Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "metoda rozpylania magnetronowego" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Optimised magnetron sputtering method for the deposition of indium tin oxide layers
Autorzy:
Musztyfaga-Staszuk, Małgorzata
Pudiš, Dušan
Socha, Robert
Gawlińska-Nęcek, Katarzyna
Panek, Piotr
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2090684.pdf
Data publikacji:
2021
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
In2O3
Sn2O
ITO
magnetron sputtering method
metoda rozpylania magnetronowego
Opis:
The article presents the method of magnetron sputtering for the deposition of conductive emitter coatings in semiconductor structures. The layers were applied to a silicon substrate. For optical investigations, borosilicate glasses were used. The obtained layers were subjected to both optical and electrical characterisation, as well as structural investigations. The layers on silicon substrates were tested with the four-point probe to find the dependence of resistivity on the layer thickness. The analysis of the elemental composition of the layer was conducted using a scanning electron microscope equipped with an EDS system. The morphology of the layers was examined with the atomic force microscope (AFM) of the scanning electron microscope (SEM) and the structures with the use of X-ray diffraction (XRD). The thickness of the manufactured layers was estimated by ellipsometry. The composition was controlled by selecting the target and the conditions of the application, i.e. the composition of the plasma atmosphere and the power of the magnetrons. Based on the obtained results, this article aims to investigate the influence of the manufacturing method and the selected process parameter on the optical properties of thin films, which should be characterised by the highest possible value of the transmission coefficient (>85–90%) and high electrical conductivity.
Źródło:
Bulletin of the Polish Academy of Sciences. Technical Sciences; 2021, 69, 6; e139005, 1--6
0239-7528
Pojawia się w:
Bulletin of the Polish Academy of Sciences. Technical Sciences
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Mikrokomputerowy system sterowania przemysłową linią próżniową do nanoszenia cienkich warstw metodą jonowego rozpylania magnetronowego
Microcomputer control system for an industrial, technological equipment for thin film deposition by means of the ion sputtering method
Autorzy:
Marszałek, K.
Dziadecki, A.
Żegleń, T.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/152416.pdf
Data publikacji:
2002
Wydawca:
Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
Tematy:
mikrokomputerowy system sterowania
przemysłowa linia próżniowa
metoda jonowego rozpylania magnetronowego
microcomputer control system
technological equipment
Opis:
The paper presents a description of a microcomputer control system for an industrial, technological equipment for thin film deposition by means of the ion sputtering method. The construction of the vacuum part of the equipment as well as supply and controlling system is presented. Computer program with different working modes of the system and the methods of controlling such system parameters like the sputtering current, transport velocity of the substrates, pressure of the working gas and substrate temperature.
Źródło:
Pomiary Automatyka Kontrola; 2002, R. 48, nr 3, 3; 5-8
0032-4140
Pojawia się w:
Pomiary Automatyka Kontrola
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies