Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "chemiczne osadzanie z fazy gazowej" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
Possibilities of using aluminide coating modifications by nickel galvanizing with introduction of additional elements: CR, SI and ZR
Modyfikowanie warstw aluminidkowych Cr, Si i Zr w procesach niklowania elektrochemicznego i chemicznego osadzania z fazy gazowej CVD
Autorzy:
Góral, M.
Nieużyła, Ł.
Pytel, M.
Simka, W.
Kubaszek, T.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/175906.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
aluminide coatings
protective coatings
aluminizing processes
pack aluminizing
gas phase aluminizing
chemical vapour deposition
modified aluminide coatings
warstwy aluminidkowe
powłoki ochronne
procesy aluminiowania
aluminiowanie metodą kontaktowo-gazową
aluminiowanie metodą gazową
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
modyfikowane warstwy aluminidkowe
Opis:
The basic method of surface protection for aviation engine components manufactured from nickel super alloys is diffusion aluminization. There are four methods of forming aluminide coatings: pack cementation, above the pack, slurry, and chemical vapor deposition (CVD). The aluminide coatings are modified with various elements, e.g. Pt, Pd, Hf, Zr, Si, Cr, Y, etc. The paper show results of experiments on the use of electrochemical processes in which the modifying elements are introduced in the form of powder for galvanic bath. These processes have been combined with low-activity and high-activity aluminization, as well as zircon doping in the CVD process. It has been shown that the aluminide coatings formed in the high-activity process are characterized by Al>50% at. content. The aluminide coatings formed in the low-activity process were composed of an outer zone composed of a NiAl phase with an aluminum content <50% at. and the diffusion zone. The aluminide coatings formed during low-activity zircon doping have similar structure. The content of elements introduced with nickel was low (up to several %), which does provide for a desired increase in heat resistance of the modified coatings.
Aluminiowanie dyfuzyjne jest podstawowym procesem wprowadzonym do ochrony powierzchni elementów części gorącej silników lotniczych wytwarzanych z nadstopów niklu. Warstwy aluminidkowe wytwarzane są w procesach: kontaktowo-gazowym (ang. pack cementation), gazowym bezkontaktowa (ang. above the pack), zawiesinowowym (ang. slurry) i chemicznym osadzaniu z fazy gazowej CVD (ang. Chemical Vapour Deposition). Warstwy aluminidkowe dla zwiększenia ich żaroodporności modyfikowane są pierwiastkami m.in. Pt, Pd, Hf, Zr, Si, Cr, Y. W artykule przedstawiono analizę wyników badań warstw aluminidkowych, w których pierwiastki modyfikujące wprowadzono w postaci proszku do kąpieli galwanicznej w trakcie procesu niklowania. Procesy te połączono z aluminiowaniem nisko- i wysokoaktywnym, a także cyrkono-aluminiowaniem w procesie CVD. Wykazano, że warstwy aluminidkowe wytworzone w procesie wysokoaktywnym charakteryzują się zawartością Al >50% at. W warstwie aluminidkowej wytworzonej w procesie niskoaktywnym wyodrębniono strefę zewnętrzną - kryształów fazy NiAl o zawartości Al <50% at. oraz strefę dyfuzyjną. Zbliżoną budowę miały warstwy aluminidkowe wytworzone w trakcie cyrkono-aluminiowania niskoaktywnego. Stwierdzono małe zawartości pierwiastków wprowadzanych wraz z niklem (do kilku %).
Źródło:
Advances in Manufacturing Science and Technology; 2018, 42, 1-4; 87-96
0137-4478
Pojawia się w:
Advances in Manufacturing Science and Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition – Technological Design Of Functional Coatings
Chemiczne osadzanie z fazy gazowej wspomagane plazmowo – projektowanie technologii funkcjonalnych powłok
Autorzy:
Januś, M.
Kyzioł, K.
Kluska, S.
Konefał-Góral, J.
Małek, A.
Jonas, S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/350999.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
PACVD
titanium
aluminum alloys
polyetheretherketone
ceramic coatings
chemiczne osadzanie z fazy gazowej wspomagane plazmowo
tytan
stopy aluminium
polieteroeteroketon
powłoki ceramiczne
Opis:
Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition (PA CVD) method allows to deposit of homogeneous, well-adhesive coatings at lower temperature on different substrates. Plasmochemical treatment significantly impacts on physicochemical parameters of modified surfaces. In this study we present the overview of the possibilities of plasma processes for the deposition of diamond-like carbon coatings doped Si and/or N atoms on the Ti Grade2, aluminum-zinc alloy and polyetherketone substrate. Depending on the type of modified substrate had improved the corrosion properties including biocompatibility of titanium surface, increase of surface hardness with deposition of good adhesion and fine-grained coatings (in the case of Al-Zn alloy) and improving of the wear resistance (in the case of PEEK substrate).
Metoda chemicznego otrzymywania warstw z fazy gazowej w warunkach plazmy (PA CVD – Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition) umożliwia otrzymywanie homogenicznych struktur warstwowych w niskich temperaturach, o dobrej adhezji do podłoży. Warunki w jakich prowadzone są procesy plazmochemiczne w znacznym stopniu decydują o właściwościach fizykochemicznych modyfikowanych powierzchni. W pracy przedstawiono możliwości w zakresie projektowania procesów plazmochemicznych z otrzymaniem warstw DLC (Diamond-like Carbon) dotowanych atomami Si i/lub N. W zależności od rodzaju modyfikowanego podłoża uzyskano poprawę właściwości korozyjnych przy zachowaniu biokompatybilności powierzchni (w przypadku Ti Grade2), poprawę twardości powierzchni na drodze otrzymania drobnoziarnistej powłoki o dobrej adhezji do podłoża (w przypadku Al-Zn) i poprawę odporności na zużycie (w przypadku PEEK).
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 2A; 909-914
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Preparation and characterization of catalyst mix Fe-Co/MgO for carbon nanotubes growth
Autorzy:
Steplewska, A.
Jędrzejewski, R.
Borowiak-Palen, E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/779026.pdf
Data publikacji:
2008
Wydawca:
Zachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny w Szczecinie. Wydawnictwo Uczelniane ZUT w Szczecinie
Tematy:
katalizator
analiza termograwimetryczna
osadzanie chemiczne z fazy gazowej
nanorurki węglowe
catalyst
thermogravimetric analysis (TGA)
chemical vapor deposition (CVD)
carbon nanotubes
Opis:
Fe-Co/MgO is one of the most common catalyst mix applied to carbon nanotubes (CNTs) growth in chemical vapor deposition process. Therefore, here we present detailed study on the preparation and characterization of Fe-Co/MgO. The precursors of Fe and Co are iron (II) acetate and cobalt acetates, correspondingly. The molar ratio of the catalyst mix is Fe:Co:MgO=1:1:100. Initially, thermogravimetric analysis (TGA) of the mixture was performed. TGA analysis of it indicated the stepwise mass losses which pointed out the crucial thermal conditions for the changes in the elemental composition, morphology, crystallographic structure and vibrational properties. In current state of the art the lowest growth temperature for singlewalled carbon nanotubes is 550°C in CVD technique and here the characterization of the catalyst mix strongly suggest that this temperature can be decreased what would enhance the compatibility of CNT growth with current complementary metal-oxide-silicon (CMOS) technology for CNTs-based nanoelectronics. The morphology, crystallographic structure, elemental composition of the samples and its spectroscopic properties were performed via high resolution transmission electron microscopy (TEM), X-ray diffraction (XRD) and Infrared spectroscopy (IR), respectively.
Źródło:
Polish Journal of Chemical Technology; 2008, 10, 3; 1-3
1509-8117
1899-4741
Pojawia się w:
Polish Journal of Chemical Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies