Temat: odbłyśnik - Katalog OPAC zbiorów

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Zastosowanie ograniczeń liniowych w optymalizacji kształtu odbłyśnika
Optimization of reflector shape using linear constraints
Autorzy:: Wandachowicz, K.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/376245.pdf
Data publikacji:: 2012
Wydawca:: Politechnika Poznańska. Wydawnictwo Politechniki Poznańskiej
Tematy:: odbłyśnik
optymalizacja kształtu odbłyśnika
obliczenia optymalizacyjne
Opis:: W artykule przedstawiono wyniki badań dotyczących obliczania kształtu zwierciadlanego odbłyśnika, który zapewnia uzyskania rozkładu natężania oświetlenia o zakładanej równomierności. Obliczenia optymalizacyjne przeprowadzono z udziałem algorytmu genetycznego oraz algorytmu wykorzystującego metodę przeszukiwań bezpośrednich. W obu algorytmach wprowadzono ograniczenia przeszukiwanego obszaru.
There are presented research results that concern of calculation of mirror reflector profile that is using for obtaining the highest value of average illumination and uniformity ratio on the illuminated surface. The direct search and genetic algorithm optimization methods with linear inequality constraints were used.
Źródło:: Poznan University of Technology Academic Journals. Electrical Engineering; 2012, 69; 257-265
1897-0737
Pojawia się w:: Poznan University of Technology Academic Journals. Electrical Engineering
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Wielokryterialna optymalizacja kształtu odbłyśnika
Multiobjective optimization of reflector shape
Autorzy:: Wandachowicz, K.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/376877.pdf
Data publikacji:: 2013
Wydawca:: Politechnika Poznańska. Wydawnictwo Politechniki Poznańskiej
Tematy:: odbłyśnik
algorytm genetyczny
natężenie oświetlenia
równomierność oświetlenia
Opis:: W artykule przedstawiono wyniki badań dotyczących obliczania kształtu zwierciadlanego odbłyśnika, który zapewnia uzyskania jak największej wartości średniego natężenia oświetlenia oraz równomierności oświetlenia. Obliczenia optymalizacyjne przeprowadzono z zastosowaniem wielokryterialnego algorytmu genetycznego.
There are presented research results that concern of calculation of mirror reflector profile that is using for obtaining the highest value of average illumination and uniformity ratio on the illuminated surface. The Multiobjective optimization with evolutiony algorithm was used.
Źródło:: Poznan University of Technology Academic Journals. Electrical Engineering; 2013, 73; 183-192
1897-0737
Pojawia się w:: Poznan University of Technology Academic Journals. Electrical Engineering
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Wpływ kierunku oświetlania powierzchni na bryłę fotometryczną
Influence of the direction of surface illumination on luminous intensity distribution
Autorzy:: Tabaka, P.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/158945.pdf
Data publikacji:: 2007
Wydawca:: Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:: odbłyśnik
światłość
kąt padania światła
bryła fotometryczna
Opis:: Pełne dane dotyczące właściwości refleksyjnych materiałów zawiera bryła fotometryczna światłości (lub luminancji) światła odbitego od powierzchni rozpatrywanego materiału przy jednoznacznie zdefiniowanej geometrii wiązki świetlnej padającej. Taką bryłę można wyznaczyć za pomocą stanowiska pomiarowego, którego geometrię przedstawiono w niniejszej publikacji. Stanowisko to nadaje się do pomiarów zarówno próbek materiałów odbłyśnikowych, jak i innych stosowanych np. w projektowaniu wystroju wnętrz. Pomiarom poddano płaską próbkę kwadratową z rzeczywistego materiału wykorzystywanego w produkcji opraw oświetleniowych. Dla danego kierunku oświetlania otrzymuje się jedną bryłę fotometryczną. Kształt bryły zmienia się wraz ze zmianą kąta padania światła, co można zaobserwować na zamieszczonych rysunkach.
Complete data regarding the reflex characteristics of the materials present the luminous intensity distribution of light reflected by the surface of the material under study with the unequivocally defined geometry of falling light beam. Such distribution can be elaborated by means of measurement stand which layout is presented in the paper. The stand is useful for the measurement studies of both the reflex materials samples and others, used i.e. in room decoration. Measurements have been performed with the flat square sample of real material utilized in luminaires production. For each direction of illumination a single luminous intensity distribution is obtained. The shape of the distribution is varying while the light entrance angle changes what can be observed in figures.
Źródło:: Prace Instytutu Elektrotechniki; 2007, 232; 85-95
0032-6216
Pojawia się w:: Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Informacja

Wyszukujesz frazę "odbłyśnik" wg kryterium: Temat

Źródło danych

Dostawca treści

Kolekcja

Rok wydania

Wydawca

Temat

Autor

Typ dokumentu

Język