- Tytuł:
-
Fabrication of computer generated holograms using hot embossing nano imprint lithography
Technologia wytwarzania replik hologramów syntetycznych w procesach tłoczenia na gorąco - Autorzy:
-
Rojek, A.
Kowalik, A.
Podgórski, J. - Powiązania:
- https://bibliotekanauki.pl/articles/192198.pdf
- Data publikacji:
- 2018
- Wydawca:
- Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
- Tematy:
-
hot embossing nano imprint lithography
nanoimprint
computer generated holograms
tłoczenie na gorąco
hologramy syntetyczne - Opis:
-
The article presents the investigation to develop a technology for fabricating micro-and nanostructures of a high dimensional precision using the processes of Hot Embossing Nano Imprint Lithography. The research was carried out for three thermoplastic polymers, i.e. poly(methyl methacrylate), olefin copolymer and polycarbonate in order. The process parameters and pattern correction coefficients for shrinkage compensation have been determined. The accuracy better than 1.25 x 10-3 % has been reached for the pattern replicated onto olefin copolymer substrates.
W artykule przedstawiono technologię wytwarzania kopii (replik) mikro- i nanostruktur o dużej precyzji wymiarowej w procesach tłoczenia na gorąco (Hot Embossing Nano Imprint Lithography). Badania prowadzono dla trzech polimerów termoplastycznych - polimetakrylanu metylu, kopolimeru olefinowego oraz poliwęglanu. określono warunki procesów i współczynniki korekty wzorów kompensujące skurcz towarzyszący kopiowaniu struktur. Uzyskano repliki, dla których względny błąd wymiarów poprzecznych wynosił poniżej 1.25 x 10-3 %. - Źródło:
-
Materiały Elektroniczne; 2018, T.46, nr 1-4, 1-4; 3-7
0209-0058 - Pojawia się w:
- Materiały Elektroniczne
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł