Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "GaP" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-8 z 8
Tytuł:
Optimization of a Bandgap in the Ultrasonic Phononic Coating
Autorzy:
Garus, Sebastian
Sochacki, Wojciech
Garus, Justyna
Sandu, Andrei Victor
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2049725.pdf
Data publikacji:
2021
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
reflectance coating
mechanical waves
phononic crystal
band gap
optimization
Opis:
This work concerns the study of the coatings for the ultrasound frequency range as a quasi one-dimensional phononic crystal structure protecting a sea object against high resolution active sonar in the frequency range most commonly found for this type of equipment. The topology of the examined structure was optimized to obtain a band gap in the 2.2-2.3 MHz frequency band. For this purpose, a genetic algorithm was used, which allows for optimal distribution of individual elements of the ultrasound multilayer composite. By optimal distribution is meant to achieve a structure that will allow minimal reflectance in a given frequency range without height reflectance peaks with a small half width. Analysis of the wave propagation was made using the Transfer Matrix Method (TMM). As part of the research, 15 and 20-layer structures with reflectance at the level of 0.23% and 0.18%, respectively, were obtained. increasing the number of layers in the analyzed structures resulted in finding such a distribution in which a narrow band of low reflectance was obtained, such distributions could also be used as bandpass filters. The use of a genetic algorithm for designing allows to obtain modern coatings, the characteristics of which result from the structure.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2021, 66, 2; 537-542
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Gas Atmosphere Formed in Casting by Full Mold Process
Atmosfera gazowa występująca podczas wykonywania odlewów w technologii pełnej formy
Autorzy:
Mocek, J.
Chojecki, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/350844.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
casting
full mold
formation of the gap
odlew
pełna forma
powstawanie szczelin
Opis:
A test mold was designed to investigate the full mold process. Pressure changes in a gap developing between the pattern made of foamed polystyrene and the raising column of liquid alloy were determined. Studies were conducted pouring molds with cast iron and with AK11 silumin. It was found that pressure is significantly higher in the case of cast iron, due to a higher rate of pattern decomposition and more advanced dissociation of hydrocarbons. The increase in pressure was observed to have no significant effect on changes in the pouring rate as it was compensated by higher metallostatic pressure. The increase of pressure occurs immediately after the start of pouring, it reaches a maximum and then stabilizes or decreases smoothly as a result of the drop in metallostatic pressure. The temperature of pouring has a significant effect on the decomposition rate of hydrocarbons evolving from the metal. During pouring of cast iron, the presence of hydrogen was revealed. It was particularly evident across the gas-permeable coating, where the concentration has exceeded 40%. Hydrogen precipitation was accompanied by an evolution on the casting surface of considerable amounts of pyrolytic carbon. It was found that gases forming in the gap were totally free from oxygen.
Zaprojektowano próbną formę do badania procesu full mold. Określono zmiany ciśnienia w szczelinie powstającej pomiędzy styrodurowym modelem a podnoszącym się ciekłym stopem. Badania prowadzono przy zalewaniu form żeliwem oraz siluminem AK11. Stwierdzono, że ciśnienie to jest znacznie wyższe w przypadku żeliwa, co wynika z większej szybkości rozpadu modelu i dalej posuniętej dysocjacji węglowodorów. Wzrost ciśnienia nie powoduje jednak istotnej zmiany szybkości zalewania, ponieważ jest on kompensowany wyższym ciśnieniem metalostatycznym. Wzrost ciśnienia następuje bezpośrednio po rozpoczęciu zalewania, osiąga ono maksimum poczem stabilizuje się lub łagodnie maleje w wyniku zmniejszania ciśnienia metalostatycznego. Temperatura zalewania ma istotny wpływ na stopień rozpadu, wydzielających się z modelu węglowodorów. Przy zalewaniu żeliwa stwierdzono obecność wodoru. Jest ona widoczna zwłaszcza po drugiej stronie powłoki gazoprzepuszczalnej gdzie stężenie sięga powyżej 40%. Wydzielaniu wodoru towarzyszy wydzielanie się na powierzchni odlewu, znacznych ilości pyrolitycznego węgla. Stwierdzono, że gazy tworzące szczelinę są całkowicie wolne od tlenu.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2014, 59, 3; 1045-1049
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Temperature Effect on the Growth Rate and Physical Characteristics of SnO2 Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition
Autorzy:
Kim, D.
Kim, D. H.
Riu, D.-H.
Choi, B. J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/353808.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
atomic layer deposition
tin oxide
growth rate
film density
optical band gap
Opis:
Among the various thin film coating techniques, atomic layer deposition (ALD) has features of good controllability of the thickness, excellent step-coverage in 3-dimensional object even in the sub-nm thickness range at the relatively low deposition temperature. In this study, SnO2 thin films were grown by ALD in the variation of substrate temperatures from 150 to 250°C. Even such a low temperature may influence on the growth kinetics of the ALD reaction and thus the physical characteristics of thin films, such as crystallinity, film density and optical band gap, etc. We observed the decrease of the growth rate with increasing substrate temperature, at the same time, the density of the film was decreased with increasing temperature. Steric hindrance effect of the precursor molecule was attributed to the inverse relationship of the growth temperature and growth rate as well as the film density. Optical indirect band gap energy (~3.6 eV) of the ALD-grown amorphous SnO2 films grown at 150°C was similar with that of the literature value, while slightly lower band gap energy (~3.4 eV) was acquired at the films grown at higher temperature.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2018, 63, 2; 1061-1064
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Optical and Structural Properties of Cu2O thin Film as Active Layer in Solar Cells Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering
Autorzy:
Sawicka-Chudy, P.
Wisz, G.
Sibiński, M.
Cholewa, M.
Potera, P.
Głowa, Ł.
Pawełek, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/352619.pdf
Data publikacji:
2019
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
Cu2O thin films
optical properties
surface properties
compositional properties
energy band gap
Opis:
A series of copper oxide thin films were synthesized through direct current magnetron sputtering on glass and silicon substrates with various process parameters. Initially, optical microscopy images and their histograms were analyzed to determine the optical quality of the obtained layers and then histograms were created using Image Histogram Generator software. Next, the morphology, and cross-section and layer composition of the samples were evaluated. Finally, the transmission spectra of the thin films were recorded. Transmittance and reflection spectra of the UV–vis analysis were utilized to calculate the optical band gap, the extinction coefficient, and the absorption coefficient of the oxidized layers. Samples showed low transmittance (up to 40%) in the region of 400 to 1000 nm. The mean absorption coefficient varied from ~3 · 105 to ~6 · 105 1/cm and from ~2 · 105 to ~4 · 105 1/cm in the region of 2 eV to 3.5 eV. The extinction coefficient ranged from 0 to 0.11 in the region from 300 to 3000 nm. Reflectance of the samples was ~20% in the region of 1000 to 2500 nm and ranged from 20%-50% in the region of 1000 to 3000 nm. We verified the process parameters of the Cu2O structure to improve the quality as a buffer layer. On the basis of this preliminary analysis, we propose the most promising and future-oriented solutions in photovoltaic applications.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2019, 64, 1; 243-250
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Novel, microwave assisted route of synthesis of binary oxide semiconducting phases - PbMoO4 and PbWo4
Nowa metoda syntezy binarnych faz tlenkowych o charakterze półprzewodnikowym w polu mikrofalowym - PbMoO4 i PbWo4
Autorzy:
Kwolek, P.
Tokarski, T.
Łokcik, T.
Szaciłowski, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/350836.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
molibdenian ołowiu
wolframian ołowiu
półprzewodnik
pasmo wzbronione
pole mikrofalowe
lead molybdate
lead tungstate
semiconductor
band gap
microwave assisted synthesis
Opis:
Highly crystalline powders of lead molybdate and tungstate were synthesized by a microwave assisted hydrothermal process in a microwave heated high pressure autoclave. Application of this novel and environmentally friendly technique in the synthesis of these compounds has never been reported before. The influence of a time of synthesis on a crystal structure, morphology and a value of a band gap for both PbMoO4 and PbWO4 was examined. The value of the band gap was determined using diffuse reflectance spectroscopy. For lead molybdate the medium value of the band gap equals to ca. 3.2 eV whereas for lead tungstate it oscillates around 4 eV and does not depend on the duration time of the synthesis.
Krystaliczne proszki molibdenianu ołowiu i wolframianu ołowiu otrzymano metodą hydrotermalną w polu mikrofalowym za pomocą wysokociśnieniowego autoklawu mikrofalowego. Metodę ta można uznać za przyjazną dla środowiska, jak dotad nie odnotowano jej zastosowania do syntezy wymienionych związków ołowiu. Zbadano wpływ czasu trwania procesu na strukturę krystaliczną, morfologię i szerokość przerwy energetycznej proszków PbWO4 i PbMoO4. Szerokość pasma wzbronionego wyznaczono za pomocą spektroskopii refleksyjnej. Dla molibdenianu ołowiu otrzymane wartości oscylują wokół 3.2 eV, natomiast dla wolframianu ołowiu przerwa energetyczna jest szersza i wynosi ok. 4 eV. Szerokość pasma wzbronionego w obu przypadkach nie zależy od czasu syntezy.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2013, 58, 1; 217-222
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Structural And Optical Properties Of VOx Thin Films
Własności strukturalne i optyczne cienkich warstw VOx
Autorzy:
Schneider, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/353645.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
VOx thin films
reactive sputtering
microstructure
optical properties
energy band gap
cienkie warstwy VOx
rozpylanie magnetronowe
mikrostruktura
właściwości optyczne
przerwa energetyczna
Opis:
VOx thin films were deposited on Corning glass, fused silica and Ti foils by means of rf reactive sputtering from a metallic vanadium target. Argon-oxygen gas mixtures of different compositions controlled by the flow rates were used for sputtering. Influence of the oxygen partial pressure in the sputtering chamber on the structural and optical properties of thin films has been investigated. Structural properties of as-sputtered thin films were studied by X-ray diffraction at glancing incidence, GIXD. Optical transmittance and reflectance spectra were recordedwith a Lambda 19 Perkin-Elmer double spectrophotometer. Thickness of the films was determined from the profilometry. It has been confirmed by XRD that the deposited films are composed mainly of V2O5 phase. The estimated optical band gap of 2.5 eV corresponds to V2O5.
Cienkie warstwy VOx były nanoszone na szkło Corning metodą rozpylania magnetronowego rf. Jako katody użyto metalicznego wanadu. Były one nanoszone w komorze wypełnionej mieszaniną argonu i tlenu w różnych proporcjach przy ustalonych przepływach. Zbadano wpływ ciśnienia parcjalnego tlenu w komorze na własności strukturalne i optyczne otrzymanych warstw. Własności strukturalne cienkich warstw zostały określone metodą rozpraszania promieniowania rentgenowskiego padającego pod małymi kątami (GIXD). Widma optyczne transmitancji i odbicia zostały wykonane przy użyciu spektrometru Lambda 19 Perkin-Elmer. Grubość badanych warstw zmierzono za pomocą profilometru. Pomiary XRD potwierdziły, że otrzymane warstwy składają się głównie z fazy V2O5. Wyznaczona optycznie przerwa energetyczna wynosząca 2.5 eV odpowiada przerwie energetycznej V2O5.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 2A; 957-961
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The Effect of Mechanical Interactions Between the Casting and the Mold on the Conditions of Heat Dissipation: A Numerical Model
Wpływ oddziaływań mechanicznych między odlewem a formą odlewniczą na warunki oddawania ciepła: model numeryczny
Autorzy:
Dyja, R.
Gawrońska, E.
Sczygiol, N.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/354252.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
shrinkage gap
solidification process
heat dissipation
thermo-elastic-plastic model
thermal resistance
szczelina skurczowa
proces krzepnięcia
rozpraszanie ciepła
model termo-sprężysto-plastyczny
opór cieplny
Opis:
We present a description of the effects of thermal interactions, which take into account formation of a shrinkage gap, that affect the level of stresses in a system casting – mold. Calculations were carried out in our own computer program which is an implementation of the finite element method used to solve the equations describing a thermo-elastic-plastic model of material and the heat conduction, including solidification. In the computing algorithm we use our own criteria for mechanical interaction between the casting and mold domains. Our model of mechanical interactions between the casting and the mold allows efficient modeling of stresses occurring in the casting and an impact of development of the shrinkage gap on cooling course.
W artykule przedstawiamy opis oddziaływań cieplnych, uwzględniający tworzącą się szczelinę skurczową, które wpływają na poziom naprężeń w układzie odlew – forma odlewnicza. Obliczenia przeprowadzono we własnym programie komputerowym będącym implementacją metody elementów skończonych użytej do rozwiązania równań opisujących termosprężysto–plastyczny model materiału oraz przewodzenia ciepła z uwzględnieniem krzepnięcia. W algorytmie obliczeniowym wykorzystujemy własne kryteria wzajemnego oddziaływania mechanicznego obszarów odlewu i formy odlewniczej. Opracowany model oddziaływań mechanicznych między odlewem a formą odlewniczą pozwala na efektywne modelowanie naprężeń powstających w odlewie oraz wpływ rozwoju szczeliny skurczowej na przebieg stygnięcia.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 3A; 1901-1907
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Brazing a graphite composite to molybdenum alloy TZM using active copper-based filler metals with chromium additive
Lutowanie twarde kompozytu grafitowego ze stopem molibdenowym TZM aktywnymi spoiwami miedzianymi z dodatkiem chromu
Autorzy:
Mirski, Z.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/351567.pdf
Data publikacji:
2011
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
grafit kompozytu CFC 222
stop molibdenu TZM
lutowanie
spoiwa miedziane z dodatkiem chromu
zwilżanie
próba klinowa
szczelina lutownicza
badania metalograficzne
EDX
XRD
graphite composite CFC 222
molybdenum alloy TZM
vacuum brazing
copper-based brazing filler metal Cu-Cr
wettability
wedge test
brazing gap
metallographic examinations
EDX and XRD analyses
Opis:
The paper presents issues of brazing the graphite composite CFC 222 with the molybdenum alloy TZM. Both materials demonstrate significant differences in physicochemical and mechanical properties that significantly affect brazing conditions and properties of the brazed joints. The performed brazing operation was preceded by a wettability test that decided selection of the filler metal. From among various copper-based filler metals, the best appeared a copper brazing filler metal with some addition of active chromium. Presented is a model of the wedge test, helpful at optimising the brazing process of two materials with different properties. Width of the brazing gap was selected on the ground of metallurgical examinations after the wedge test and transferred to the joint with a parallel gap. Applied were various forms of copper-based filler metals in that chromium was present as an alloying component, a component of the brazing paste, powder between copper covers and as a galvanic coating of a pure-copper strip. Evaluation of brazed joints of the composite CFC 222 with the TZM alloy is presented on the grounds of metallographic examinations by means of light microscopy and microhardness measurements, electron microscopy, EDX analysis of elements and XRD analysis of phase composition of the reactive zone.
W pracy przedstawiono problematykę lutowania twardego kompozytu grafitowego CFC 222 ze stopem molibdenowym TZM. Obydwa materiały wykazują znaczne różnice we właściwościach fizykochemicznych i mechanicznych, które mają istotny wpływ na warunki lutowania i właściwości uzyskanych połączeń lutowanych. Wykonanie połączeń poprzedziła próba zwilżalności, która zdecydowała o wyborze lutu. Spośród różnych lutów na osnowie miedzi najlepszy okazał się lut miedziany z dodatkiem aktywnego chromu. Przedstawiono model próby klinowej, pomocny w optymalizacji procesu lutowania obydwu materiałów zróżnicowanych właściwościach. Na podstawie próby klinowej, w wyniku badań metalograficznych, dobrano szerokość szczeliny lutowniczej i przeniesiono ją na złącze ze szczeliną równoległą. Stosowano różne postacie lutów miedzianych, w których chrom występował jako składnik stopowy, składnik pasty lutowniczej, proszek między okładkami miedzianymi i jako pokrycie galwaniczne taśmy z czystej miedzi. Ocenę połączeń lutowanych kompozytu CFC 222 ze stopem molibdenowym TZM przedstawiono na podstawie badań metalograficznych za pomocą mikroskopii świetlnej i pomiarów mikrotwardości, mikroskopii elektronowej, analizy pierwiastków metodą EDX oraz analizy składu fazowego strefy reakcyjnej metodą dyfrakcji rentgenowskiej XRD.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2011, 56, 3; 829-837
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-8 z 8

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies