Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "cienkie warstwy" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
Wyświetlanie 1-15 z 32
Tytuł:
Nowa metoda pomiaru lepkości ultracienkich warstw polimerów
New method for measurement of viscosity of ultrathin polymeric films
Autorzy:
Jarząbek, D.
Rymuza, Z.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/157074.pdf
Data publikacji:
2011
Wydawca:
Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
Tematy:
lepkość
cienkie warstwy
polimery
viscosity
ultrathin films
polymers
Opis:
W artykule przedstawiono nową, metodę pomiaru lepkości ultracienkich warstw polimerów. Polega ona na zanurzeniu w warstwie drgającej sondy pomiarowej. Na podstawie zmian częstotliwości rezonansowej oraz fazy jej drgań można wyznaczyć wartość lepkości w funkcji głębokości zanurzenia. Grubość najcieńszej przebadanej warstwy wynosiła 30 nm, a dokładność pomiaru lepkości około 10%. Otrzymane wyniki są zgodne z przewidywaniami oraz z wynikami otrzymywanymi innymi metodami. Nowa metoda pomiarowa może być przydatna w rozwoju nowych technologii takich jak proces nanoimprint lithography.
A new method of measurement viscosity of thin polymeric films is presented. The probe, which is placed on the end of the arm of the mini tuning fork (Fig. 2) is made to oscillate and than is put into the PMMA (poly(methyl methacrylate)) films. Because of the rheological properties of measured samples, the amplitude and resonant frequency are changed. Simple mathematical model of probe, which is immersed partially into a liquid and oscillates, was elaborated. Thirteen samples were examined which differed from each other by the thickness of the film and the molecular weight. The thickness of the films is from 30 nm up to 1080 nm (Tab. 1). All measured properties are depended on temperature, thickness of the film, the depth of indentation of the probe and the molecular weight of PMMA. The viscosity is lower in higher temperatures (Fig. 5) but higher with bigger molecular weight (Fig. 6). They are also lower for thicker films. The results gained from this experiment may be useful in development of nanoimprint lithography and many other branches of nanotechnology. What is more, the method gives a possibility of fast and precise measure-ment of rheological properties of many different thin films in function of temperature.
Źródło:
Pomiary Automatyka Kontrola; 2011, R. 57, nr 7, 7; 697-700
0032-4140
Pojawia się w:
Pomiary Automatyka Kontrola
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Increasing the cost-effectiveness of in vitro research through the use of titanium in the device for measuring the electrical parameters of cells
Zwiększenie efektywności kosztowej prowadzeniabadań in vitropoprzez zastosowanie tytanu w urządzeniu do pomiaru parametrów elektrycznych komórek
Autorzy:
Zarzeczny, Dawid
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2070272.pdf
Data publikacji:
2021
Wydawca:
Politechnika Lubelska. Wydawnictwo Politechniki Lubelskiej
Tematy:
bioimpedance
titanium
MEMS
thin films
bioimpedancja
tytan
cienkie warstwy
Opis:
Currently, various methods are used to assess the biocompatibility of materials. After an in-depth and detailed review of the literature, the method used in the research was selected. As part of the experiments, a method based on the analysis of the values of electrical parameters of cell cultures measured in the presence of electrodes was used. The electrode is a structure made of a thin layer of metallization. It measures the change in resistance, impedance and capacity of a mixture of cells and the substance in which they are grown. The plate containing the electrode assembly is called the measurement matrix. Currently, commercially used test matrices are made of gold or platinum. However, their high price means that large-scale research is significantly limited. In order to increase the access to the widespread use of this method, it was decided that it was necessary to use cheaper materials, reducing the necessary costs of conducting experiments. Considering this, an attempt was made to use a different conductive material to build matrices compatible with the ECIS® Z-Theta measurement system. Their use would enable in vitro research on living cells. In the presented work, titanium was used as a material that may turn out to be an alternative to the materials currently used. Its application to the production of matrices will allow to study the influence of this metal on the behavior of cells.
Obecnie, do oceny biokompatybilności materiałów wykorzystywane są różne metody. Po dogłębnym i szczegółowym przeglądzie literatury wybrano metodę, którą wykorzystano podczas prac badawczych. W ramach przeprowadzonych eksperymentów wykorzystano metodę bazującą na analizie wartości parametrów elektrycznych kultur komórkowych, zmierzonych w obecności elektrod. Elektroda jest strukturą wykonaną w cienkiej warstwie metalizacji. Służy do pomiaru zmiany wartości rezystancji, impedancji oraz pojemności mieszaniny złożonej z komórek i substancji, w której są one hodowane. Płytka zawierająca zestaw elektrod nazywana jest matrycą pomiarową. Aktualnie, komercyjnie stosowane matryce testowe wykonane są ze złota lub platyny. Ich wysoka cena powoduje jednak, że prowadzenie badań na szeroką skalę jest znacząco ograniczone. Aby zwiększyć dostęp do powszechnego korzystania z tej metody zdecydowano, że koniecznym jest stosowanie tańszych materiałów, redukując niezbędne koszty prowadzenia eksperymentów. Zważywszy na to, podjęto próbę zastosowania innego materiału przewodzącego do budowy matryc kompatybilnych z systemem pomiarowym ECIS® Z-Theta. Ich użycie umożliwiłoby prowadzenie badań nad komórkami żywymi in vitro. W przedstawionej pracy jako materiał, który może okazać się alternatywą dla materiałów wykorzystywanych obecnie wykorzystano tytan. Jego zastosowanie do wytworzenia matryc pozwoli zbadać wpływ tego metalu na zachowanie komórek
Źródło:
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska; 2021, 11, 4; 62--66
2083-0157
2391-6761
Pojawia się w:
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Zastosowanie cienkich warstw Ni-Fe w ekranowaniu pól elektromagnetycznych
Application of Ni-Fe thin films for shieldings of electromagnetic fields
Autorzy:
Ozimek, M.
Wilczyński, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/159044.pdf
Data publikacji:
2009
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
rozpylanie magnetronowe
skuteczność ekranowania
cienkie warstwy Ni-Fe
pole elektromagnetyczne
Opis:
W pracy przedstawiono wyniki badań tłumienia promieniowania elektromagnetycznego przez cienkie warstwy Ni-Fe naniesione na włókninę polipropylenową 160 (gramatura 160 gm^-2). Magnetyczny target zamocowany na wyrzutni magnetronowej WMK-100 został rozpylony w atmosferze czystego argonu. Zbadano szybkość osadzania warstw w zależności od wybranych parametrów procesu rozpylania magnetronowego (moc wydzielona na targecie oraz ciśnienie gazu roboczego). Wykonano badania morfologii powierzchni i strukturalne za pomocą skaningowego mikroskopu elektronowego (SEM) oraz dyfrakcji rentgenowskiej X-ray. Tłumienie promieniowania elektromagnetycznego wyznaczono w oparciu o amerykańską normę MIL-STD 285. Zakres częstotliwości roboczej zawierał się w przedziale od 300 do 1000 MHz. Stwierdzono wpływ parametrów rozpylania na skuteczność ekranowania.
In this study the results of measurement of electromagnetic wave attenuation by Ni-Fe thin films deposited on polypropylene nonwoves 160 (basis weight 160 gźm^-2) were presented. Magnetic target fitted on magnetron gun of the WMK-100 type was sputtered in pure argon atmosphere. The rates of the materials depositions were presented in regards to most important physical quantities relevant to pulse magnetron processing (power dissipated into target, flow rates of gas background). The surface morphology and microstructure were analyzed using scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction. Measurements of screening attenuation were made according to the MIL-STD 285 American standard. The measurements were carried out in frequency band of 300 MHz - 1000 MHz. The influence of chosen parameters on shielding effectiveness was noticeable.
Źródło:
Prace Instytutu Elektrotechniki; 2009, 241; 39-50
0032-6216
Pojawia się w:
Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Rozwój cienkowarstwowych ogniw fotowoltaicznych
Thin film photovoltaic solar cells development
Autorzy:
Marszałek, K.
Stapiński, T.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/160247.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
fotowoltaika
cienkie warstwy
ogniwa słoneczne
photovoltaics
thin films
solar cells
Opis:
Fotowoltaika cienkowarstwowa jest jednym z najbardziej dynamicznie rozwijających się obszarów techniki ostatnich lat. W artykule przedstawiono rozwój ogniw fotowoltaicznych, w szczególności drugiej i trzeciej generacji, oraz zmiany, jakie się dokonują w produkcji paneli fotowoltaicznych z korzyścią dla paneli cienkowarstwowych. Opisano również szereg elementów cienkowarstwowych, będących elementem paneli fotowoltaicznych, w znaczący sposób wpływających na podstawowy parametr służący do oceny jakości ogniwa, jakim jest jego efektywność, jak również zmiany, jakie następują w rodzaju podłoży, będących elementami nośnymi każdej ze struktur cienkowarstwowych. Przedstawiono wpływ, jaki mają elektrody przewodzące, pasywacyjne, czy antyrefleksyjne na wydajność panelu fotowoltaicznego.
Thin film photovoltaics is one of the fastest growing industrial field in the last few years. The development of the second and third generation of the solar cells is presented in this work, especially changes and a fast growing production of the thin film panels. All other thin film components which influenced the efficiency of solar panels are presented as well as the changes in substrates for thin film solar cell technology. The influence of the conductive transparent electrodes, passivation and antireflective films on efficiency of the solar panel is shown.
Źródło:
Prace Instytutu Elektrotechniki; 2014, 266; 199-206
0032-6216
Pojawia się w:
Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Study of structural and optical properties of TiO2:(Eu, Pd) thin films deposited by magnetron sputtering
Badanie właściwości strukturalnych i optycznych cienkich warstw TiO2:(Eu, Pd) wytwarzanych metodą rozpylania magnetronowego
Autorzy:
Kaczmarek, D.
Domaradzki, J.
Prociow, E. L.
Wojcieszak, D.
Michalec, B.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/192413.pdf
Data publikacji:
2008
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:
TiO2
cienkie warstwy
warstwa cienka
rozpylanie magnetronowe
thin films
magnetron sputteing
Opis:
In this study the results on TiO2 thin films doped with europium and palladium at the amount of 0.9 at. % and 5.8 at. % respectively have been presented. For thin films deposition the high energy (HE) magnetron sputtering method was used. Some samples were subjected to the post-processed annealing. X-Ray Diffraction (XRD) results have shown that after deposition nanocrystalline TiO2 - rutile structure was obtained. After additional annealing at 800°C average crystallites sizes increased about twofold (from 9 to 16 nm). The XRD results were confirmed using atomic force microscope. Optical properties of thin films were examined using optical transmission method. They have shown that doping with Eu and Pd has decreased the transmission level by about 15% and shifted absorption edge to the longer wavelength range (from 330 to 450 nm) compared to pure TiO2. The width of optical bandgap of TiO2:(Eu, Pd) thin film decreased to ca. 1.7 eV, i.e. twofold, when compared to 3.35 eV of undoped-TiO2. The photoluminescence results have shown that examined thin film has strong red luminescence from standard Eu3+ emission lines.
W pracy przedstawiono wyniki badań cienkich warstw TiO2 domieszkowanych europem i palladem, w ilości odpowiednio 0,9 % at. i 5,8 % at. Do nanoszenia cienkich warstw zastosowano wysokoenergetyczny proces (High Energy) rozpylania magnetronowego. Wybrane próbki poddano dodatkowemu poprocesowemu wygrzewaniu. Wyniki dyfrakcji rentgenowskiej (X-Ray Difrraction - XRD) wykazały, że bezpośrednio po naniesieniu otrzymano nanokrystaliczną warstwę TiO2 o strukturze rutylu. Po dodatkowym wygrzewaniu w temperaturze 800°C średnia wielkość krystalitów wzrosła około dwukrotnie (z 9 do 16 nm). Wyniki badań XRD zostały potwierdzone za pomocą badań wykonanych za pomocą mikroskopu sił atomowych. Właściwości optyczne cienkich warstw określono na podstawie wyników badań metodą transmisji światła. Uzyskane wyniki wykazały, że domieszkowanie Eu i Pd spowodowało spadek przezroczystości warstwy o ~ 15% i przesunięcie krawędzi absorpcji optycznej w stronę dłuższych fal (z 330 do 450 nm) w porównaniu do warstwy niedomieszkowanego TiO2. Szerokość optycznej przerwy zabronionej dla cienkiej warstwy TiO2:(Eu, Pd) po naniesieniu wynosiła 1,7 eV i była około dwukrotnie mniejsza w porównaniu do 3,35 eV dla warstwy TiO2. Wyniki badań foto-luminescencji pokazały, że badana warstwa wykazuje silną czerwoną luminescencję odpowiadającą standardowym linią emisyjnym Eu3+.
Źródło:
Materiały Elektroniczne; 2008, T. 36, nr 3, 3; 117-127
0209-0058
Pojawia się w:
Materiały Elektroniczne
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Właściwości fizyko-chemiczne cienkich warstw ZnO-In-O
Pysical and chemical properties thin films ZnO-In-O
Autorzy:
Ziaja, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/159643.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
rozpylanie magnetronowe
cienkie warstwy
cynk
ind
magnetron sputtering
thin fims
zinc
indium
Opis:
W pracy przedstawiono wyniki badań właściwości elektrycznych cienkich warstw tlenkowych Zn-In-O. Warstwy te otrzymano metodą impulsowego rozpylania magnetronowego metalicznego targetu o składzie wagowym 80%Zn-20%In w obecności czystego argonu. Przedstawiono wpływ częstotliwości grupowej na skład chemiczny i mikrostrukturę uzyskanych warstw. Częstotliwość grupową zmieniano od 50 Hz do 4,5 KHz. Ciśnienie gazu roboczego ustalono na poziomie 1,3 Pa, a moc wydzieloną na elektrodzie podczas procesu rozpylania na poziomie 200 W. Warstwy tlenkowe do badań mikroskopowych nakładano na podłoża szklane typu CORNIG, a do badań elektrycznych na podłoża szklane z naniesioną przewodzącą warstwę tlenku cyny i indu (ITO). Badania prądów resorpcji i absorbcji wykazały, że w warstwach istnieje ładunek elektryczny wprowadzony podczas procesu rozpylania. Stwierdzono również wpływ częstotliwości grupowej na skład chemiczny uzyskanych warstw. Wykazano, że ze zwiększeniem częstotliwości grupowej zwiększa się liczba i rozmiar skupisk metalicznego indu.
The paper presents the results of the electrical properties of the oxide layers Zn-In-O. These layers were obtained by pulsed magnetron sputtering of metallic targetu composition by weight 80% Zn – 20% In the presents of pure argon. The influence of group frequency on the chemical composition and microstructure of the obtained layers. Frequency group varied from 50 Hz to 4.5 KHz. Working gas pressere was set at 1.3 Pa and the power of a dedicated process on the electroce sputtering at 200 W. Oxaide layers for microscopic examination was applied to a gass substrate CORNING, and electrical testing on glass substrates coated with a coductive layer of tin oxide and indium (ITO). Studies of bone resorption and absorption currents have shown that i the layers is the electric charge introdiuced during the sputtering process. It was also influenced by the frequencey of group on the chemical composition of the layers obtained. I was shown that an increase in the frequencey of group increases the number and size of cluster of large numbers of indium matal.
Źródło:
Prace Instytutu Elektrotechniki; 2012, 259; 49-50
0032-6216
Pojawia się w:
Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Ablacja polikryształów CR2TE3 z wykorzystaniem lasera ND3+:YAG
Ablation of CR2TE3 crystal by ND3+:YAG laser
Autorzy:
Wisz, G.
Barwiński, M.
Sagan, P.
Kuźma, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/408356.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Politechnika Lubelska. Wydawnictwo Politechniki Lubelskiej
Tematy:
ablacja laserowa
cienkie warstwy
mikroskopia elektronowa
laser ablation
thin films
electron microscopy
Opis:
W pracy badano proces laserowej ablacji Cr2Te3: dla potrzeb nanoszenia cienkich warstw tego materiału metodą impulsowego osadzania laserowego (PLD). Target przygotowano w formie sprasowanej pastylki z proszkowego Cr2Te3 domieszkowanego proszkowym Zn. Do odparowania tarczy zastosowano promieniowanie lasera ND3+:YAG o długości impulsu 20 ns i gęstości energii 16 J/cm2 oraz 34 J/cm2. Metodą EDX zbadano skład powierzchni targetu po ablacji. Stwierdzono nadmiar chromu co wskazuje na jego słabą desorpcję przy zastosowanych parametrach ablacji.
In the paper, the process of laser ablation of Cr2Te3 has been studied in the respect of its application to thin solid films deposition of this material in the pulsed laser deposition (PLD) technology. Target has been prepared in the shape of pressed tablet from powder Cr2Te3. The energy density of the ND3+:YAG laser beam were 16 J/cm2 and 34 J/cm2 and the time of laser pulse was 20 ns. The composition of the surface layer of the target after ablation has been measured using EDX method. The excess of chromium in respect to it amount in initial composition has been measured. This result points on the weak desorption of this component at the ablation parameters applied.
Źródło:
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska; 2014, 3; 27-30
2083-0157
2391-6761
Pojawia się w:
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Analysis of metal surfaces coated with europium-doped titanium dioxide by laser induced breakdown spectroscopy
Autorzy:
Głogocka, D.
Noculak, A.
Pucińska, J.
Jopek, W.
Podbielska, H.
Langner, M.
Przybyło, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/306866.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
europ
tytan
LIBS
jakość
kompozycja
cienkie warstwy
europium
titanum
quality
composition
thin layers
Opis:
The surface passivation with titanium sol-gel coatings is a frequently used technique to control the adsorption of selected biological macromolecules and to reduce the exposure of the bulk material to biological matter. Due to the increasing number of new coating-preparation methods and new gel compositions with various types of additives, the quality and homogeneity determination of the surface covering is a critical factor affecting performance of any implanted material. While coating thickness is easy to determine, the homogeneity of the surface distribution of coating materials requires more elaborate methodologies. In the paper, the laser induced breakdown spectroscopy (LIBS) based method, capable to quantitate the homogeneity and uniformity of the europium in titanium dioxide sol-gel coatings on stainless steel surfaces prepared with two different procedures: spin-coating and dip-coating, is presented. The emission intensity of titanium has been used to determine the coating thickness whereas the relative values of europium and titanium emission intensities provide data on the coating homogeneity. The obtained results show that the spin-coating technique provides better surface coverage with titanium dioxide. However, when the surface coating compositions were compared the dip-coating technique was more reliable.
Źródło:
Acta of Bioengineering and Biomechanics; 2015, 17, 3; 33-40
1509-409X
2450-6303
Pojawia się w:
Acta of Bioengineering and Biomechanics
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
A review of mechanical properties of diamond-like carbon coatings with various dopants as candidates for biomedical applications
Autorzy:
Jastrzębski, K.
Jastrzębska, A.
Bociąga, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/105981.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Centrum Badań i Innowacji Pro-Akademia
Tematy:
diamond-like carbon
doping
mechanical properties
thin films
biomaterials
warstwy diamentopodobne
właściwości mechaniczne
cienkie warstwy
biomateriały
Opis:
In the modern world, there is an increasing demand for implants, and technologies connected with their manufacturing. One of the possible paths of their development relates to the use of diamond-like carbon coatings (DLC) for the improvement of surface properties of the biomaterials used for implants. Further improvement of the mentioned properties can be induced by means of doping of the coating. Among the elements which are under current investigation of researchers, the following can be placed: Ag, Si, F, Cu, Ti, Ca and P. This paper reviews previously published experimental data concerning mechanical and physicochemical properties of DLC coatings doped with Ag, Si, Cu, Ti, Ca, F and P as candidates for biomedical applications. Although plenty of articles are published in the mentioned field, the differences of coatings’ synthesis techniques, various sources of dopants and substrates, as well as conducted experiments make no consistent view about a possible solution for their future implementation in medicine. Some of the selected dopants (Cu, Ca, P), still require better characterisation of mechanical properties. There is a necessity to conduct studies of mechanical and physicochemical properties of DLC coatings doped with these elements. This will enable adjustment of the necessary technological parameters to biomedical requirements.
Źródło:
Acta Innovations; 2017, 22; 40-57
2300-5599
Pojawia się w:
Acta Innovations
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Kluczowe zagadnienia procesu recyklingu zużytych modułów fotowoltaicznych I i II generacji
Key issues of the recycling process of the 1st and 2nd generation end of life photovoltaic modules
Autorzy:
Kuczyńska-Łażewska, A.
Klugmann-Radziemska, E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/394469.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Gospodarki Surowcami Mineralnymi i Energią PAN
Tematy:
recykling
fotowoltaika
moduły PV
krzem
cienkie warstwy
recycling
photovoltaics
PV modules
thin films
silicon
Opis:
W ramach technologii fotowoltaicznych wyróżniamy obecnie trzy generacje. Pierwsza z nich to ogniwa z mono- i polikrystalicznego krzemu (c-Si), druga obejmuje ogniwa wykonane na bazie technologii cienkowarstwowej, zarówno z krzemu amorficznego (a-Si), jak i diseleneku indowo-miedziowo-galowego (CIGS), tellurku kadmu (CdTe) oraz arsenku galu (GaAs). Trzecia generacja to najnowsze technologie, takie jak: organiczne ogniwa słoneczne, ogniwa uczulane barwnikami czy ogniwa hybrydowe. Przyjmuje się, że średnia długość życia modułu fotowoltaicznego wynosi około 17 lat, co w połączeniu ze wzrastającym zainteresowaniem technologią fotowoltaiczną wiąże się ze zwiększona ilością odpadów, trafiających na składowiska. Oszacowano, że w 2026 roku liczba odpadowych modułów fotowoltaicznych osiągnie 5 500 000 ton. Będą to zarówno pozostałości po procesie produkcji, elementy uszkodzone podczas użytkowania oraz zużyte moduły fotowoltaiczne. Rozwój technologii fotowoltaicznych prowadzi również do doskonalenia istniejących i badań nad opracowaniem nowych metod recyklingu, dostosowanych do procesów produkcji modułów. W pracy zaprezentowano stan wiedzy na temat opracowanych technologii recyklingu modułów, wykonanych z krystalicznego krzemu oraz modułów cienkowarstwowych. Przedstawiono wyniki badań własnych nad procesem delaminacji modułów oraz roztwarzania elementów ogniw wykonanych w obu technologiach. W wyniku przeprowadzonych badań określono minimalną temperaturę, która powinna zostać zastosowana podczas dekompozycji materiału laminującego. U dowodniono, że folie wykonane przez różnych producentów ulegają procesom delaminacji w różnym stopniu, co może być spowodowane różnicami w stopniu usieciowana i stosunkowi polietylenu do polioctanu winylu. Przy wykorzystaniu metody trawienia sekwencyjnego podczas usuwania metalizacji można odzyskać nawet 1,6 kg srebra na 1 t połamanych mono- i polikrystalicznych ogniw krzemowych.
At present we divide photovoltaic technologies into three generations. The first generation are monoand polycrystalline silicon solar cells (c-Si), the second one includes thin film technology both amorphous silicon (a-Si) and copper-gallium-indium diselenide (CIGS), cadmium telluride (CdTe), or gallium arsenide (GaAs). The third generation are newest technologies such as: organic solar cells, cells sensitized with dyes or hybrid cells. It is assumed that the average lifespan of the module is about 17 years, which in addition with the growing interest in solar technology results in an increasing amount of electronic waste in the land fields. I t has been estimated that in 2026, the number of waste photovoltaic modules will reach 5,500,000 tons. These will include both residues from the production process, components damaged during usage and end of life solar modules. Advanced photovoltaic technologies lead to the research and development of new methods of recycling adapted to the production processes. The article presents the state of knowledge regarding recycling technologies for modules from crystalline silicon and thin films. The results of own research of the delamination process and the recovery of cells elements in both technologies are introduced. As a result of the tests, the minimum temperature which should be used during the decomposition of the laminating material was determined. I t has been proven that foil made by different manufacturers is processed in varying degrees. That might be caused by differences in the cross-link degree and the ratio of polyvinyl acetate. U se of the sequential etching method to remove metallization, provides a possibility to recover up to 1.6 kg of silver per 1t of broken mono- and polycrystalline silicon cells.
Źródło:
Zeszyty Naukowe Instytutu Gospodarki Surowcami Mineralnymi i Energią PAN; 2018, 102; 329-341
2080-0819
Pojawia się w:
Zeszyty Naukowe Instytutu Gospodarki Surowcami Mineralnymi i Energią PAN
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Giant magnetoresistance observed in thin film NiFe/Cu/NiFe structures
Zjawisko gigantycznego magnetooporu obserwowane w cienkich strukturach NiFe/Cu/NiFe
Autorzy:
Kisała, Jakub
Kociubiński, Andrzej
Czarnacka, Karolina
Gęca, Mateusz
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2174708.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Politechnika Lubelska. Wydawnictwo Politechniki Lubelskiej
Tematy:
magnetoresistance
sputtering
thin films
static magnetic field
magnetorezystancja
napylanie
cienkie warstwy
statyczne pole magnetyczne
Opis:
In this paper, the technology for fabricating NiFe/Cu/NiFe layered structures by magnetron sputtering is presented. Two series of samples were fabricated on a glass substrate with a layered structure, where the individual layers were 30 nm NiFe, 5 nm Cu, and finally NiFe with a thickness of 30 nm. The series differed in the type of technology mask used. A constant magnetic field was applied to the substrate during the sputtering of the ferromagnetic layers. Measurements of the DC resistance of the obtained structures in the constant magnetic field of neodymium magnet packs with a constant magnetic field of about 0.5 T magnetic induction have been carried out. Comparison of the two series allows us to conclude the greater validity of using masks in the form of kapton tape. The obtained results seem to confirm the occurrence of phenomena referred to as the giant magnetoresistance effect.
W pracy przedstawiono technologię produkcji struktur warstwowych NiFe/Cu/NiFe metodą rozpylania magnetronowego. Wykonane zostały dwie serie próbek na szklanym podłożu o strukturze warstwowej, gdzie poszczególne warstwy stanowiły 30 nm NiFe, 5 nm Cu oraz ostatecznie NiFe o grubości 30 nm. Serie różniły się rodzajem zastosowanej maski technologicznej. Podczas napylania warstw ferromagnetycznych do podłoża przyłożone zostało stałe pole magnetyczne. Przeprowadzone zostały pomiary rezystancji stałoprądowej otrzymanych struktur w stałym polu magnetycznym okładów magnesów neodymowych o stałym polu magnetycznym o wartości indukcji magnetycznej około 0,5 T. Porównanie obu serii pozwala stwierdzić większą zasadność stosowania masek w postaci taśmy kaptonowej. Otrzymane wyniki zdają się potwierdzać występowanie zjawisk określanych jako efekt gigantycznego magnetooporu.
Źródło:
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska; 2022, 12, 3; 12--15
2083-0157
2391-6761
Pojawia się w:
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The effect of Co and Cu co-doping ZnO thin films on structural and optical properties
Autorzy:
Saoud, Tayeb
Benramache, Said
Diha, Abdallah
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/31342694.pdf
Data publikacji:
2023
Wydawca:
Towarzystwo Chemii i Inżynierii Ekologicznej
Tematy:
ZnO
thin films
Co
Cu
co-doping
TCO
spray pneumatic method
cienkie warstwy
współdomieszkowanie
Opis:
Using a spray pneumatic technique, cobalt (Co) and copper (Cu) co-doped zinc oxide thin films were effectively deposited on a glass substrate. The goal of this work was to create a semiconductor with good optical and electrical properties by co-doping ZnO thin films with Cu and Co. The ZnO thin films obtained from the Co and Cu co-doping exhibit patterns of x-ray diffraction spectra that suggest they are hexagonal ZnO (wurtzite, JCPDS 36-1451). The thin film elaborated with 2 % Co and 7 % Cu has the lowest value of crystallite size (D = 14.67 nm). The transmission spectra demonstrate that all films have good optical transparency in the visible spectrum, with 7 % Cu achieving the highest transmission. Increasing Cu contents raised the band gap energy. The value at the minimum was 3.31 eV. The optical band gap’s broadening is a significant characteristic of advanced materials and may be useful in applications involving metal oxide nanostructures for visible light gas sensing.
Źródło:
Chemistry-Didactics-Ecology-Metrology; 2023, 28, 1-2; 171-178
2084-4506
Pojawia się w:
Chemistry-Didactics-Ecology-Metrology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Effect of KCl on the optical and structural properties of CaZnO3 perovskite thin films
Wpływ KCl na właściwości optyczne i strukturalne cienkich warstw perowskitu CaZnO3
Autorzy:
Al-Saqa, Read Hashim
Jassim, Ismail Kalil
Uonis, Mohammad Mahmood
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/41159232.pdf
Data publikacji:
2023
Wydawca:
Wydawnictwo SIGMA-NOT
Tematy:
CaZnO3
perovskite
energy gap
diameter’s grain
perowskit
przerwa energetyczna
średnica ziarna
cienkie warstwy
Opis:
The primary goal of this study is to determine whether the produced CaZnO3 perovskite compound may be used in the production of solar cells and diodes. CaZnO3 perovskite thin films have been prepared and examined using scanning electron microscopy (SEM), X-ray spectroscopy, and UV spectroscopy. The films were made using the chemical spray pyrolysis deposition (CSPD) method; they were prepared from a mixture of 0.6 g of CaCl2 and ZnCl2 with 1.2 g of KOH, and CaZnO3 thin films were deposited on a glass substrate at a temperature of 150°C. Optical properties such as transmittance (T), absorbance (A), reflectance (R), the refractive index (n), and extinction coefficient (k) were studied. The energy gap varied from 3.19 eV for films without KCl to 3.22 eV for films with KCl, indicating that the presence of KCl had an impact on the energy gap; furthermore, the average particle’s diameter for films with KCl was about 112.28 nm and decreased to 53.86 nm when KCl was removed from the solutions to obtain pure in CaZnO3 perovskite thin films.
Wpływ KCl na właściwości optyczne i strukturalne cienkich warstw perowskitu CaZnO3 Głównym celem badania było określenie, czy wytworzony perowskitowy związek CaZnO3 może zostać wykorzystany do produkcji ogniw fotowoltaicznych i diod. Przygotowano cienkie warstwy perowskitu CaZnO3, które zostały zbadane za pomocą skaningowego mikroskopu elektronowego (SEM), spektrometru rentgenowskiego i spektrometru UV. Warstwy zostały wykonane przy użyciu metody chemicznego osadzania pirolitycznego (CSPD); przygotowano je z mieszaniny 0,6 g CaCl2 i ZnCl2 z 1,2 g KOH, cienkie warstwy CaZnO3 osadzono na szklanym podłożu w temperaturze 150°C. Zbadano właściwości optyczne, takie jak transmitancja (T), absorbancja (A), współczynnik odbicia (R), współczynnik załamania światła (n) i współczynnik ekstynkcji (k). Przerwa energetyczna wynosiła od 3,19 eV w wypadku warstw bez KCl do 3,22 eV dla warstw z KCl, co świadczy o tym, że obecność KCl miała wpływ na przerwę energetyczną. Średnica cząstek w warstwach zawierających KCl wynosiła średnio 112,28 nm i zmniejszyła się do 53,86 nm, gdy z roztworów usunięto KCl w celu uzyskania czystych postaci cienkich warstw CaZnO3.
Źródło:
Ochrona przed Korozją; 2023, 8; 243-246
0473-7733
2449-9501
Pojawia się w:
Ochrona przed Korozją
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Mechanical modelling of thin films. Stress Evolution, Degradation, Characterization
Mechaniczne modelowanie cienkich warstw
Autorzy:
Białas, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/31343154.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Instytut Podstawowych Problemów Techniki PAN
Tematy:
cienkie warstwy
modelowanie cienkich warstw
mechaniczna analiza cienkich warstw
thin films
modelling of thin films
Opis:
The thesis reports the research effort aimed at the mechanical modelling of thin films. It is devoted to four particular aspects: stress development due to mechanical and thermal loadings, coating degradation due to through thickness cracking, coating delamination and, finally, mechanical characterization of thin films using non-invasive methods. The monograph consists of seven chapters. Chapter 1 is an introductory chapter, where thin films deposition methods are described. Then, failure modes observed in coatings are discussed. Since the developed modelling tools will be applied in particular to thermal barrier coatings and human skin, two final sections of the chapter introduce the reader into mechanical and material properties of TBC systems and human skin. Mathematical preliminaries is the subject of Chapter 2 of the monograph. Basics of elastic fracture mechanics of interfacial cracks are briefly presented and cohesive zone model is introduced. This model makes a basis for subsequent modelling of various types of cracks within coating systems. Chapters 3-6 report the novel part of the research and, except for the experiment described in the frst part of Chapter 4 (bending tests combined with acoustic emission technique), present an original contribution of the Author. In Chapter 3 an energy model of segmentation cracking with application to silicon oxide film is presented. Chapter 4 reports Fnite element simulation of stress development, delamination and through-thickness cracking in TBC systems. In Chapter 5 two dimensional model of frictional slip is presented and semi-analytical procedure providing delamination estimation is described. Chapter 6 presents a conceptual setup of piezoelectric sensors used for mechanical characteristic of human skin. The final Chapter 7 concludes the monograph and recapitulates the main achievements of the reported research.
Cienkie warstwy znajdują zastosowanie w wielu gałęziach techniki. Odnajdujemy je w układach scalonych, czyli w każdym komputerze. Tutaj przewodzenie ładunków elektrycznych jest w dużej mierze zależne od rodzaju powierzchni kontaktowych na granicy cienkich warstw materiałów o różnych własnościach elektrycznych i mechanicznych (Freund i Suresh [69], Lu i współpracownicy [128]). Kolejnym przykładem zastosowania cienkich warstw są pokrycia elementów turbin gazowych, na przykład ich łopatki (Evans i współpracownicy [62, 63]). Izolacja, wykonana z bardzo porowatej ceramiki o małej przewodności cieplnej, odgrywa tutaj istotną rolę, chroniąc właściwy materiał łopatki przed temperaturami znacznie przewyższającymi jego temperaturę topnienia oraz zapewniając ochronę przed czynnikami korozyjnymi. Wiąże się z tym istotny aspekt ekonomiczny, zastosowanie warstw izolacji termicznej pozwala bowiem na wydłużenie całkowitego okresu pracy turbiny oraz prowadzi do zwiększenia jej wydajności. Szczególnie materiały o zmieniających się właściwościach mechanicznych i termicznych po grubości pokrycia odgrywają coraz ważniejszą rolę w tego rodzaju zastosowaniach. Należy wymienić tutaj pokrycia wielowarstwowe (po angielsku multi-layered), gdzie zmiana cech mechanicznotermicznych jest skokowa po grubości oraz te, gdzie jest ona ciągła (Pindera i współpracownicy [161, 162]). Te drugie noszą raczej niefortunną w języku polskim nazwę materiałów gradientowych (po angielsku graded materials). Cienką warstwą jest także ludzka skóra, dlatego mechanika cienkich warstw znajduje także swoje zastosowanie w tych dziedzinach techniki lub nauki, których nazwa zaczyna się przedrostkiem bio- (Białas i Guzina [26]). W szczególności odgrywa rolę w diagnostyce komórek nowotworowych (w sensie mechanicznym są one sztywniejsze od komórek zdrowych) oraz przy produkcji sztucznej skóry (Wagner i współpracownicy [209]). Czas użytkowania elementów maszyn lub konstrukcji szczególnie narażonych na ścieranie w wyniku kontaktu z otoczeniem może być znacznie zwiększony właśnie poprzez zastosowanie na nich cienkich pokryć. Należy tutaj wymienić dyski komputerowe wykorzystujące zjawisko magnetyzmu lub sztuczne implanty bioder lub kolan (Freund i Suresh [69]). Niewielka grubość cienkich warstw odgrywa istotne znaczenie w innych gałęziach techniki. Polimerowe filmy wykorzystuje się przy produkcji laminowanych szyb - łączą one ze sobą elementy szklane (Ivanov [101], Muralidhar i współpracownicy [143]). Ten sam materiał, ale dodatkowo zbrojony włóknami, wykorzystuje się w budownictwie do wzmocnienia uszkodzonych elementów konstrukcyjnych (Cottone i Giambanco [50]). Pierwszym wnioskiem jaki nasuwa się po przejrzeniu powyższej listy jest stwierdzenie, że rolą cienkich warstw nie jest przenoszenie dużych obciążeń, powiedzielibyśmy, że nie pełnią one roli nośnej. W większości przypadków tak rzeczywiście jest, spełniają one jedynie zadanie ochronne. Mimo to, w wielu sytuacjach sam sposób ich produkcji powoduje wytworzenie dużych naprężeń początkowych, które w połączeniu z tymi, które wywołuje obciążona konstrukcja, mogą prowadzić do uszkodzenia warstwy. Najczęściej spotykane rodzaje uszkodzeń to pęknięcia po grubości lub odspajanie warstwy. Ich obecność może oznaczać całkowitą bezużyteczność elementu, który warstwa ma chronić. Konstrukcja, której rozmiar w jednym kierunku jest znacznie mniejszy niż w dwóch pozostałych to w mechanice konstrukcji płyta lub powłoka. Najważniejsza różnica, która pojawia się jednak, gdy mamy na myśli cienką warstwę polega na tym, że nie możemy tutaj pominąć materiału, który znajduje się pod nią i efektu, który on wywołuje. W wielu przypadkach nie jest nawet możliwe, aby wykonać eksperyment z samą cienką warstwą, a trudności związane są najczęściej z jej znikomą grubością. Chcąc modelować mechaniczne zachowanie się warstwy, wykorzystujemy pojęcie powierzchni kontaktowej, to jest powierzchni łączącej warstwę z podłożem. Dla tego obszaru definiujemy cechy mechaniczne, które oddają specyficzny charakter połączenia dwóch różnych materiałów warstwy i podłoża. Celem rozprawy jest opracowanie różnych metod mechanicznej analizy cienkich warstw ze szczególnym uwzględnieniem opisu stanu naprężenia, wywołanego nim rozwoju uszkodzeń (pękanie po grubości warstwy oraz jej odspajanie) oraz identyfikacji cech mechanicznych warstwy. Przyjęte modelowanie opiera się o mechanikę kontynualną ciała stałego i nie uwzględnia efektów wywołanych explicite analizą ziaren, dyslokacji lub wtrąceń obecnych w cienkim filmie. Typowy rząd grubości warstw omawianych w pracy to 0.5 žm - 2 mm. Jedynie proces pękania segmentacyjnego opisany w Rozdziale 3 dotyczy warstw znacznie cieńszych, o grubości 30-660 nm. Oryginalne aspekty prezentowanej rozprawy to: - zastosowanie energetycznego modelu pękania segmentacyjnego do opisu zjawisk zachodzących w warstwie tlenku krzemu na podłożu polimerowym; - wyjaśnienie wpływu naprężeń wstępnych na proces pękania segmentacyjnego w tym przypadku; - ilościowa analiza procesu rozwoju spękań po grubości warstwy izolacji termicznej; - wykazanie istotności wielkości kroku obciążenia w analizie metodą elementów skończonych procesu rozwoju dużej liczby nie połączonych ze sobą spękań; sformułowanie wskazówek praktycznych zezwalających na uniknięcie problemów ze zbieżnością obliczeń; - analiza głównych czynników decydujących o rozwoju stanu naprężenia w warstwach izolacji termicznej i podanie hipotetycznego scenariusza opisującego proces delaminacji tych warstw; - sformułowanie metody pozwalającej na pół-analityczne oszacowanie procesu dwuwymiarowego poślizgu ciernego warstwy na sztywnym podłożu; - wyprowadzenie prostych wzorów opisujących kształt strefy zdelaminowanej oraz proces delaminacji sztywnej warstwy ze sztywnego podłoża; - koncepcyjne sformułowanie zasad działania czujnika piezoelektrycznego pozwalającego na pomiar sprzężonych modułów sprężystych wielowarstwowego materiału; - sformułowanie praktycznych wskazówek służących zwiększeniu efektywności działania zaproponowanego czujnika.
Źródło:
IPPT Reports on Fundamental Technological Research; 2012, 1; 3-238
2299-3657
Pojawia się w:
IPPT Reports on Fundamental Technological Research
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
High rate deposition of thin film compounds - modeling of reactive magnetron sputtering process
Wydajne osadzanie cienkich warstw związków chemicznych – modelowanie procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego
Autorzy:
Tadaszak, K.
Paprocki, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/159030.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
reactive magnetron sputtering
thin films
modeling of magnetron sputering
reaktywne rozpylanie magnetronowe
cienkie warstwy
model procesu rozpylania
Opis:
Deposition of compound thin films with reactive magnetron sputtering method causes a lot of difficulties, of which the main ones are the instability of the process and decrease of the deposition rate. Computer simulations were performed using Berg’s model assumptions. Firstly, effect of basic process parameters on aluminum oxide deposition was examined, also theoretical characteristics of the deposition of Al2O3, AlN, TiO2, TiN were compared. Next, the parameters for efficient deposition of titanium oxide were determined. Simulations were confirmed by the results of experimental work. The purpose of presented work was to define, with Berg’s model, mechanisms which enable deposition, in metallic mode of magnetron work, of oxides with properties near to stochiometric. Presented analysis results were compared to real process parameters observed during reactive sputtering .
Osadzanie cienkich warstw związków metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego sprawia wiele trudności, spośród których głównymi są niestabilność procesu i spadek szybkości osadzania. Komputerowe symulacje wykonano wykorzystując założenia modelu Berga. W pierwszej kolejności sprawdzono wpływ podstawowych parametrów procesu na osadzanie tlenku glinu. Porównano również teoretyczne charakte-rystyki osadzania Al2O3, AlN, TiO2, TiN. Następnie określono parametry umożliwiające wydajne osadzanie tlenku tytanu. Symulacje potwierdzono wynikami prac eksperymentalnych. Głównym celem pracy była próba określenia mechanizmów umożliwiających osadzanie w modzie metalicznym tlenków o właściwościach zbliżonych do warstw o składzie stechio-metrycznym.
Źródło:
Prace Instytutu Elektrotechniki; 2013, 263; 95-104
0032-6216
Pojawia się w:
Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Wyświetlanie 1-15 z 32

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies