Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "extreme ultraviolet" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-2 z 2
    Tytuł:
    Elementy optyczne pracujące w widmowym zakresie obejmującym ultrafiolet próżniowy i miękkie promieniowanie rentgenowskie
    Optical elements for the extreme ultraviolet and soft X-ray range
    Autorzy:
    Wardzińska, Martyna
    Wachulak, Przemysław
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/2203159.pdf
    Data publikacji:
    2022
    Wydawca:
    Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
    Tematy:
    automatyka
    elektronika i elektrotechnika
    optyka rentgenowska
    filtry optyczne
    zwierciadła wielowarstwowe
    siatki dyfrakcyjne
    płytki strefowe Fresnela
    ultrafiolet próżniowy
    miękkie promieniowanie rentgenowskie
    automation
    electronic and electrical engineering
    soft X-ray
    extreme ultraviolet
    optical elements
    optical filters
    multilayer mirrors
    diffraction gratings
    Fresnel zone plates
    Opis:
    W artykule zawarto podstawy fizyczne i przegląd elementów optycznych do pracy w zakresie obejmującym ultrafiolet próżniowy (eUV) oraz miękkie promieniowanie rentgenowskie (SXr). Pierwszy rozdział obejmuje wprowadzenie do analizowanej tematyki i podstawy fizyczne. W drugim rozdziale przedstawione zostały podstawy działania optyki związanej z zakresem eUV/SXr wraz z wyróżnieniem jej wad oraz zalet. W trzecim rozdziale szczegółowo omówiono elementy optyczne, takie jak: filtry optyczne, zwierciadła (m.in. wielowarstwowe), siatki dyfrakcyjne, płytki strefowe Fresnela oraz rozwiązania hybrydowe. rozdział czwarty przedstawia szeroki obszar zastosowań optyki eUV/SXr. W ostatnim rozdziale znajduje się podsumowanie przedstawionych wcześniej informacji.
    The article presents the physical basis and overview of optical elements for the range including extreme ultraviolet (eUV) and soft X-ray (SXr). The first chapter contains an introduction to the subject under review and physical fundamentals. The second chapter presents the basics of optics for the eUV/SXr range, along with highlighting its advantages and disadvantages. The third chapter discusses in detail optical components such as optical filters, mirrors (including multilayers), diffraction gratings, Fresnel zone plates, and hybrid solutions. The fourth chapter presents a wide range of applications of eUV/SXr optics. The final chapter summarises the information presented earlier.
    Źródło:
    Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2022, 71, 2; 49--83
    1234-5865
    Pojawia się w:
    Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Investigation of low-temperature plasmas formed in low-density gases surrounding laser-produced plasmas
    Autorzy:
    Majszyk, Mateusz
    Bartnik, Andrzej
    Skrzeczanowski, Wojciech
    Fok, Tomasz
    Węgrzyński, Łukasz
    Szczurek, Mirosław
    Fiedorowicz, Henryk
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/2202566.pdf
    Data publikacji:
    2023
    Wydawca:
    Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
    Tematy:
    extreme ultraviolet
    EUV
    laser plasma
    low pressure
    photoionization
    plasma
    soft X-ray
    SXR
    Opis:
    Low-temperature plasma production is possible as a result of photoionization using high-intensity extreme ultraviolet (EUV) and soft X-ray (SXR) pulses. Plasma of this type is also present in outer space, e.g., aurora borealis. It also occurs when high-velocity objects enter the atmosphere, during which period high temperatures can be produced locally by friction. Low-temperature plasma is also formed in an ambient gas surrounding the hot laser-produced plasma (LPP). In this work, a special system has been prepared for investigation of this type of plasma. The LPP was created inside a chamber fi lled with a gas under a low pressure, of the order of 1–50 mbar, by a laser pulse (3–9 J, 1–8 ns) focused onto a gas puff target. In such a case, the SXR/EUV radiation emitted from the LPP was partially absorbed in the low-density gas. In this case, high- and low-temperature plasmas (Te ~100 eV and ~1 eV, respectively) were created locally in the chamber. Investigation of the EUV-induced plasmas was performed mainly using spectral methods in ultraviolet/visible (UV/VIS) light. The measurements were performed using an echelle spectrometer, and additionally, spatial–temporal measurements were performed using an optical streak camera. Spectral analysis was supported by the PGOPHER numerical code.
    Źródło:
    Nukleonika; 2023, 68, 1; 11--17
    0029-5922
    1508-5791
    Pojawia się w:
    Nukleonika
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-2 z 2

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies