Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "thin oxide films" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-12 z 12
Tytuł:
Adhesion of SiO2 layers deposited by means of sol-gel and ALD methods on 316LVM steel
Autorzy:
Basiaga, M.
Walke, W.
Kajzer, A.
Kajzer, W.
Staszuk, M.
Kurtyka, P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/284698.pdf
Data publikacji:
2016
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
ALD method
thin oxide films
biomaterials
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2016, 19, 138; 114
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Structural and optical properties of nanostructured bismuth oxide
Autorzy:
Ali, R. S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/412556.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
Tematy:
thin films’ bismuth oxide
optical properties
structural properties
Opis:
Thin films of bismuth oxide have been prepared utilizing vacuum evaporation. XRD anyalysis reveal that all the films were tetragonal polycrystalline structure with a preferred orientation along (002) plane. SEM images indicate that the grain size fall in the category of nanosize. AFM results assure that the nanonstructure behavior of thin films. Optical studies show that these films have a direct transition with optical energy gap equal to 2.5 eV.
Źródło:
International Letters of Chemistry, Physics and Astronomy; 2014, 15; 64-72
2299-3843
Pojawia się w:
International Letters of Chemistry, Physics and Astronomy
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Thin SnO2 Films Manufactured Via the Sol-Gel and Electrospinning Methods
Autorzy:
Matysiak, W.
Tański, T.
Smok, W.
Polishchuk, O.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/351688.pdf
Data publikacji:
2020
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
thin films
nanofibers
tin oxide
electrospinning
optical properties
Opis:
The aim of this work was to produce a thin SnO2 film by a technique combining the sol-gel method and electrospinning from a solution based on polyvinylpyrrolidone and a tin chloride pentahydrate as a precursor. The spinning solution was subjected to an electrospinning process, and then the obtained nanofiber mats were calcined for 10 h at 500°C. Then, the scanning electron microscopy morphology analysis and chemical composition analysis by X-ray microanalysis of the manufactured thin film was performed. It was shown that an amorphous-crystalline layer formed by the SnO2 nanofiber network was obtained. Based on the UV-Vis spectrum, the width of the energy gap of the obtained layer was determined.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2020, 65, 2; 761-765
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Structured Analysis of Nanostructured Zinc Oxide (ZnO) Thin Films Deposited by Sol-Gel
Autorzy:
Hussin, Rosniza
Hanafi, F.
Rashid, R. A.
Harun, Z.
Kamdi, Z.
Ibrahim, S. A.
Ainuddin, A. R.
Rahman, W.
Leman, A. M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2134100.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
sol-gel
zinc oxide
ZnO
thin films
nanostructured
Opis:
In this work, zinc oxide (ZnO) thin films are deposited on glass substrate using the sol-gel spin coating technique. The effect of annealing temperature on structural properties was investigated. The ZnO sol-gel was produced from zinc acetate dehydrate as the starting material with iso-propanol alcohol as the stabilizer. The ratio was controlled, distilled water and diethanolamine as the solvent mixing on a magnetic stirrer for an hour under constant heat of 60°C. The ZnO thin film was deposited using the spin coating technique with the speed of 3000 rpm for 30 minutes before the sample undergoes pre-heat in the oven at the temperature of 100°C for 10 minutes. The sample was annealing in the furnace for an hour at 200°C, 350°C, and 500°C. The X-ray diffraction (XRD) analysis confirms that hexagonal wurtzite structure with zincite and zinc acetate hydroxide hydrate composition. The thin films surface roughness was analyzed using an atomic force microscope (AFM) and scanning electron microscope (SEM) for surface morphology observation.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2022, 67, 3; 1055--1060
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Morphology and Structure of the Erbium Stabilized Bismuth Oxide Thin Films Deposited by PLD Technique
Autorzy:
Kąc, S.
Szwachta, G.
Cieniek, Ł.
Moskalewicz, T.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/356362.pdf
Data publikacji:
2019
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
Pulsed Laser Deposition
thin films
bismuth oxide
surface topography
Opis:
The aim of the work was to obtain thin bismuth oxide films containing, at room temperature, the Bi1,5Er0,5O3 phase. This phase corresponds to the structure of the high-temperature δ-Bi2O3 phase, in pure bismuth oxide, characterized by the highest ionic conductivity of all known solid state ionic conductors. The high-temperature δ-Bi2O3 phase with the face centered cubic structure, in pure bismuth oxide, occurs only at temperature above 730°C. Stabilization of the δ-Bi2O3 phase at room temperature was achieved by an addition of the erbium together with the employ-ment of the Pulsed Laser Deposition (PLD) technique. The influence of an amount of Er alloying and the film thickness on surface morphology, microstructure, phase composition of thin films were investigated. The velocity of deposition of thin layers of bismuth stabilized with erbium in the PLD process using the Nd: YAG laser was about 0.5 nm/s.The investigation results of erbium doped bismuth oxide thin films deposited onto (0001) oriented Al2O3 monocrystalline substrate are presented. Thin films of uniform thickness, without cracks, and porosity were obtained. All deposited thin films (regardless of the film thickness or erbia (Er2O3) content) exhibited a columnar structure. In films stabilized with erbium, up to approx. 250 nm thickness, the columns have a diameter at the base from 25 to 75 nm. The columns densely and tightly fill the entire volume of the films. With increasing of the film thickness increases, porosity also significantly increases. In thin layers containing from 20 to 30 mole % Er2O3 the main identified phase at room temperature is Bi1,5Er0,5O3. It is similar to the defective fluorite-type structure, and belongs to the Fm-3m space group. This phase corresponds to the structure of the high-temperature δ-Bi2O3 phase in pure bismuth oxide.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2019, 64, 3; 969-974
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Fluorine-Doped SnO2 Thin Films in Solar Cell Applications. Morphological, Optical and Electrical Properties
Autorzy:
Lisnic, Petru
Hrostea, Laura
Leontie, Liviu
Girtan, Mihaela
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/27313873.pdf
Data publikacji:
2023
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czasopisma i Monografie PAN
Tematy:
fluorine tin oxide
FTO
thin films
spray pyrolysis
solar cells
Opis:
This study examines the optimal parameters for obtaining fluorine-doped SnO2 (FTO) films with promising potential for photovoltaic applications. Due to its properties, tin oxide is used in a wide range of technologies, among which the manufacture of solar cells is one of the most important. Being doped with fluorine, tin dioxide becomes a good transparent and conductive electrode, suitable for solar cell applications. The chemical stability and low cost of the doped SnO2 makes it an advantageous alternative to tin-doped indium oxide (ITO). Among the most important characteristics of FTO thin films are high photoconductivity under sunlight irradiation and strong UV absorption. The SnO2 compound, doped with fluorine, exhibits a considerable chemical and physical stability, good electrical conductivity and high transmission (over 85%) in the visible range. The spray pyrolysis technique is the most preferable and efficient deposition method of fluorine-doped SnO2 thin films. This work aims to identify the optimal parameters for the spray pyrolysis of SnO2:F films and to analyze the morphology, transparency and strength of as obtained films in relation to the doping amount in the precursor solution, spraying distance and film thickness.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2023, 68, 2; 483--490
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Effect of Heat Treatment on the Optical Properties of Cobalt Doped Stannic Oxide
Autorzy:
Hasan, J. S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/411548.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
Tematy:
thin films
chemical spray pyrolysis
dilute magnetic semiconductor
stannic oxide
doping
Opis:
This study investigates The effect of annealing on The optical properties of (SnO2:Co) films prepared by spray pyrolysis (SP) technique at a glass substrate temperature (Ts = 773 K). The absorbance and transmittance spectra have been recorded in order to calculate the optical constant and the optical band gap energy of the films. It was found that the annealing affects all the parameters under investigations.
Źródło:
International Letters of Chemistry, Physics and Astronomy; 2014, 9; 59-70
2299-3843
Pojawia się w:
International Letters of Chemistry, Physics and Astronomy
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Effect of Substrate Temperature on Structural and Optical Properties of CdO Thin Films
Autorzy:
Ali, H. R. A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/411893.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
Tematy:
cadmium oxide
spray pyrolysis technique
XRD
AFM
thin films
sol-gel
Opis:
Thin films of CdO have been prepared by spray pyrolysis technique. XRD analysis reveals that all the prepared samples were polycrystalline and have preferred orientation along [111] orientation. The surface topography was determined by AFM which indicate that surface roughness and rms roughness were increased by the increasing of substrate temperature. The optical energy gap were determined and its value lies between (2.4-2.5) eV.
Źródło:
International Letters of Chemistry, Physics and Astronomy; 2014, 8; 47-55
2299-3843
Pojawia się w:
International Letters of Chemistry, Physics and Astronomy
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Some Physical Properties of Copper Oxide Thin Films Prepared by Electrolysis Method
Autorzy:
Oudah, Mustafa H.
Mazin, H. Hasan
Abd, Ahmed N.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1065248.pdf
Data publikacji:
2019
Wydawca:
Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
Tematy:
copper oxide
drop-casting method
electrolysis
quantum size effect
thin films
Opis:
The aim of this paper is to study the properties of copper oxide thin films prepared by electrolysis method and deposited on glass substrates by drop-casting method at different annealing temperatures. Copper oxide colloidal was successfully prepared by electrolysis method. The X-ray diffraction confirms the polycrystalline structure of the films. Atomic force microscopy shows that the increase in the annealing temperature improves the surface morphology, increases the grain size and removes the cracks. The best optical transmittance was for the film annealed at 200 ºC. The bandgap decreases from 3.35 eV to 3.15 eV as a result of increasing the annealing temperature. The wide bandgap that obtained in this study is due to quantum size effect.
Źródło:
World Scientific News; 2019, 135; 59-70
2392-2192
Pojawia się w:
World Scientific News
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Synthesis and investigation of optical, structural, and morphological characteristics of nanostructured TiO2-ZnO thin films
Autorzy:
Yasir, Nagham Abdulameer
Hlail, Alzubaidy Muneer
Mohsin, Ali Kamel
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1070855.pdf
Data publikacji:
2019
Wydawca:
Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
Tematy:
Crystallite size
Photocatalysis
Sol–gel process
Titanium dioxide
X-Ray Diffraction
Zinc oxide
drop casting
energy gap
thin films
Opis:
TiO2-ZnO thin films have been prepared by using drop casting technique. The optical, structural, and morphological properties of nanostructured TiO2-ZnO thin films deposited by drop casting technique was studied by using several experimental techniques were used to characterize optical, structural, and morphological properties; X-Ray Diffraction (XRD) was used to study the crystal structures, the crystallite size, the dislocation density, and the number of crystallites per unit area of TiO2-ZnO thin films. The surface topography, surface roughness parameters, and average grain size for all samples were done by Atomic Force Microscopy (AFM) micrograph which confirm the existence of Nano-structured thin films. The optical energy gap of the TiO2-ZnO thin films was determined by using UV spectroscopy. It was found that one type of basic electrons transitions, through which the values of the optical energy gap for all the prepared thin films which are allowed direct transition.
Źródło:
World Scientific News; 2019, 123; 87-101
2392-2192
Pojawia się w:
World Scientific News
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Właściwości elektryczne i optyczne cienkich warstw WOx wytwarzanych metodą rozpylania magnetronowego i analiza ich współczynnika doskonałości
Electrical and optical properties of the WOx thin films, prepared by magnetron sputtering, and analysis of their highest value
Autorzy:
Dybała, Julia
Mazur, Michał
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2203160.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
Tematy:
rozpylanie magnetronowe
cienkie warstwy
tlenek wolframu
właściwości optyczne
właściwości elektryczne
magnetron sputtering
thin films
tungsten oxide
optical properties
electrical properties
Opis:
W artykule przeanalizowano właściwości optyczne i elektryczne cienkich warstw tlenku wolframu. Jest to materiał często stosowany między innymi w inteligentnych oknach, lustrach antyparowych i czujnikach gazów. zbadano pięć serii cienkich warstw tlenku wolframu, które zostały wytworzone w procesach rozpylania magnetronowego w atmosferze mieszaniny gazu roboczego (ar) oraz reaktywnego (O2) o różnej zawartości tlenu, tj. od 5% do 15%. Każdy z procesów przeprowadzany był przy tej samej wartości ciśnienia, odległości target - podłoże oraz w tym samym czasie. Grubość cienkich warstw zmierzona za pomocą profilometru optycznego wynosiła około 160 nm. zauważono, że wraz ze zwiększaniem się udziału gazu reaktywnego w procesie próbki zmieniały barwę od metalicznej, przez ciemnogranatową, po błękitną, jednocześnie stając się coraz bardziej przezroczyste. Pomiary właściwości elektrycznych wykonane za pomocą sondy czteroostrzowej, a także właściwości optycznych przeprowadzone z użyciem spektrofotometru wykazały, że zwiększanie udziału tlenu w procesie powodowało wzrost średniej transmisji światła w zakresie widzialnych długości fal oraz rezystywności cienkich warstw. W artykule przeanalizowano również współczynniki Figure of Merit określające jakość badanej próbki. Największą wartość współczynnika doskonałości otrzymano dla cienkiej warstwy tlenku wolframu, odznaczającej się stosunkowo dużą średnią transmisją światła w zakresie widzialnym przy niskiej wartości rezystywności. Przeprowadzone badania wykazały, że atmosfera gazowa podczas procesu rozpylania magnetronowego istotnie wpływa na właściwości optyczne i elektryczne cienkich warstw tlenku wolframu, co stwarza możliwość projektowania cienkowarstwowych powłok przeznaczonych do stosowania w transparentnej elektronice.
In this article, optical and electrical properties of tungsten oxide thin films, prepared by magnetron sputtering in the atmosphere of various oxygen content, were analysed. Tungsten oxide is a material, which is widely used in modern applications such as smart windows, antisteam mirrors, and gas sensors. Five sets of tungsten oxide thin films were deposited by magnetron sputtering in the mixed argon-oxygen atmosphere composed of various content of reactive gas, i.e., from 5% to 15%. In each case, other deposition process parameters were the same. The thickness of the thin films was ca. 160 nm and it was measured with the optical profilometer. it was noticed that along with the increase in the proportion of reactive gas in the process, thin film samples changed their colour from metallic, through navy blue to blue and simultaneously they became increasingly transparent. Measurements of electrical properties, made using the four-point probe and optical properties, performed with the aid of a spectrophotometer showed that increasing the proportion of oxygen in the process increased the average transmission in the visible wavelength range and the resistivity of the prepared WOx thin films. in the article, the Figure of Merit (FoM) coefficients are also presented, which determine the quality of the thin film samples. it was shown that the highest value of the FoM was observed for WOx thin film characterised by a relatively high average transmission in the visible wavelength range and low value of resistivity. The performed measurements showed that the gas atmosphere during magnetron sputtering process leads to the tailoring of the optical and electrical properties of tungsten oxide thin films, which in turn makes it possible to design and apply such thin film coatings in transparent electronics.
Źródło:
Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2022, 71, 2; 15--25
1234-5865
Pojawia się w:
Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Wpływ wygrzewania na właściwości sensorowe powłok TiOx wytworzonych metodą rozpylania magnetronowego
Influence of annealing temperature on sensing properties of TiOx thin films prepared by magnetron sputtering
Autorzy:
Kapuścik, Paulina
Mańkowska, Ewa
Wojcieszak, Damian
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2203161.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
Tematy:
inżynieria materiałowa
tlenek tytanu
cienka warstwa
rozpylanie magnetronowe
właściwości optyczne
właściwości sensorowe
materials engineering
titanium oxide
thin films
magnetron sputtering
optical properties
gas sensing properties
Opis:
W pracy przedstawiono wyniki badań wpływu temperatury wygrzewania na właściwości optyczne, a także morfologii powierzchni cienkich warstw niestechiometrycznych tlenków tytanu (TiO x). Zostały one powiązane z wynikami badań odpowiedzi sensorowej warstw na obecność H₂. Próbki wytworzono metodą rozpylania magnetronowego w atmosferze Ar:O₂ o małej zawartości tlenu (20% oraz 30%). im większa była ilość tlenu w mieszaninie gazowej podawanej do komory próżniowej, tym niższa szybkość osadzania powłok. Badania wykonane za pomocą profilometru optycznego wykazały, że grubość obu serii naniesionych warstw wynosiła odpowiednio 600 nm i 200 nm. Powłoki te następnie wygrzewano w powietrzu w temperaturze od 100°C do 800°C. w ramach badań określono również ich chropowatość. aby ocenić właściwości optyczne powłok, zmierzone zostały charakterystyki transmisji oraz odbicia światła, na podstawie których wyznaczono takie parametry jak współczynnik transmisji, położenie krawędzi optycznej absorpcji oraz szerokość optycznej przerwy energetycznej w funkcji temperatury wygrzewania warstw. Z kolei właściwości sensorowe powłok określono na podstawie zmian rezystancji w odpowiedzi na pobudzenie w postaci mieszaniny Ar:3,5%H₂. Stwierdzono, że stopień utlenienia warstw ma kluczowy wpływ nie tylko na szybkość odpowiedzi warstwy TiOx, lecz także na sam charakter tej odpowiedzi.
This work describes the influence of the annealing temperature on the optical and surface properties of nonstoichiometric titanium oxide (TiOx ) thin films. The results were related to the investigation of the sensing response toward H₂ gas. The samples were prepared by the magnetron sputtering method using Ar:O₂ plasma with low oxygen content (20% and 30%). an increase in the amount of oxygen in the gas mixture supplied to the magnetron led to a decrease in the deposition rate. The thickness of the deposited thin films, determined by the use of an optical profiler, was found to be 600 nm and 200 nm, respectively. The coatings were then annealed in an ambient air atmosphere at a temperature in the range from 100°C to 800°C. additionally, the roughness of the coating surface was measured. To investigate the optical properties of the thin films, transmission and reflection spectra were measured, and parameters such as transmission coefficient, cutoff wavelength value, and optical band gap value were determined as functions of the annealing temperature. The sensing properties of the thin films were characterised on the basis of changes in a resistance value as a response to a mix of Ar:3.5% H₂. it was found that the oxidation of the thin films has a key influence not only on the response time of the TiOx thin films, but also on the character of the response.
Źródło:
Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2022, 71, 2; 27--39
1234-5865
Pojawia się w:
Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-12 z 12

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies