Temat: UV-Fenton - Katalog OPAC zbiorów

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Removal of Nitramine Explosives in Aqueous Solution by UV-Mediated Advanced Oxidation Process in Near-Neutral Conditions
Autorzy:: Khue, Do Ngoc
Bach, Vu Quang
Binh, Nguyen Thanh
Minh, Do Binh
Nam, Pham Thi
Loi, Vu Duc
Nguyen, Hoa Thanh
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/1838360.pdf
Data publikacji:: 2021
Wydawca:: Polskie Towarzystwo Inżynierii Ekologicznej
Tematy:: hexogen
octogen
tetryl
UV
photo-Fenton
electrooxidation
near neutral
Opis:: Explosive compounds are hazardous to the environment, posing a serious risk to human and animal health and the ecosystem. The primary goal of research was to compare the efficiency of UV/H2O2, photo-Fenton, electro (EO)/ UV/H2O2 processes at near-neutral pH (pH=6) on the degradation of nitramine explosives (NAs), such as hexogen (RDX), octogen (HMX), and tetryl (TET), in an aqueous solution. The effect of operational conditions, likely pH of the solution, initial H2O2 concentration, initial Fe2+ concentration, and solution temperature, was observed. The removal kinetics fit with first-order kinetics and were in the order: photo-Fenton >EO/UV/ H2O2 > UV/ H2O2. The results showed higher rate constant values for TET, RDX and HMX removal by UV/ H2O2 (k = 0.07778, 0.03791 and 0.03786 min-1), EO/UV/ H2O2 (k = 0.16599, 0.1475 and 0.08674 min-1) and photo-Fenton (k = 0.18018, 0.1501 and 0.09336 min-1) processes. Furthermore, TET, RDX and HMX were mineralized at 59.7%, 45.1%, and 25.1 %, respectively, under optimum conditions after 60 min of the photo-Fenton process. From the economic perspective, photo-Fenton only requires 2.132–4.113 kWh m-3 to completely reduce NAs. Finally, acute toxicity towards Vibrio fischeri was defeated after usage of near-neutral photo-Fenton. Thus, photo-Fenton at circum-neutral is promising for low-cost, eco-friendly and efficient processes for treating nitramine explosives in aqueous solutions.
Źródło:: Journal of Ecological Engineering; 2021, 22, 6; 232-243
2299-8993
Pojawia się w:: Journal of Ecological Engineering
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Removal of Nitramine Explosives in Aqueous Solution by UV-Mediated Advanced Oxidation Process in Near-Neutral Conditions
Autorzy:: Khue, Do Ngoc
Bach, Vu Quang
Binh, Nguyen Thanh
Minh, Do Binh
Nam, Pham Thi
Loi, Vu Duc
Nguyen, Hoa Thanh
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/1838333.pdf
Data publikacji:: 2021
Wydawca:: Polskie Towarzystwo Inżynierii Ekologicznej
Tematy:: hexogen
octogen
tetryl
UV
photo-Fenton
electrooxidation
near neutral
Opis:: Explosive compounds are hazardous to the environment, posing a serious risk to human and animal health and the ecosystem. The primary goal of research was to compare the efficiency of UV/H2O2, photo-Fenton, electro (EO)/ UV/H2O2 processes at near-neutral pH (pH=6) on the degradation of nitramine explosives (NAs), such as hexogen (RDX), octogen (HMX), and tetryl (TET), in an aqueous solution. The effect of operational conditions, likely pH of the solution, initial H2O2 concentration, initial Fe2+ concentration, and solution temperature, was observed. The removal kinetics fit with first-order kinetics and were in the order: photo-Fenton >EO/UV/ H2O2 > UV/ H2O2. The results showed higher rate constant values for TET, RDX and HMX removal by UV/ H2O2 (k = 0.07778, 0.03791 and 0.03786 min-1), EO/UV/ H2O2 (k = 0.16599, 0.1475 and 0.08674 min-1) and photo-Fenton (k = 0.18018, 0.1501 and 0.09336 min-1) processes. Furthermore, TET, RDX and HMX were mineralized at 59.7%, 45.1%, and 25.1 %, respectively, under optimum conditions after 60 min of the photo-Fenton process. From the economic perspective, photo-Fenton only requires 2.132–4.113 kWh m-3 to completely reduce NAs. Finally, acute toxicity towards Vibrio fischeri was defeated after usage of near-neutral photo-Fenton. Thus, photo-Fenton at circum-neutral is promising for low-cost, eco-friendly and efficient processes for treating nitramine explosives in aqueous solutions.
Źródło:: Journal of Ecological Engineering; 2021, 22, 6; 232-243
2299-8993
Pojawia się w:: Journal of Ecological Engineering
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Removal of organic compounds from wastewater originating from the production of printed circuit boards by UV-Fenton method
Usuwanie związków organicznych ze ścieków pochodzących z produkcji obwodów drukowanych metodą UV-Fentona
Autorzy:: Thomas, M.
Białecka, B.
Zdebik, D.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/204873.pdf
Data publikacji:: 2017
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:: advanced oxidation process
response surface methodology
printed circuits board
wastewater
UV-Fenton
zaawansowany proces utleniania
metodologia powierzchni odpowiedzi
płyta z obwodami drukowanymi
ścieki
Opis:: The possibility of removing organic compounds from wastewater originating from the photochemical production of printed circuit boards by use of waste acidification and disposal of precipitated photopolymer in the first stage and the UV-Fenton method in a second stage has been presented. To optimize the process of advanced oxidation, the RSM (Response Surface Methodology) for three independent factors was applied, i.e. pH, the concentration of Fe(II) and H₂O₂ concentration. The use of optimized values of individual parameters in the process of wastewater treatment caused a decrease in the concentration of the organic compounds denoted as COD by approx. 87% in the first stage and approx. 98% after application of both processes. Precipitation and the decomposition of organic compounds was associated with a decrease of wastewater COD to below 100 mg O₂/L whereas the initial value was 5550 mg O₂/L. Decomposition of organic compounds and verification of the developed model of photopolymers removal was also carried out with use of alternative H₂O₂ sources i.e. CaO₂, MgO₂, and Na₂CO₃·1,5H₂O₂.
Przedstawiono możliwość usuwania związków organicznych ze ścieków pochodzących z fotochemicznej produkcji obwodów drukowanych przez zastosowanie w pierwszym etapie zakwaszania ścieków i usuwaniem wytrąconego fotopolimeru, a w drugim etapie metody UV-Fentona. Do optymalizacji procesu pogłębionego utleniania zastosowano metodę powierzchni odpowiedzi dla trzech czynników niezależnych, tj.: pH, stężenia Fe(II) oraz stężenia H₂O₂. Zastosowanie zoptymalizowanych wartości poszczególnych parametrów w procesie oczyszczania ścieków spowodowało zmniejszenie stężania związków organicznych oznaczanych jako COD o ok. 87% w pierwszym etapie oraz ok. 98% po zastosowaniu obu procesów. Wytrącanie oraz rozkład związków organicznych związane były ze zmniejszeniem się COD ścieków do poniżej 100 mg O₂/L, przy początkowej wartości wynoszącej 5550 mg O₂/L. Rozkład związków organicznych oraz weryfi kację opracowanego modelu procesu usuwania fotopolimerów przeprowadzono także z zastosowaniem alternatywnych źródeł H₂O₂, tj.: CaO₂, MgO₂, i Na₂CO₃·1,5H₂O₂.
Źródło:: Archives of Environmental Protection; 2017, 43, 4; 39-49
2083-4772
2083-4810
Pojawia się w:: Archives of Environmental Protection
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Informacja

Wyszukujesz frazę "UV-Fenton" wg kryterium: Temat

Źródło danych

Dostawca treści

Kolekcja

Rok wydania

Wydawca

Temat

Autor

Typ dokumentu

Język