Temat: rozpylanie elektryczne - Katalog OPAC zbiorów

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Modyfikacja powierzchni poprzez osadzanie produktów impulsowego rozpylania elektrycznego w silnym polu elektrycznym
Modification of surface by deposition of pulse electric sputtering products in a strong electric field
Autorzy:: Kubicki, J.
Kwaśny, M.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/209663.pdf
Data publikacji:: 2007
Wydawca:: Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
Tematy:: modyfikacja powierzchni
plazma elektryczna
rozpylanie elektryczne
surface modification
electric plasma
electric sputtering
Opis:: W pracy przeprowadzono w odpowiedniej komorze proces modyfikacji powierzchni różnych materiałów metodą osadzania produktów impulsowego rozpylania elektrycznego. Impulsy elektryczne uzyskiwano z generatora, w którym poprzez iskierniki załączono kondensatory naładowane do kilkudziesięciu kilowoltów napięcia. W wyniku impulsowego wyładowania elektrycznego między elektrodami z wybranego materiału, materiał ten ulegał rozpyleniu i e dużej mierze jonizacji. Przyłożone w odpowiednim momencie impulsowe pole elektryczne rozpędzając wytworzone jony, nanosiło je na modyfikowane podłoże. Proces przeprowadzano w warunkach wstępnej próżni oraz w atmosferze wybranych gazów pod niskim ciśnieniem. Zmieniając parametry impulsów elektrycznych, a także ustawienia przestrzenne elementów oraz ciśnienie i skład gazów w komorze, otrzymano zmodyfikowane powierzchnie szkła, ceramiki oraz różnych metali. Otrzymane próbki po wykonaniu zdjęć mikroskopowych poddano badaniom fizycznym, w których sprawdzono ich twardość, przyczepność wierzchniej warstwy do podłoża, chropowatość i porowatość. Do optymalizacji skuteczności nanoszenia materiału na podłoże zastosowano metodę wykorzystującą zależność transmisji światła przez nanoszone warstwy od ich grubości.
A proces of surfaces modification has been carried out in a special chamber. Electric pulses originate from a generator in which the capacitors, charged to dozens of kV, were switched on throught spark gaps. After a pulse discharge between the electrodes, their specially chosen material underwent evaporation and ionization. The pulse electric field applied at the specific moment caused acceleration of the produced ions and next their deposition on a modified substrate. The process was carried out in a pre-vacuum and in low pressure gas atmosphere. By changing the parameters of electric pulses and spatial arrangement of elements in the chamber and also composition and pressure of gases, surfaces of glass, ceramics, and various metals were modified. The obtained samples were examined under a microscope and then their durability, adherance of superficial layer to a substrate and porosity were checked. Also electric conductivity of glass and ceramics was measured. Efficiency of material deposition on a substrate was optimized due to measurement of light transmission through the sample with a transparent substrate.
Źródło:: Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2007, 56, 3; 47-57
1234-5865
Pojawia się w:: Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Właściwości elektryczne i optyczne cienkich warstw WOx wytwarzanych metodą rozpylania magnetronowego i analiza ich współczynnika doskonałości
Electrical and optical properties of the WOx thin films, prepared by magnetron sputtering, and analysis of their highest value
Autorzy:: Dybała, Julia
Mazur, Michał
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/2203160.pdf
Data publikacji:: 2022
Wydawca:: Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
Tematy:: rozpylanie magnetronowe
cienkie warstwy
tlenek wolframu
właściwości optyczne
właściwości elektryczne
magnetron sputtering
thin films
tungsten oxide
optical properties
electrical properties
Opis:: W artykule przeanalizowano właściwości optyczne i elektryczne cienkich warstw tlenku wolframu. Jest to materiał często stosowany między innymi w inteligentnych oknach, lustrach antyparowych i czujnikach gazów. zbadano pięć serii cienkich warstw tlenku wolframu, które zostały wytworzone w procesach rozpylania magnetronowego w atmosferze mieszaniny gazu roboczego (ar) oraz reaktywnego (O2) o różnej zawartości tlenu, tj. od 5% do 15%. Każdy z procesów przeprowadzany był przy tej samej wartości ciśnienia, odległości target - podłoże oraz w tym samym czasie. Grubość cienkich warstw zmierzona za pomocą profilometru optycznego wynosiła około 160 nm. zauważono, że wraz ze zwiększaniem się udziału gazu reaktywnego w procesie próbki zmieniały barwę od metalicznej, przez ciemnogranatową, po błękitną, jednocześnie stając się coraz bardziej przezroczyste. Pomiary właściwości elektrycznych wykonane za pomocą sondy czteroostrzowej, a także właściwości optycznych przeprowadzone z użyciem spektrofotometru wykazały, że zwiększanie udziału tlenu w procesie powodowało wzrost średniej transmisji światła w zakresie widzialnych długości fal oraz rezystywności cienkich warstw. W artykule przeanalizowano również współczynniki Figure of Merit określające jakość badanej próbki. Największą wartość współczynnika doskonałości otrzymano dla cienkiej warstwy tlenku wolframu, odznaczającej się stosunkowo dużą średnią transmisją światła w zakresie widzialnym przy niskiej wartości rezystywności. Przeprowadzone badania wykazały, że atmosfera gazowa podczas procesu rozpylania magnetronowego istotnie wpływa na właściwości optyczne i elektryczne cienkich warstw tlenku wolframu, co stwarza możliwość projektowania cienkowarstwowych powłok przeznaczonych do stosowania w transparentnej elektronice.
In this article, optical and electrical properties of tungsten oxide thin films, prepared by magnetron sputtering in the atmosphere of various oxygen content, were analysed. Tungsten oxide is a material, which is widely used in modern applications such as smart windows, antisteam mirrors, and gas sensors. Five sets of tungsten oxide thin films were deposited by magnetron sputtering in the mixed argon-oxygen atmosphere composed of various content of reactive gas, i.e., from 5% to 15%. In each case, other deposition process parameters were the same. The thickness of the thin films was ca. 160 nm and it was measured with the optical profilometer. it was noticed that along with the increase in the proportion of reactive gas in the process, thin film samples changed their colour from metallic, through navy blue to blue and simultaneously they became increasingly transparent. Measurements of electrical properties, made using the four-point probe and optical properties, performed with the aid of a spectrophotometer showed that increasing the proportion of oxygen in the process increased the average transmission in the visible wavelength range and the resistivity of the prepared WOx thin films. in the article, the Figure of Merit (FoM) coefficients are also presented, which determine the quality of the thin film samples. it was shown that the highest value of the FoM was observed for WOx thin film characterised by a relatively high average transmission in the visible wavelength range and low value of resistivity. The performed measurements showed that the gas atmosphere during magnetron sputtering process leads to the tailoring of the optical and electrical properties of tungsten oxide thin films, which in turn makes it possible to design and apply such thin film coatings in transparent electronics.
Źródło:: Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2022, 71, 2; 15--25
1234-5865
Pojawia się w:: Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Informacja

Wyszukujesz frazę "rozpylanie elektryczne" wg kryterium: Temat

Źródło danych

Dostawca treści

Kolekcja

Rok wydania

Wydawca

Temat

Autor

Typ dokumentu

Język