polerowanych płytek SiC metodą chemicznego utleniania i obróbki termicznej. Badania jakości powierzchni metodami rentgenowskimi
    Improvement of the quality of SiC wafers polished using chemical oxidation and heat treatment. Examination of the quality of the surface using X-ray techniques
    Autorzy:
    Sakowska, H.
    Mazur, K.
    Teklińska, D.
    Wierzchowski, W.
    Wieteska, K.
    Gała, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/192399.pdf
    Data publikacji:
    2012
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
    Tematy:
    SiC
    utlenianie katalityczne
    polerowanie
    catalytic oxidation
    polishing
    Opis:
    W artykule przedstawiono wyniki badań wpływu utleniania chemicznego i wygrzewania na poprawę jakości polerowanej, krzemowej, powierzchni płytek SiC. Do chemicznego utleniania zastosowano reakcję Fentona. Czynnikiem utleniającym były rodniki hydroksylowe (OH*) powstające z rozkładu nadtlenku wodoru (H2O2) w obecności jonów żelaza Fe(II). Uzyskano poprawę parametrów chropowatości przy określonych warunkach utleniania. Wygrzewanie płytek polerowanych standardowo, w odpowiednio dobranych warunkach, pozwoliło na uzyskanie chropowatości na poziomie atomowym Ra ∼ 0,1 nm oraz znaczną redukcję warstwy uszkodzonej. Jakość krystaliczną płytek badano przy użyciu metod rentgenograficznych: dyfraktometrii, topografii i reflektometrii. Pomiary gładkości powierzchni, przed i po obróbce badano przy pomocy mikroskopu optycznego z kontrastem Nomarskiego i mikroskopu sił atomowych AFM.
    Experimental results of chemical oxidation and thermal annealing and their influence on the improvement of the quality of the polished surface of silicon carbide (SiC) wafers have been presented. The Fenton process was used in the process of chemical oxidation. Hydroxyl radicals (OH*) generated during the decomposition of a hydrogen peroxide (H2O2) solution were the oxidizing agents. The quality of the roughness parametres was improved. After thermal annealing in vacuum at T 900°C a very smooth surface was obtained, subsurface damaged layers were reduced, with Ra ∼ 0,1 nm. Both the crystallographic quality and roughness of the layers were investigated using X-ray methods. The surface smoothness before and after processing was measured using an atomic force microscope (AFM) and an optical microscope.
    Źródło:
    Materiały Elektroniczne; 2012, T. 40, nr 2, 2; 3-10
    0209-0058
    Pojawia się w:
    Materiały Elektroniczne
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Conventional and Synchrotron X-Ray Topography of Defects in the Core Region of $SrLaGaO_4$
    Autorzy:
    Malinowska, A.
    Lefeld-Sosnowska, M.
    Wieteska, K.
    Wierzchowski, W.
    Pajączkowska, A.
    Graeff, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1812255.pdf
    Data publikacji:
    2008-08
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.72.Ff
    61.72.Nn
    61.72.Lk
    61.72.Qq
    Opis:
    $SrLaGaO_4$ single crystals are perspective substrate materials for high temperature superconductors thin films, elements of thermal radiation receivers and other electronic devices. The defect structure of the Czochralski grown $SrLaGaO_4$ crystal was investigated by means of X-ray topography exploring both conventional and synchrotron sources. The crystal lattice defects in the core region of the crystal were investigated. The regular network of defects arranged in rows only in ⟨100⟩ direction was observed. Owing to high resolution of synchrotron radiation white beam back reflection topographs one can distinguish individual spots forming the lines of the rows. It can be supposed that these elongated rod-like volume defects are located in 100 lattice planes forming a kind of walls. They are built approximately of the same phase as crystal but crystallize at a different moment than a rest of the crystal due to the constitutional supercooling.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 2; 433-438
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Investigation of oxide crystals by means of synchrotron and conventional X-ray diffraction topography
    Badanie monokryształów tlenkowych za pomocą synchrotronowej i konwencjonalnej rentgenowskiej topografii dyfrakcyjnej
    Autorzy:
    Wierzchowski, W.
    Malinowska, A.
    Wieteska, K.
    Wierzbicka, E.
    Mazur, K.
    Lefeld-Sosnowska, M.
    Świrkowicz, M.
    Łukasiewicz, T.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/192397.pdf
    Data publikacji:
    2016
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
    Tematy:
    X-ray diffraction topography
    crystal lattice defects
    Czochralski method
    dyfrakcyjna topografia rentgenowska
    defekty sieci krystalicznej
    metoda Czochralskiego
    Opis:
    X-ray diffraction topography, exploring both conventional and synchrotron sources of X-rays, has been widely used for the investigation of the structural defects in crystals of oxides. The majority of bulk oxide crystals have been grown by the Czochralski method from a melted mixture of high purity oxides. Some important oxide crystals like quartz and ZnO have been obtained by the hydrothermal method. In the case of crystals grown by the first method, synchrotron diffraction topography can be and was used for studying individual dislocations and their complexes (e.g. glide bands, sub-grain boundaries), individual blocks, twinning, the domain structure and various segregation effects negatively affecting crystal properties. What is more, the topographical investigation can provide information concerning the reasons for the generation of the defects, which becomes useful for improving the growth technology. In the present paper the possibilities of the diffraction topography are discussed on the basis of several investigations of the oxide crystals, in particular garnets, orthovanadates, mixed calcium barium and strontium niobates as well as praseodymium lanthanum aluminates. the majority of the results refer to oxide crystals grown at the Institute of Electronic Materials Technology (ITME). The synchrotron investigations included in the paper were performed by the authors at the HASYLAB Synchrotron Laboratory in Hamburg.
    Rentgenowska topografia dyfrakcyjna, wykorzystująca zarówno konwencjonalne, jak i synchrotronowe źródła promieniowania rentgenowskiego, jest od wielu lat z powodzeniem stosowana do badania defektów strukturalnych w różnego rodzaju monokryształach. Szeroką grupę tych materiałów stanowią kryształy tlenkowe, które w większości są otrzymywane metodą Czochralskiego ze stopionej mieszaniny tlenków o wysokiej czystości. Do otrzymywania kryształów tlenków, takich jak kwarc i ZnO, stosuje się metodę hydrotermalną. rentgenowska topografia dyfrakcyjna może być wykorzystana do badania indywidualnych dyslokacji i ich kompleksów (np. pasma poślizgowe, granice niskokątowe), pojedynczych bloków, zbliźniaczeń, struktury domenowej i różnych efektów segregacyjnych. Wszystkie te defekty mogą wpływać negatywnie na jednorodność i właściwości kryształów. Badania topograficzne mogą również dostarczyć informacji dotyczących przyczyn powstawania defektów, co przydatne jest w doskonaleniu technologii. W niniejszej pracy omówiono możliwości topografii dyfrakcyjnej na podstawie przeprowadzonych badań szeregu kryształów tlenkowych, w szczególności granatów, ortowanadianów, mieszanych niobianów wapnia, baru i strontu oraz glinianów prazeodymu i lantanu. Większość wyników dotyczy monokryształów tlenków otrzymywanych w Instytucie Technologii Materiałów Elektronicznych (ITME). uwzględnione badania synchrotronowe zostały przeprowadzone przez autorów w Laboratoriom Synchrotronowym HASYLAB w Hamburgu.
    Źródło:
    Materiały Elektroniczne; 2016, T. 44, nr 4, 4; 17-32
    0209-0058
    Pojawia się w:
    Materiały Elektroniczne
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Defect Structure Formed at Different Stages οf Growth Process in Erbium, Calcium and Holmium Doped $YVO_{4}$ Crystals
    Autorzy:
    Malinowska, A.
    Wierzbicka, E.
    Lefeld-Sosnowska, M.
    Wieteska, K.
    Wierzchowski, W.
    Łukasiewicz, T.
    Świrkowicz, M.
    Graeff, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1538950.pdf
    Data publikacji:
    2010-02
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.72.Ff
    Opis:
    The defect structure of $YVO_{4}$ single crystals doped with $Er^{3+},$ $Ho^{3+}$ and $Ca^{2+}$ were studied by X-ray diffraction topographic methods, using laboratory and synchrotron radiation sources. Variously developed block structure was the dominating imperfection of the investigated crystals observed both in conventional Lang and synchrotron topographs. The evaluation of block misorientation was realised by means of superimposed projection and section white beam synchrotron radiation topographs. More possibilities of following the mutual rotation of blocks were provided by means of white beam synchrotron radiation WBSR projection topographs exposed through the fine mesh.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2010, 117, 2; 328-331
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Characterisation of the Defect Structure in Gadolinum Orthovanadate Single Crystals Grown by the Czochralski Method
    Autorzy:
    Wierzbicka, E.
    Malinowska, A.
    Wieteska, K.
    Wierzchowski, W.
    Lefeld-Sosnowska, M.
    Świrkowicz, M.
    Łukasiewicz, T.
    Paulmann, C.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1431600.pdf
    Data publikacji:
    2012-04
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.72.Ff
    Opis:
    The $GdVO_4$ single crystals, both undoped and doped with erbium or thulium, were studied by means of X-ray diffraction topographic methods exploring laboratory and synchrotron radiation sources. Variously developed block structure, caused probably by thermal stresses, was revealed. The highest crystallographic perfection was observed in the crystal doped with 4 at.% of thulium, which was free of the grain boundaries in the end part. Contrary to that, the differences in structural perfection between samples cut out from various regions of the crystal and for different kinds of doping, were less distinct in other crystals. The diffraction topographic methods enabled the statement that the misorientation between various blocks is in the range of several arc minutes.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2012, 121, 4; 906-909
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Composition and Structure of Czochralski Silicon Implanted with $H_{2}^{+}$ and Annealed under Enhanced Hydrostatic Pressure
    Autorzy:
    Kulik, M.
    Kobzev, A.
    Misiuk, A.
    Wierzchowski, W.
    Wieteska, K.
    Bak-Misiuk, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1538976.pdf
    Data publikacji:
    2010-02
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.72.U-
    61.72.uf
    66.10.C-
    61.80.Jh
    81.20.-n
    82.80.Yc
    85.40.-e
    Opis:
    Depth distribution of implanted species and microstructure of oxygen-containing Czochralski grown silicon (Cz-Si) implanted with light ions (such as $H^{+}$) are strongly influenced by hydrostatic pressure applied during the post-implantation treatment. Composition and structure of Si:H prepared by implantation of Cz-Si with $H_{2}^{+}$; fluence D = 1.7 × $10^{17} cm^{-2}$, energy E = 50 keV (projected range of $H_{2}^{+}$, $R_{p}(H)$ = 275 nm), processed at up to 923 K under Ar pressure up to 1.2 GPa for up to 10 h, were investigated by elastic recoil detection Rutherford backscattering methods and the depths distributions of implanted hydrogen and also carbon, oxygen and silicon in the near surface were determined for all samples. The defect structure of Si:H was also investigated by synchrotron diffraction topography at HASYLAB (Germany). High sensitivity to strain associated with small inclusions and dislocation loops was provided by monochromatic (λ = 0.1115 nm) beam topography. High resolution X-ray diffraction was also used.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2010, 117, 2; 332-335
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    X-Ray Topographic Studies of Defect Structure in $YVO_4$ Crystals
    Autorzy:
    Wieteska, K.
    Wierzchowski, W.
    Łukasiewicz, T.
    Wierzbicka, E.
    Malinowska, A.
    Lefeld-Sosnowska, M.
    Graeff, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1812259.pdf
    Data publikacji:
    2008-08
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.72.Ff
    Opis:
    The perfection of $YVO_4$ crystals, which are predicted to replace formerly used YAG garnets due to higher quantum efficiency and lower excitation level, was studied. The investigations of Czochralski grown undoped $YVO_4$ single crystals were performed mainly by means of X-ray topographic methods. Both synchrotron and conventional X-ray sources were used. The study revealed relatively high density of weak point-like contrasts which can be most probably interpreted as dislocation outcrops. In regions of the crystal close to its boundary we observed glide bands. It was also found that in some regions the dislocations form local subgrain boundaries. The white beam back reflection and monochromatic beam topography allowed to evaluate a local misorientation which not exceeded several angular minutes. No segregation fringes were observed proving a good homogeneity of chemical composition.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 2; 455-461
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Synchrotron Diffraction topography in Studying of the Defect Structure in Crystals Grown by the Czochralski Method
    Autorzy:
    Wierzchowski, W.
    Wieteska, K.
    Malinowska, A.
    Wierzbicka, E.
    Lefeld-Sosnowska, M.
    Świrkowicz, M.
    Łukasiewicz, T.
    Pajączkowska, A.
    Paulmann, C.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1399483.pdf
    Data publikacji:
    2013-08
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.72.Ff
    Opis:
    The synchrotron diffraction topography had been widely used for investigation of the structural defects in crystals grown by the Czochralski method. Similarly as conventional diffraction topography, the synchrotron topography consists in recording with high spatial resolution of the beam formed by the Bragg reflection from the crystal. The advantages of synchrotron sources come from the possibilities of using the wavelength from a wide spectral range, improved high spatial resolution and collimation of the beam as well as from shortening the time necessary for the investigation. The synchrotron diffraction topography includes experimentally simpler white beam topography and more complicated monochromatic beam (multicrystal) topography, where the beam is formed by monochromators. In the case of Czochralski-grown crystals the synchrotron diffraction topography can be used for studying of the individual dislocations and their complexes such as glide bands or sub-grain boundaries, individual blocks, twinning, the domain structure and various segregation effects negatively affecting crystal properties. In addition, the topographical investigation can provide information concerning the reasons for the generation of defects, useful in the improving of the technology. In the present paper the possibilities of the synchrotron diffraction topography are discussed on the basis of several investigations of the Czochralski-grown oxide and semiconductor crystals, performed by the authors at HASYLAB. The majority of the results concern the oxide crystals grown at the Institute of Electronic Materials Technology, in particular garnets, orthovanadates, mixed calcium barium and strontium niobates as well as praseodymium lanthanum aluminates.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2013, 124, 2; 350-359
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    X-ray Topographic Investigations of Domain Structure in Czochralski Grown $Pr_{x}La_{1-x}AlO_{3}$ Crystals
    Autorzy:
    Wieteska, K.
    Wierzchowski, W.
    Malinowska, A.
    Turczyński, S.
    Lefeld-Sosnowska, M.
    Pawlak, D.
    Łukasiewicz, T.
    Graeff, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1538809.pdf
    Data publikacji:
    2010-02
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    81.05.-t
    81.10.Dn
    61.72.Ff
    Opis:
    In the present paper X-ray diffraction topographic techniques were applied to a number of samples cut from Czochralski grown $Pr_{x}La_{1-x}AlO_{3}$ crystals with different ratio of praseodymium and lanthanum. Conventional and synchrotron X-ray topographic investigations revealed differently developed domain structures dependent on the composition of mixed praseodymium lanthanum aluminium perovskites. Some large mosaic blocks were observed together with the domains. In the best crystals, X-ray topographs revealed striation fringes and individual dislocations inside large domains. Synchrotron topographs allowed us to indicate that the domains correspond to three different crystallographic planes, and to evaluate the lattice misorientation between domains in the range of 20-50 arc min.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2010, 117, 2; 268-271
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Synchrotron Topographic Studies of Domain Structure in Czochralski Grown $Pr_xLa_{1-x}AlO_3$ and $Pr_xLa_{1-x-y}Mg_yAlO_3$ Crystals
    Autorzy:
    Wieteska, K.
    Wierzchowski, W.
    Malinowska, A.
    Turczyński, S.
    Lefeld-Sosnowska, M.
    Pawlak, D.
    Łukasiewicz, T.
    Paulmann, C.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1431651.pdf
    Data publikacji:
    2012-04
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    81.05.-t
    81.10.Dn
    61.72.Ff
    Opis:
    A domain structure and crystallographic defects in Czochralski grown single crystals of $Pr_xLa_{1-x}AlO_3$ and $Pr_xLa_{1-x-y}Mg_yAlO_3$ were characterised with a number of methods including conventional and synchrotron X-ray diffraction topography, and polariscopic micrography. The observed twin domain systems were located perpendicularly to 〈100〉$\text{}_\text{pcub}$ and 〈110〉$\text{}_\text{pcub} (pseudocubic) directions. It has been confirmed that the domains are of the same orientation and a twin character as those described in literature for $LaAlO_3$ and $LaGaO_3$ crystals. The use of section transmission topography enabled to indicate that the domains are perpendicular to the $(100)_\text{pcub}$ surface of the samples. The misorientation of lattice in the domains was evaluated from the white beam topographs and a tendency of its increase with increasing concentration of praseodymium was revealed.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2012, 121, 4; 910-914
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Properties of Si:V Annealed under Enhanced Hydrostatic Pressure
    Autorzy:
    Misiuk, A.
    Wierzchowski, W.
    Wieteska, K.
    Barcz, A.
    Bak-Misiuk, J.
    Chow, L.
    Vanfleet, R.
    Prujszczyk, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1504150.pdf
    Data publikacji:
    2011-07
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.72.Dd
    61.72.uf
    64.75.Qr
    66.30.Xj
    81.40.Xj
    Opis:
    It is known that processing of silicon implanted with vanadium, Si:V, at high temperature-pressure, HT-HP, can lead to magnetic ordering within the V-enriched area. New data concerning structure of Si:V (prepared using $V^{+}$ doses, D = (1-5) × $10^{15} cm^{-2}$, and energy, E = 200 keV), as implanted and processed for up to 10 h at HT ≤ 1400 K under enhanced hydrostatic pressure, HP ≤ 1.1 GPa, are presented. In effect of implantation, amorphous (a-Si) area is produced near range of implanted species. Transmission electron microscopy, secondary ion mass spectrometry, X-ray, and synchrotron methods were used for sample characterisation. At HT-HP the a-Si layer is subjected to solid phase epitaxial re-growth. Depending on HP, distinct solid phase epitaxial re-growth and formation of $VSi_2$ are observed at HT ≥ 720 K. HP applied at processing results in the improved solid phase epitaxial re-growth in Si:V. This can be related, among others, to the effect of HP on diffusivity of $V^{+}$ and of implantation-induced point defects. Our results can be useful for development of the new family of diluted magnetic semiconductors.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 1; 196-199
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Wzrost monokryształów molibdenianu wapnia domieszkowanych jonami ziem rzadkich (CaMoO4 : RE) do badań w zakresie immobilizacji odpadów radioaktywnych
    Single crystal growth of calcium molybdate doped with rare earth ions (CaMoO4 : RE) for investigation of nuclear waste immobilisation
    Autorzy:
    Świrkowicz, M.
    Szyrski, W.
    Kisielewski, J.
    Wieteska, K.
    Wierzchowski, W.
    Malinowska, A.
    Wierzbicka, E.
    Karaś, A.
    Jurkiewicz-Wegner, E.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/192090.pdf
    Data publikacji:
    2013
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
    Tematy:
    metoda Czochralskiego
    molibdeniany
    materiały scyntylacyjne
    immobilizacja odpadów radioaktywnych
    ziemie rzadkie
    ICP-OES
    topografia synchrotronowa
    Czochralski method
    molybdates
    scintillator materials
    immobilisation of nuclear waste
    rare earths
    synchrotron topography
    Opis:
    Stosując metodę Czochralskiego oraz układ cieplny z tyglem platynowym o średnicy 55 mm i wysokości 55 mm oraz biernym dogrzewaczem platynowym uzyskano monokryształy CaMoO4 niedomieszkowane i domieszkowane europem, neodymem oraz jednocześnie europem i neodymem o średnicy do 25 mm i długości do 90 mm. Szybkość wzrostu zawarta była w zakresie 1,5 - 3,0 mm/h, a szybkość obrotowa 10 - 15 obr./min. Pierwsze procesy wzrostu przeprowadzono stosując niezorientowane zarodki z CaWO4 (National Institute of Standards and Technology, USA). W oparciu o otrzymane monokryształy przygotowano zarodki o orientacji [001]. Przeprowadzono badania dyfrakcyjne rentgenowskie, synchrotronowe topograficzne, właściwości optycznych i składu chemicznego. Określono współczynniki segregacji europu i neodymu (kEu ≈ 0,40, kNd ≈ 0,28). Stwierdzono, że w przypadku współdomieszkowania rośnie współczynnik segregacji neodymu a maleje europu (kEu ≈ 0,30 i kNd ≈ 0,32). Transmisja optyczna monokryształów silnie zależy od domieszki. W przypadku neodymu obserwuje się wyraźne i ostre pasma absorpcji. Monokryształy z europem wykazują silną absorpcję w zakresie widzialnym i bliskiej podczerwieni.
    Single crystals of CaMoO4 either undoped or doped with europium, neodymium and europium and at the same time with neodymium with a diameter of 25 mm and a length of up to 90 mm, were obtained using the Czochralski method and a thermal system with a platinum crucible 55 mm in diameter and 55 mm in height and a passive platinum afterheater. The growth rate was in the 1.5 - 3.0 mm/h range and the rotation rate varied between 10 and 15 r./min. At the beginning, the growth processes were carried out applying un-oriented CaWO4 seeds (from the National Institute of Standards and Technology, USA). Based on the resultant single crystals, [001] - oriented seeds were prepared. X-ray powder diffraction patterns, synchrotron topography, optical transmission and chemical compositions were measured. Segregation coefficients of europium and neodymium were determined to be kEu ≈ 0,40 and kNd ≈ 0,28 respectively. In the case of co-doping, the segregation coefficient of neodymium increases and that of europium decreases (kEu ≈ 0,30 and kNd ≈ 0,32). The optical transmission of single crystals strongly depends on the dopant. Sharp and narrow absorption bands are observed for neodymium, whereas single crystals with europium exhibit a strong absorption in the visible and near-infrared regions.
    Źródło:
    Materiały Elektroniczne; 2013, T. 41, nr 4, 4; 10-19
    0209-0058
    Pojawia się w:
    Materiały Elektroniczne
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Revealing the Defects Introduced in N- or Ge-doped Cz-Si by γ Irradiation and High Temperature-High Pressure Treatment
    Autorzy:
    Wieteska, K.
    Misiuk, A.
    Prujszczyk, M.
    Wierzchowski, W.
    Surma, B.
    Bąk-Misiuk, J.
    Romanowski, P.
    Shalimov, A.
    Capan, I.
    Yang, D.
    Graeff, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1812256.pdf
    Data publikacji:
    2008-08
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.05.c-
    61.72.-y
    61.82.-d
    Opis:
    Effect of processing under high hydrostatic pressure (= 1.1 GPa), applied at 1270 K, on Czochralski grown silicon with interstitial oxygen content $(c_O)$ up to $1.1×10^{18} cm^{-3}$, admixed with N or Ge (Si-N, c_N ≤ $1.2×10^{15} cm^{-3}$, or Si-Ge, $c_{Ge} ≈ 7×10^{17} cm^{-3}$, respectively), pre-annealed at up to 1400 K and next irradiated withγ-rays (dose, D up to 2530 Mrad, at energy E = 1.2 MeV), was investigated by high resolution X-ray diffraction, Fourier transform infrared spectroscopy, and synchrotron topography. Processing of γ-irradiated Si-N and Si-Ge under high pressure leads to stimulated precipitation of oxygen at the nucleation sites created by irradiation. It means that radiation history of Si-N and Si-Ge can be revealed by appropriate high temperature-high pressure processing.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 2; 439-446
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-15 z 15

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies