Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Bąk, K." wg kryterium: Wszystkie pola

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    Properties of Si:V Annealed under Enhanced Hydrostatic Pressure
    Autorzy:
    Misiuk, A.
    Wierzchowski, W.
    Wieteska, K.
    Barcz, A.
    Bak-Misiuk, J.
    Chow, L.
    Vanfleet, R.
    Prujszczyk, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1504150.pdf
    Data publikacji:
    2011-07
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.72.Dd
    61.72.uf
    64.75.Qr
    66.30.Xj
    81.40.Xj
    Opis:
    It is known that processing of silicon implanted with vanadium, Si:V, at high temperature-pressure, HT-HP, can lead to magnetic ordering within the V-enriched area. New data concerning structure of Si:V (prepared using $V^{+}$ doses, D = (1-5) × $10^{15} cm^{-2}$, and energy, E = 200 keV), as implanted and processed for up to 10 h at HT ≤ 1400 K under enhanced hydrostatic pressure, HP ≤ 1.1 GPa, are presented. In effect of implantation, amorphous (a-Si) area is produced near range of implanted species. Transmission electron microscopy, secondary ion mass spectrometry, X-ray, and synchrotron methods were used for sample characterisation. At HT-HP the a-Si layer is subjected to solid phase epitaxial re-growth. Depending on HP, distinct solid phase epitaxial re-growth and formation of $VSi_2$ are observed at HT ≥ 720 K. HP applied at processing results in the improved solid phase epitaxial re-growth in Si:V. This can be related, among others, to the effect of HP on diffusivity of $V^{+}$ and of implantation-induced point defects. Our results can be useful for development of the new family of diluted magnetic semiconductors.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 1; 196-199
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Defect Structure of Nitrogen Doped Czochralski Silicon Annealed under Enhanced Pressure
    Autorzy:
    Misiuk, A.
    Wierzchowski, W.
    Wieteska, K.
    Londos, C.
    Andrianakis, A.
    Bak-Misiuk, J.
    Yang, D.
    Surma, B.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1539028.pdf
    Data publikacji:
    2010-02
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.05.cp
    61.72.-y
    61.72.Ff
    61.72.uf
    62.50.-p
    Opis:
    Defect structure of Czochralski grown silicon (Cz-Si) with nitrogen admixture, c_{N} ≤ 5 × $10^{14} cm^{-3}$ (Cz-Si:N), annealed for up to 10 h at 1270-1400 K under hydrostatic Ar pressure ≤ 1.1 GPa, was investigated by synchrotron diffraction topography (HASYLAB, Germany), X-ray reciprocal space mapping, and infrared spectroscopy. Extended defects were not detected in Cz-Si:N processed at up to 1270 K. Such defects were created, however, in Cz-Si:N pre-annealed at 923 K and next processed at 1270 K or in as-grown Cz-Si:N processed at 1400 K. Investigation of temperature-pressure effects in nitrogen-doped silicon contributes to the understanding of defect formation in Cz-Si:N.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2010, 117, 2; 344-347
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Composition and Structure of Czochralski Silicon Implanted with $H_{2}^{+}$ and Annealed under Enhanced Hydrostatic Pressure
    Autorzy:
    Kulik, M.
    Kobzev, A.
    Misiuk, A.
    Wierzchowski, W.
    Wieteska, K.
    Bak-Misiuk, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1538976.pdf
    Data publikacji:
    2010-02
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.72.U-
    61.72.uf
    66.10.C-
    61.80.Jh
    81.20.-n
    82.80.Yc
    85.40.-e
    Opis:
    Depth distribution of implanted species and microstructure of oxygen-containing Czochralski grown silicon (Cz-Si) implanted with light ions (such as $H^{+}$) are strongly influenced by hydrostatic pressure applied during the post-implantation treatment. Composition and structure of Si:H prepared by implantation of Cz-Si with $H_{2}^{+}$; fluence D = 1.7 × $10^{17} cm^{-2}$, energy E = 50 keV (projected range of $H_{2}^{+}$, $R_{p}(H)$ = 275 nm), processed at up to 923 K under Ar pressure up to 1.2 GPa for up to 10 h, were investigated by elastic recoil detection Rutherford backscattering methods and the depths distributions of implanted hydrogen and also carbon, oxygen and silicon in the near surface were determined for all samples. The defect structure of Si:H was also investigated by synchrotron diffraction topography at HASYLAB (Germany). High sensitivity to strain associated with small inclusions and dislocation loops was provided by monochromatic (λ = 0.1115 nm) beam topography. High resolution X-ray diffraction was also used.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2010, 117, 2; 332-335
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies