Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "warstwa diamentowa" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Field emission and microstructural characterization of diamond films deposited by HF CVD method
Emisja polowa i charakterystyka mikrostruktury warstw diamentowych nanoszonych przy użyciu metody HF CVD
Autorzy:
Jarzyńska, D.
Staryga, E.
Znamirowski, Z.
Fabisiak, K.
Gotszalk, T.
Woszczyna, M.
Strzelecki, W.
Dłużniewski, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/296561.pdf
Data publikacji:
2007
Wydawca:
Politechnika Łódzka. Wydawnictwo Politechniki Łódzkiej
Tematy:
warstwa diamentowa
domieszkowanie
emisja elektronowa
diamond film
doping
electron emission
Opis:
Electron emission from diamond films (DF) deposited using HF CVD technique on silicon substrates has been studied. The field emission characteristics were analyzed using the Fowler-Nordheim model. The diamond films were also characterized by Scanning Electron Microscopy (SEM), Atomic Force Microscopy (AFM), Raman Spectroscopy (RS) and Electron Spin Resonance (ESR) techniques. The correlation between electron field emission of investigated films, Raman spectra and concentration of paramagnetic centres has been discussed. The electron emission properties of diamond films improved after doping with nitrogen. The field emission was obtained at turn-on electric field equal to about 10 V/µm and about 3 V/µm, for undoped diamond films and N-doped diamond films, respectively. It seems that the change of turn-on field values and other emissive properties of thin diamond layers may be caused by different content of non-diamond phase (e.g. graphite phase) induced by doping.
Przeprowadzono badania emisji polowej z warstw diamentowych osadzonych przy użyciu metody HF CVD na podłożach krzemowych typu n i p. Charakterystyki emisyjne analizowano na podstawie modelu Fowlera-Nordheima. Wytworzone warstwy scharakteryzowano przy użyciu następujących metod: SEM, AFM, spektroskopii Ramana i Elektronowego Rezonansu Spinowego (ESR). Przeprowadzono dyskusję wyników, wskazując na korelację pomiędzy wynikami emisji polowej a koncentracją centrów paramagnetycznych oraz widmami ramanowskimi badanych warstw diamentowych. Zaobserwowano znaczną poprawę właściwości emisyjnych heterostruktur, w których warstwa diamentowa domieszkowana została azotem. Dla układów z niedomieszkowanymi warstwami diamentowymi wartość natężenia pola włączeniowego wynosiła około 10 V/ µm, zaś dla domieszkowanych azotem warstw diamentowych wartość ta równa jest 3 V/µm. Różnice w wartościach pola włączeniowego dla odpowiednich układów wynikają prawdopodobnie z różnej zawartości materii grafito-podobnej w badanych warstwach diamentowych. Warstwy domieszkowane azotem są silnie zdefektowane i zawierają znaczną ilość materii grafitopodobnej.
Źródło:
Scientific Bulletin. Physics / Technical University of Łódź; 2007, 28; 13-26
1505-1013
2449-982X
Pojawia się w:
Scientific Bulletin. Physics / Technical University of Łódź
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Raman modular system with fibre-optic probes for remote monitoring of CVD process
Modułowy system ramanowski z sondami światłowodowymi do zdalnego monitorowania procesów CVD
Autorzy:
Gnyba, M.
Bogdanowicz, R.
Wroczyński, P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/256741.pdf
Data publikacji:
2006
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
spektroskopia ramanowska
monitoring in-situ
sonda światłowodowa
CVD
cienka warstwa diamentowa
Raman spectroscopy
in-situ monitoring
fibre-optic probe
chemical vapour deposition
diamond thin film
Opis:
Dedicated Raman system was designed for in-situ monitoring of thin film growth in CVD (chemical vapour deposition) process. Review of monitoring requirements and limiting factors is given in this paper. Computer simulation of laser beam propagation in the CVD chamber and the thin film was carried out. Components for Raman optical probes and their configuration were selected using results of the modelling. Ex-situ investigation of the thin films enabled determination of the Raman scattering intensity. The prototype of the modular Raman system using fibre-optic probes was built. Efficiency of optical signal transmission through the probes was tested.
W artykule przedstawiono projekt systemu ramanowskiego do monitorowania in-situ wzrostu cienkich warstw w procesie CVD i analizę związanych z tym problemów metrologicznych. Na podstawie wyników modelowania komputerowego wprowadzania wiązki laserowej do komory i jej propagacji w cienkiej warstwie wytypowano optymalną konfigurację optyczną systemu ramanowskiego i określono parametry optyczne jego elementów. Zbudowano prototyp modułowego wyposażonego w sondy światłowodowe. Wykonano pomiary wstępne obejmujące badania ex-situ generacji sygnału ramanowskiego w wybranych materiałach oraz testy sondy nadawczej na stole optycznym.
Źródło:
Problemy Eksploatacji; 2006, 4; 115-127
1232-9312
Pojawia się w:
Problemy Eksploatacji
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies