- Tytuł:
-
Właściwości twardych powłok AlCrTiN/TiN osadzanych na podłożach ze stopu magnezu AZ91D metodą łukowo-próżniową z zastosowaniem pulsacyjnej polaryzacji podłoża
The properties of AlCrTiN/TiN hard coatings deposited on an AZ91D magnesium alloy by the cathodic arc deposition method using a pulse bias voltage - Autorzy:
-
Bujak, J.
Słomka, Z. - Powiązania:
- https://bibliotekanauki.pl/articles/256486.pdf
- Data publikacji:
- 2013
- Wydawca:
- Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
- Tematy:
-
pulsacyjna polaryzacja podłoży
powłoki wielowarstwowe AlCrTiN/TiN
metoda łukowo-próżniowa
morfologia
chropowatość
właściwości mechaniczne
adhezja
pulse bias voltage
multilayer AlCrTiN/TiN coatings
cathodic arc deposition method
morphology
roughness
mechanical properties
adhesion - Opis:
-
W artykule przedstawiono wyniki badania wpływu pulsacyjnej polaryzacji podłoża na wybrane właściwości wielowarstwowych powłok AlCrTiN/TiN, osadzanych metodą łukowo-próżniową na stopie odlewniczym o obniżonej odporności termicznej. Analiza wyników wykazała, że powłoki AlCrTiN/TiN osadzone na stopie AZ91D z zastosowaniem pulsacyjnej polaryzacji podłoża charakteryzują się - w porównaniu z powłokami wytworzonymi z wykorzystaniem stałego ujemnego napięcia polaryzacji - porównywalną lub wyższą twardością, adhezją oraz mniejszym zdefektowaniem powierzchni. Ponadto wykorzystanie pulsacyjnego napięcia polaryzacji pozwala obniżyć temperaturę pokrywanych podłoży nawet o 20%.
The authors present the results of testing an effect of pulse bias voltage on the selected properties of the multilayer AlCrTiN/TiN coatings, which were deposited by the cathodic arc process on a cast magnesium alloy having a lowered thermal resistance. The analysis of the results obtained shows that the AlCrTiN/TiN coatings deposited on the AZ91D alloy using a pulse bias voltage have a similar or higher hardness and adhesion also fewer surface defects when compared to coatings deposited applying a dc negative bias voltage. Moreover, for the cathodic arc deposition using pulse bias voltage, the temperature of the substrate can be reduced by even up to 20%. - Źródło:
-
Problemy Eksploatacji; 2013, 1; 113-125
1232-9312 - Pojawia się w:
- Problemy Eksploatacji
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł