Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "chemical vapour deposition" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-7 z 7
    Tytuł:
    Considerations on modifying basalt fabrics protecting against the thermal radiation
    Autorzy:
    Miśkiewicz, Pamela
    Frydrych, Iwona
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1179530.pdf
    Data publikacji:
    2017
    Wydawca:
    Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
    Tematy:
    basalt fabrics
    basalt fibers
    chemical vapour deposition
    physical vapour deposition
    protective gloves
    Opis:
    Due to very good thermal and mechanical properties characterizing basalt fibers and items made of them, this raw material is now more frequently used for the manufacturing various textile products. Basalt fibers on the textile market are primarily used in articles, which are designed to protect against thermal factors. The paper discusses the possibility of applying selected coatings formed by physical – PVD (Physical Vapour Deposition) or chemical CVD (Chemical Vapour Deposition) deposition of chemical compounds in the form of gaseous phase on the surface of basalt fabrics to improve their protective properties against very high temperatures affecting the clothing products.
    Źródło:
    World Scientific News; 2017, 76; 85-90
    2392-2192
    Pojawia się w:
    World Scientific News
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    MCT heterostructures for higher operating temperature infrared detectors designed in Poland
    Autorzy:
    Madejczyk, Paweł
    Gawron, Waldemar
    Sobieski, Jan
    Martyniuk, Piotr
    Rutkowski, Jarosław
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/2204223.pdf
    Data publikacji:
    2023
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Stowarzyszenie Elektryków Polskich
    Tematy:
    MCT
    HgCdTe
    metal organic chemical vapour deposition
    infrared detectors
    higher operating temperature
    Opis:
    This paper presents examples of infrared detectors with mercury cadmium telluride elaborated at the Institute of Applied Physics, Military University of Technology and VIGO Photonics S.A. Fully doped HgCdTe epilayers were grown with the metal organic chemical vapour deposition technique which provides a wide range of material composition covering the entire infrared range from 1.5 μm to 14 μm. Fundamental issues concerning the design of individual areas of the heterostructure including: the absorber, contacts, and transient layers with respect to their thickness, doping and composition were discussed. An example of determining the gain is also given pointing to the potential application of the obtained devices in avalanche photodiode detectors that can amplify weak optical signals. Selected examples of the analysis of current-voltage and spectral characteristics are shown. Multiple detectors based on a connection in series of small individual structures are also presented as a solution to overcome inherent problems of low resistance of LWIR photodiodes. The HgCdTe detectors were compared with detectors from III-V materials. The detectors based on InAs/InAsSb superlattice materials achieve very comparable parameters and, in some respects, they are even superior to those with mercury cadmium telluride.
    Źródło:
    Opto-Electronics Review; 2023, 31, Special Issue; art. no. e144551
    1230-3402
    Pojawia się w:
    Opto-Electronics Review
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Methane cracking and secondary hydrocarbon generation in inductively coupled RF plasmas
    Autorzy:
    Tabarés, F. L.
    Alegre, D.
    Mozetič, M.
    Vesel, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/146424.pdf
    Data publikacji:
    2012
    Wydawca:
    Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
    Tematy:
    plasma
    RF discharges
    hydrocarbon cracking
    methane reforming
    plasma-assisted chemical vapour deposition (PACVD)
    carbon films
    Opis:
    Pure methane plasmas have been produced in an inductively coupled radio frequency (ICRF) reactor with quartz walls in the absence of carbon film deposition. A differentially pumped mass spectrometer was used for the recording of the secondary hydrocarbon species produced in the reactor. The functional dependences of these species with plasma parameters has been analyzed and tentative mechanisms for their formation have been formulated. High power per molecule ratio promotes methane decomposition and acetylene formation.
    Źródło:
    Nukleonika; 2012, 57, 2; 287-290
    0029-5922
    1508-5791
    Pojawia się w:
    Nukleonika
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Structural Changes in Fibrous Ballistic Materials During PACVD Modification
    Zmiany strukturalne włókienniczych materiałów balistycznych podczas modyfikacji techniką PACVD
    Autorzy:
    Struszczyk, M. H.
    Urbaniak-Domagała, W.
    Puszkarz, A. K.
    Wilbik-Hałgas, B.
    Cichecka, M.
    Sztajnowski, S.
    Puchalski, M.
    Miklas, M.
    Krucińska, I.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/234353.pdf
    Data publikacji:
    2015
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Biopolimerów i Włókien Chemicznych
    Tematy:
    ballistic textiles
    functionalization
    plasma assisted chemical vapour deposition
    tkaniny balistyczne
    funkcjonalność
    PACVD
    optymalizacja plazmowej depozycji polimerów
    Opis:
    The modification of specialized textiles including ballistic textiles by an effective and ecological technique is the main objective for screening the optimal way to obtain multi-functionalised products. The aim of the research was to optimise the method of Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition (PACVD) of ballistic textile: p-aramid fabrics and fibrous materials made of ultra-high molecular weight polyethylene to produce a functionalized surface supported by the various kinds of deposited polymers. The research was carried out to screen the several processing parameters of PACVD with the presence of low-molecular mass organic compounds containing fluoro- or silane moieties to obtain a change in the surface behaviour of ballistic textiles. The process of PACVD allowed to effectively steer the behaviour of the surface properties of modified ballistic textiles, such as the amount of the deposited polymer and its form as well as chemical characterisation depending on the processing parameters.
    Modyfikacja specjalistycznych tekstyliów balistycznych, w tym tkanin, dzięki zastosowaniu efektywnych i ekologicznych technik, stanowi główny cel selekcji optymalnych dróg uzyskania wielofunkcjonalnych produktów. Celem przeprowadzonych badań była optymalizacja plazmowej depozycji polimerów (Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition - PACVD) na balistycznych materiałach włókienniczych: tkaninach p-aramidowych oraz włóknistych materiałach wykonanych z polietylenu o znacząco wysokiej masie cząsteczkowej (UHMWPE) do uzyskania sfunkcjonalizowanej powierzchni dzięki depozycji różnego typu polimerów. Badania przeprowadzono celem wykreowania zmian właściwości powierzchni balistycznych tekstyliów poprzez selekcję wielu parametrów procesowych PACVD w obecności niskocząsteczkowych związków organicznych zawierających fluor lub grupy silanowe. Proces PACVD umożliwił skuteczne sterowanie właściwościami powierzchni zmodyfikowanych tekstyliów balistycznych, poprzez: ilość deponowanego polimeru i jego postać, a także charakterystykę chemiczną, zależnych od parametrów procesowych.
    Źródło:
    Fibres & Textiles in Eastern Europe; 2015, 6 (114); 102-115
    1230-3666
    2300-7354
    Pojawia się w:
    Fibres & Textiles in Eastern Europe
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Optimization of radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition process of diamond-like carbon films
    Autorzy:
    Kijaszek, W.
    Oleszkiewicz, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/174787.pdf
    Data publikacji:
    2016
    Wydawca:
    Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
    Tematy:
    diamond-like carbon
    radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition RF ICP PECVD
    Raman scattering spectroscopy
    spectroscopic ellipsometry
    Opis:
    The diamond-like carbon materials have unique mechanical, optical, electrical and chemical properties. The material is commonly applied in automotive industry, medicine and in other everyday life products. However, the diamond-like carbons are not used in micro- and optoelectronics on a wider scale due to technological problems. The application of the diamond-like carbon films in electronic structure is limited because the standard methods do not ensure that the quality and properties of the deposited film will be satisfactory for a specific application. On the other hand, more sophisticated methods that allow manufacturing the diamond-like carbon film with adequate properties, such as microwave assisted chemical vapour deposition, require heating of the substrate to high temperature (above 1000°C). The solution to the problem is the radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition method that allows deposition of the diamond-like carbon films with satisfactory properties and the process can be carried out at room temperature. In the paper, basic information and issues concerning the diamond-like carbon films manufacturing technology by radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition method will be explained. The diamond-like carbon films were investigated by the Raman scattering spectroscopy and the spectroscopic ellipsometry.
    Źródło:
    Optica Applicata; 2016, 46, 2; 167-172
    0078-5466
    1899-7015
    Pojawia się w:
    Optica Applicata
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Raman modular system with fibre-optic probes for remote monitoring of CVD process
    Modułowy system ramanowski z sondami światłowodowymi do zdalnego monitorowania procesów CVD
    Autorzy:
    Gnyba, M.
    Bogdanowicz, R.
    Wroczyński, P.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/256741.pdf
    Data publikacji:
    2006
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
    Tematy:
    spektroskopia ramanowska
    monitoring in-situ
    sonda światłowodowa
    CVD
    cienka warstwa diamentowa
    Raman spectroscopy
    in-situ monitoring
    fibre-optic probe
    chemical vapour deposition
    diamond thin film
    Opis:
    Dedicated Raman system was designed for in-situ monitoring of thin film growth in CVD (chemical vapour deposition) process. Review of monitoring requirements and limiting factors is given in this paper. Computer simulation of laser beam propagation in the CVD chamber and the thin film was carried out. Components for Raman optical probes and their configuration were selected using results of the modelling. Ex-situ investigation of the thin films enabled determination of the Raman scattering intensity. The prototype of the modular Raman system using fibre-optic probes was built. Efficiency of optical signal transmission through the probes was tested.
    W artykule przedstawiono projekt systemu ramanowskiego do monitorowania in-situ wzrostu cienkich warstw w procesie CVD i analizę związanych z tym problemów metrologicznych. Na podstawie wyników modelowania komputerowego wprowadzania wiązki laserowej do komory i jej propagacji w cienkiej warstwie wytypowano optymalną konfigurację optyczną systemu ramanowskiego i określono parametry optyczne jego elementów. Zbudowano prototyp modułowego wyposażonego w sondy światłowodowe. Wykonano pomiary wstępne obejmujące badania ex-situ generacji sygnału ramanowskiego w wybranych materiałach oraz testy sondy nadawczej na stole optycznym.
    Źródło:
    Problemy Eksploatacji; 2006, 4; 115-127
    1232-9312
    Pojawia się w:
    Problemy Eksploatacji
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Possibilities of using aluminide coating modifications by nickel galvanizing with introduction of additional elements: CR, SI and ZR
    Modyfikowanie warstw aluminidkowych Cr, Si i Zr w procesach niklowania elektrochemicznego i chemicznego osadzania z fazy gazowej CVD
    Autorzy:
    Góral, M.
    Nieużyła, Ł.
    Pytel, M.
    Simka, W.
    Kubaszek, T.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/175906.pdf
    Data publikacji:
    2018
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    aluminide coatings
    protective coatings
    aluminizing processes
    pack aluminizing
    gas phase aluminizing
    chemical vapour deposition
    modified aluminide coatings
    warstwy aluminidkowe
    powłoki ochronne
    procesy aluminiowania
    aluminiowanie metodą kontaktowo-gazową
    aluminiowanie metodą gazową
    chemiczne osadzanie z fazy gazowej
    modyfikowane warstwy aluminidkowe
    Opis:
    The basic method of surface protection for aviation engine components manufactured from nickel super alloys is diffusion aluminization. There are four methods of forming aluminide coatings: pack cementation, above the pack, slurry, and chemical vapor deposition (CVD). The aluminide coatings are modified with various elements, e.g. Pt, Pd, Hf, Zr, Si, Cr, Y, etc. The paper show results of experiments on the use of electrochemical processes in which the modifying elements are introduced in the form of powder for galvanic bath. These processes have been combined with low-activity and high-activity aluminization, as well as zircon doping in the CVD process. It has been shown that the aluminide coatings formed in the high-activity process are characterized by Al>50% at. content. The aluminide coatings formed in the low-activity process were composed of an outer zone composed of a NiAl phase with an aluminum content <50% at. and the diffusion zone. The aluminide coatings formed during low-activity zircon doping have similar structure. The content of elements introduced with nickel was low (up to several %), which does provide for a desired increase in heat resistance of the modified coatings.
    Aluminiowanie dyfuzyjne jest podstawowym procesem wprowadzonym do ochrony powierzchni elementów części gorącej silników lotniczych wytwarzanych z nadstopów niklu. Warstwy aluminidkowe wytwarzane są w procesach: kontaktowo-gazowym (ang. pack cementation), gazowym bezkontaktowa (ang. above the pack), zawiesinowowym (ang. slurry) i chemicznym osadzaniu z fazy gazowej CVD (ang. Chemical Vapour Deposition). Warstwy aluminidkowe dla zwiększenia ich żaroodporności modyfikowane są pierwiastkami m.in. Pt, Pd, Hf, Zr, Si, Cr, Y. W artykule przedstawiono analizę wyników badań warstw aluminidkowych, w których pierwiastki modyfikujące wprowadzono w postaci proszku do kąpieli galwanicznej w trakcie procesu niklowania. Procesy te połączono z aluminiowaniem nisko- i wysokoaktywnym, a także cyrkono-aluminiowaniem w procesie CVD. Wykazano, że warstwy aluminidkowe wytworzone w procesie wysokoaktywnym charakteryzują się zawartością Al >50% at. W warstwie aluminidkowej wytworzonej w procesie niskoaktywnym wyodrębniono strefę zewnętrzną - kryształów fazy NiAl o zawartości Al <50% at. oraz strefę dyfuzyjną. Zbliżoną budowę miały warstwy aluminidkowe wytworzone w trakcie cyrkono-aluminiowania niskoaktywnego. Stwierdzono małe zawartości pierwiastków wprowadzanych wraz z niklem (do kilku %).
    Źródło:
    Advances in Manufacturing Science and Technology; 2018, 42, 1-4; 87-96
    0137-4478
    Pojawia się w:
    Advances in Manufacturing Science and Technology
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-7 z 7

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies