- Tytuł:
-
Electrowinning Of Tellurium From Acidic Solutions
Otrzymywanie telluru metodą elektrochemiczną z roztworów kwaśnych - Autorzy:
-
Kowalik, R.
Kutyła, D.
Mech, K.
Tokarski, T.
Żabiński, P. - Powiązania:
- https://bibliotekanauki.pl/articles/351491.pdf
- Data publikacji:
- 2015
- Wydawca:
- Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
- Tematy:
-
tellurium
electrolysis
electrodeposition
cyclic voltammetry
electrochemical quartz microbalance
tellur
elektroliza
elektroosadzanie
woltamperometria cykliczna
elektrochemiczne mikrowagi kwarcowe - Opis:
-
The process of electrochemical deposition of tellurium was studied. Preliminary researches embrace the voltammetry and microgravimetric measurements. According to the results the electrolysis of tellurium was conducted under potentiostatic conditions. There was no deposition of tellurium above potential −0.1 vs. Ag/AgCl electrode in 25°C. The process of deposition is observed in the range of potentials −0.1 to −0.3 V vs. Ag/AgCl. The presence of tellurium was confirmed by XRF and XRD. The obtained deposits were homogenous and compact. Below potential −0.3 V vs. Ag/AgCl the Faradaic efficiency of the tellurium deposition decreased due to reduction of Te to H2Te and hydrogen evolution.
Przeprowadzono badania obejmujące możliwość otrzymywania telluru z roztworów kwaśnych metodą elektrochemiczną. Badania wstępne obejmowały analizę mechanizmu osadzania telluru z wykorzystaniem cyklicznej woltamperometrii oraz elektrochemicznej mikrowagi kwarcowej. Na podstawie otrzymanych wyników przeprowadzono proces elektrolizy w warunkach potencjostatycznych. W temperaturze 25°C powyżej potencjału −0.1 V względem elektrody chlorosrebrowej nie zachodzi proces osadzania telluru. W zakresie potencjałów od −0.1 do −0.3 V względem elektrody chlorosrebrowej następuje jego osadzanie na katodzie. Obecność tellury była potwierdzona metodami XRD i XRF. Osady otrzymane w omawianym zakresie parametrów charakteryzowały się zwartą i jednorodną budową. Poniżej potencjału −0.3 V względem elektrody chlorosrebrowej wydajność oraz szybkość procesu osadzania telluru ulegają obniżeniu w wyniku występowania reakcji konkurencyjnych: redukcji Te do H2Te oraz wydzielania wodoru. - Źródło:
-
Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 2A; 591-596
1733-3490 - Pojawia się w:
- Archives of Metallurgy and Materials
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł