Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "fotolitografia" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
Mikrostruktury i mikrosystemy - nowoczesne metody wytwarzania
Microstructures and microsystems - new methods of production
Autorzy:
Sulima, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/159249.pdf
Data publikacji:
2003
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
fotolitografia
mikrostruktura
nanostruktura
nanorurka
kropka kwantowa
Opis:
W artykule przedstawiono podstawowe informacje o dotychczas stosowanych różnych metodach wytwarzania mikro- i nanostruktur. Scharakteryzowano procesy fotolitografii LIGA oraz metody wytwarzania nanorurek i kropek kwantowych. Porównano właściwości przedstawionych metod.
Miniaturisation of electronic devices: sensors, actuators etc occurs usually by using a suitable technology e.g.: photolithography, LIGA, chemical and plasma treatment of semiconductors. Photolithography is a specific variant of photography. This process consists of two stages: performing a mask and using the mask to produce duplicates. The mask is made of metal (chrome) spread on a glass or quartz wafer. In the next stage the mask is irradiated by ultraviolet rays (X-rays or an electron beam). The places when rays fall are selectively removed from the wafer by dry or wet etching. The other method is the soft photolithography which uses the soft polymer PDMS to carry out "stamping", this matrix can be them used for various purposes among others for: microcontact printing and capillary forming. The next stage is lithography with wet blade. It is a method using the microscope of atom forces. On this blade (it is to area of gold and make a self - assembled monolayer. Using the microscope of atom force it is possible to draw a very thin line which can be some atoms thick. The next method LIGA uses the synchrotron (circular accelerator of charged particles). The X-rays from a synchrotron source fall through a special mask onto a thick photoresist layer which covers a conductive substrate. The pattern formed is then electroplated with metal. The metal structures produced can be the final product, however it is common to produce a metal mould. This mould can then be filled with a suitable material, such as plastic, to produce the finished product made of that material. This is a high precision method but it is very expensive. The next group of technology are methods which produce nanotubes and quantum dots. Quantum dots are crystals made of several hundred atoms. One of the methods which produces these structures is the chemical reaction between metallic ions (cadmium) and selenium ions, which gives cadmium selenide as a result. Nanotubes are structures made of carbon atoms and can be produced in three stage: - the electric arc method - uses graphite electrodes and electric arc phenomena, - the CVD method - uses chemical reaction, - the laser method uses laser rays.
Źródło:
Prace Instytutu Elektrotechniki; 2003, 216; 17-29
0032-6216
Pojawia się w:
Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
A note on optical materials for photolithography applications
Autorzy:
Jain, A.
Roszkiewicz, A.
Nasalski, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/31342991.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Instytut Podstawowych Problemów Techniki PAN
Tematy:
optical lithography
photoresist
graphene
photonic
fotolitografia
fotorezyst
grafen
fotonika
Opis:
Optical lithography or photolithography is well-established optical tool for patterning of substrates, layers or photonic crystals. Therefore, the materials involved in these processes play an important role, especially for the possibility of their further advancements and optimisation. In this review article, we discuss on the role and significance of photoresist materials from various perspectives like their performance in photonic applications and their dependence on various physical and chemical parameters. Further, several emerging now two-dimensional materials like graphene has also been discussed from photonic point of view. We aim to give a short overview of recent developments of such materials in this field.
Fotolitografia jest dobrze znanym procesem pozwalającym na tworzenie wzorów na podłożach, warstwach czy kryształach fotonicznych. W związku z tym materiały wykorzystywane w tym procesie pełnią istotną rolę, zwłaszcza ze względu na dalszy możliwy rozwój dziedziny oraz optymalizację procesu. W tym artykule przeglądowym omawiamy rolę i znaczenie fotorezystu z różnych perspektyw, np. jego wydajność w zastosowaniach fotonicznych czy zależność od różnych parametrów fizycznych i chemicznych. Ponadto, omawiamy wiele powstających obecnie dwuwymiarowych materiałów, jak grafen, z punktu widzenia fotoniki. Naszym celem jest przedstawienie krótkiego przeglądu ostatnich osiągnięć w dziedzinie tego typu materiałów wykorzystywanych w fotolitografii.
Źródło:
IPPT Reports on Fundamental Technological Research; 2018, 3; 1-41
2299-3657
Pojawia się w:
IPPT Reports on Fundamental Technological Research
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Techniczne aspekty izolacji krążących komórek nowotworowych (KKN) z użyciem sita molekularnego
Technical aspects of circulating tumor cells (CTC) isolation using molecular sieve
Autorzy:
Pastuszka, P.
Bogdanowicz, Z.
Kowalik, A.
Gruszczyński, K.
Łapiński, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/211182.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
Tematy:
sito molekularne
wzbogacanie krążących komórek nowotworowych
KKN
fotolitografia laserowa
ablacja laserowa
molecular sieves
circulating tumor cells(CTC)
CTC
enrichment
laser photolithography
laser ablation
Opis:
W artykule przedstawiono charakterystykę krążących komórek nowotworowych (KKN) w kontekście ich wzbogacania. Pokazano możliwość stosowania sit molekularnych w procesie izolacji KKN. Wyróżniono istotne czynniki techniczne mające wpływ na skuteczność wzbogacania KKN z użyciem sit molekularnych oraz wskazano konieczność kompromisowego doboru tych parametrów. Przedstawiono konstrukcję sita 2D opracowaną w ramach działalności Centrum Inżynierii Biomedycznej WAT. Wskazano dalsze kierunki badań zakładające użycie tej konstrukcji do filtra molekularnego w formie stosu sit.
The article presents the characteristics of circulating tumor cells (CTC) in the context of their enrichment. It presents the possibility of the use of molecular sieves in CTC isolation. It shows important technical factors affecting the efficiency of CTC enrichment using molecular sieves and indicates the necessity of compromise choice of these parameters. It shows 2D molecular sieve construction made within the Biomedical Engineering Centre of MUT. It presents the future directions of research which assumes the use of this construction for a molecular filter in the form of sieve stack.
Źródło:
Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2017, 66, 1; 41-54
1234-5865
Pojawia się w:
Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies