Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "semiconductor surface passivation" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
Optimization of technology of diode laser mirror processing to maximize the threshold of catastrophic optical degradation
Autorzy:
Dąbrowska, Elżbieta
Teodorczyk, Marian
Szymański, Michał
Maląg, Andrzej
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1835816.pdf
Data publikacji:
2020
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
laser diode
catastrophic optical damage
COD
laser mirror
semiconductor surface passivation
optical coating
electroluminescence
Opis:
In this paper, optimization works on the technology of passivation and optical coatings of laser diode facets are described. The main goal is to increase the optical power at which the catastrophic optical mirror damage occurs. The coatings and passivation processes have been done in an ion source-aided electron-beam evaporator. The essence of passivation was to remove native oxides and produce a native thin nitride layer with simultaneous saturation of the dangling atomic bonds. The procedure has been realized with the help of nitrogen or forming gas (N2 + H2) beam. As a result, we present sets of technological parameters allowing to increase the catastrophic optical mirror damage threshold of diode lasers.
Źródło:
Optica Applicata; 2020, 50, 4; 593-607
0078-5466
1899-7015
Pojawia się w:
Optica Applicata
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies