Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "shortwave infrared detector" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
Fabrication and characterisation of the PiN Ge photodiode with poly-crystalline Si:P as n-type region
Autorzy:
Durlin, Quentin
Aliane, Abdelkader
André, Luc
Kaya, Hacile
Cocq le, Mélanie
Goudon, Valérie
Vialle, Claire
Veillerot, Marc
Hartmann, Jean-Michel
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2204221.pdf
Data publikacji:
2023
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Stowarzyszenie Elektryków Polskich
Tematy:
germanium (Ge)
photodiode
shortwave infrared detector
Opis:
Germanium (Ge) PiN photodetectors are fabricated and electro-optically characterised. Unintentionally and p-type doped Ge layers are grown in a reduced-pressure chemical vapour deposition tool on a 200 mm diameter, <001>-oriented, p-type silicon (Si) substrates. Thanks to two Ge growth temperatures and the use of short thermal cycling afterwards, threading dislocation densities down to 10⁷ cmˉ² are obtained. Instead of phosphorous (P) ion implantation in germanium, the authors use in situ phosphorous-doped poly-crystalline Si (poly-Si) in the n-type regions. Secondary ion mass spectrometry revealed that P was confined in poly-Si and did not diffuse in Ge layers beneath. Over a wide range of tested device geometries, production yield was dramatically increased, with almost no short circuits. At 30 °C and at -0.1 V bias, corresponding to the highest dynamic resistance, the median dark current of 10 μm diameter photodiodes is in the 5-20 nA range depending on the size of the n-type region. The dark current is limited by the Shockley-Read-Hall generation and the noise power spectral density of the current by the flicker noise contribution. A responsivity of 0.55 and 0.33 A/W at 1.31 and 1.55 μm, respectively, is demonstrated with a 1.8 μm thick absorption Ge layer and an optimized anti-reflection coating at 1.55 μm. These results pave the way for a cost-effective technology based on group-IV semiconductors.
Źródło:
Opto-Electronics Review; 2023, 31, Special Issue; art. no. e144550
1230-3402
Pojawia się w:
Opto-Electronics Review
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies