Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "extreme ultraviolet" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Investigation of low-temperature plasmas formed in low-density gases surrounding laser-produced plasmas
Autorzy:
Majszyk, Mateusz
Bartnik, Andrzej
Skrzeczanowski, Wojciech
Fok, Tomasz
Węgrzyński, Łukasz
Szczurek, Mirosław
Fiedorowicz, Henryk
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2202566.pdf
Data publikacji:
2023
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
extreme ultraviolet
EUV
laser plasma
low pressure
photoionization
plasma
soft X-ray
SXR
Opis:
Low-temperature plasma production is possible as a result of photoionization using high-intensity extreme ultraviolet (EUV) and soft X-ray (SXR) pulses. Plasma of this type is also present in outer space, e.g., aurora borealis. It also occurs when high-velocity objects enter the atmosphere, during which period high temperatures can be produced locally by friction. Low-temperature plasma is also formed in an ambient gas surrounding the hot laser-produced plasma (LPP). In this work, a special system has been prepared for investigation of this type of plasma. The LPP was created inside a chamber fi lled with a gas under a low pressure, of the order of 1–50 mbar, by a laser pulse (3–9 J, 1–8 ns) focused onto a gas puff target. In such a case, the SXR/EUV radiation emitted from the LPP was partially absorbed in the low-density gas. In this case, high- and low-temperature plasmas (Te ~100 eV and ~1 eV, respectively) were created locally in the chamber. Investigation of the EUV-induced plasmas was performed mainly using spectral methods in ultraviolet/visible (UV/VIS) light. The measurements were performed using an echelle spectrometer, and additionally, spatial–temporal measurements were performed using an optical streak camera. Spectral analysis was supported by the PGOPHER numerical code.
Źródło:
Nukleonika; 2023, 68, 1; 11--17
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Elementy optyczne pracujące w widmowym zakresie obejmującym ultrafiolet próżniowy i miękkie promieniowanie rentgenowskie
Optical elements for the extreme ultraviolet and soft X-ray range
Autorzy:
Wardzińska, Martyna
Wachulak, Przemysław
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2203159.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
Tematy:
automatyka
elektronika i elektrotechnika
optyka rentgenowska
filtry optyczne
zwierciadła wielowarstwowe
siatki dyfrakcyjne
płytki strefowe Fresnela
ultrafiolet próżniowy
miękkie promieniowanie rentgenowskie
automation
electronic and electrical engineering
soft X-ray
extreme ultraviolet
optical elements
optical filters
multilayer mirrors
diffraction gratings
Fresnel zone plates
Opis:
W artykule zawarto podstawy fizyczne i przegląd elementów optycznych do pracy w zakresie obejmującym ultrafiolet próżniowy (eUV) oraz miękkie promieniowanie rentgenowskie (SXr). Pierwszy rozdział obejmuje wprowadzenie do analizowanej tematyki i podstawy fizyczne. W drugim rozdziale przedstawione zostały podstawy działania optyki związanej z zakresem eUV/SXr wraz z wyróżnieniem jej wad oraz zalet. W trzecim rozdziale szczegółowo omówiono elementy optyczne, takie jak: filtry optyczne, zwierciadła (m.in. wielowarstwowe), siatki dyfrakcyjne, płytki strefowe Fresnela oraz rozwiązania hybrydowe. rozdział czwarty przedstawia szeroki obszar zastosowań optyki eUV/SXr. W ostatnim rozdziale znajduje się podsumowanie przedstawionych wcześniej informacji.
The article presents the physical basis and overview of optical elements for the range including extreme ultraviolet (eUV) and soft X-ray (SXr). The first chapter contains an introduction to the subject under review and physical fundamentals. The second chapter presents the basics of optics for the eUV/SXr range, along with highlighting its advantages and disadvantages. The third chapter discusses in detail optical components such as optical filters, mirrors (including multilayers), diffraction gratings, Fresnel zone plates, and hybrid solutions. The fourth chapter presents a wide range of applications of eUV/SXr optics. The final chapter summarises the information presented earlier.
Źródło:
Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2022, 71, 2; 49--83
1234-5865
Pojawia się w:
Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies