Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "in situ spectroscopy" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
A multi-band integrated virtual calibration-inversion method for open path FTIR spectrometry
Autorzy:
Cięszczyk, S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/221293.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
FTIR
in situ spectroscopy
open path
process diagnostics
Opis:
This paper addresses problems arising from in situ measurement of gas content and temperature. Such measurements can be considered indirect. Transmittance or natural radiation of a gas is measured directly. The latter method (spectral radiation measurement) is often called spectral remote sensing. Its primary uses are in astronomy and in the measurement of atmospheric composition. In industrial processes, in situ spectroscopic measurements in the plant are often made with an open path Fourier Transform Infrared (FTIR) spectrometer. The main difficulty in this approach is related to the calibration process, which often cannot be carried out in the manner used in the laboratory. Spectral information can be obtained from open path spectroscopic measurements using mathematical modeling, and by solving the inverse problem. Determination of gas content based on spectral measurements requires comparison of the measured and modeled spectra. This paper proposes a method for the simultaneous use of multiple lines to determine the gas content. The integrated absorptions of many spectral lines permits calculation of the average band absorption. An inverse model based on neural networks is used to determine gas content based on mid-infrared spectra at variable temperatures.
Źródło:
Metrology and Measurement Systems; 2013, 20, 2; 287-298
0860-8229
Pojawia się w:
Metrology and Measurement Systems
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
System optoelektroniczny do kontroli procesów ΜPA CVD
Optoelectronic system for control of ΜPA CVD processes
Autorzy:
Bogdanowicz, R.
Gnyba, M.
Wroczyński, P.
Leśniewski, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/153808.pdf
Data publikacji:
2008
Wydawca:
Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
Tematy:
spektroskopia emisyjna
spektroskopia ramanowska
CVD
diagnostyka optyczna in-situ
warstwy diamentopodobne
optical emission spectroscopy
Raman spectroscopy
in situ optical diagnostics
diamond-like carbon films
Opis:
Przedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monito-rowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych DLC. Wyniki monitorowania mogą być wykorzystywane do sterowania procesem.
Prototype of optoelectronic monitoring system dedicated for in-situ diagnostics of microwave plasma assisted CVD processes was presented in this paper. The system uses optical emission spectroscopy OES and long-working-distance Raman spectroscopy RS. Such an approach enables simultaneous investigations of particle composition of the plasma and nucleation processes in the growing layer (growth ratio, phase defects). Thus, correlation between process parameters, plasma composition and layer quality can be determined. Results of investigation carried out for thin diamond-like-carbon DLC films synthesis process were presented. Obtained results can be used for efficient control of CVD process.
Źródło:
Pomiary Automatyka Kontrola; 2008, R. 54, nr 3, 3; 87-90
0032-4140
Pojawia się w:
Pomiary Automatyka Kontrola
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Raman modular system with fibre-optic probes for remote monitoring of CVD process
Modułowy system ramanowski z sondami światłowodowymi do zdalnego monitorowania procesów CVD
Autorzy:
Gnyba, M.
Bogdanowicz, R.
Wroczyński, P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/256741.pdf
Data publikacji:
2006
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
spektroskopia ramanowska
monitoring in-situ
sonda światłowodowa
CVD
cienka warstwa diamentowa
Raman spectroscopy
in-situ monitoring
fibre-optic probe
chemical vapour deposition
diamond thin film
Opis:
Dedicated Raman system was designed for in-situ monitoring of thin film growth in CVD (chemical vapour deposition) process. Review of monitoring requirements and limiting factors is given in this paper. Computer simulation of laser beam propagation in the CVD chamber and the thin film was carried out. Components for Raman optical probes and their configuration were selected using results of the modelling. Ex-situ investigation of the thin films enabled determination of the Raman scattering intensity. The prototype of the modular Raman system using fibre-optic probes was built. Efficiency of optical signal transmission through the probes was tested.
W artykule przedstawiono projekt systemu ramanowskiego do monitorowania in-situ wzrostu cienkich warstw w procesie CVD i analizę związanych z tym problemów metrologicznych. Na podstawie wyników modelowania komputerowego wprowadzania wiązki laserowej do komory i jej propagacji w cienkiej warstwie wytypowano optymalną konfigurację optyczną systemu ramanowskiego i określono parametry optyczne jego elementów. Zbudowano prototyp modułowego wyposażonego w sondy światłowodowe. Wykonano pomiary wstępne obejmujące badania ex-situ generacji sygnału ramanowskiego w wybranych materiałach oraz testy sondy nadawczej na stole optycznym.
Źródło:
Problemy Eksploatacji; 2006, 4; 115-127
1232-9312
Pojawia się w:
Problemy Eksploatacji
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies