Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Thin Film" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
Wyświetlanie 1-15 z 77
Tytuł:
Wytwarzanie i badanie cienkich warstw dla fotowoltaiki organicznej
Investigation of organic film for photovoltaic applications
Autorzy:
Przybylski, D.
Zając, D.
Patela, S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2056385.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Napędów i Maszyn Elektrycznych Komel
Tematy:
warstwy organiczne
ogniwa fotowoltaiczne
nanoszenie cienkich warstw
organic coatings
photovoltaic cells
thin-film depositions
Opis:
Artykuł przedstawia proces wytwarzania cienkich warstw organicznych metodą powlekania wirowego (spin-coatingu). Analizowany w pracy związek organiczny był nakładany na podłoża szklane. Podczas procesu modyfikowano parametry, takie jak: prędkość wirowania, czas wirowania, stężenie procentowe związku, rodzaj zastosowanego rozpuszczalnika oraz objętość próbki. Uzyskane warstwy organiczne poddano badaniom fizykochemicznym. Pomiar grubości wykonano za pomocą profilometru optycznego, a następnie podjęto próbę weryfikacji otrzymanego wyniku na profilometrze mechanicznym. W kolejnym kroku zmierzona została charakterystyka transmitancji na spektrofotometrze. Proces miał na celu opracowanie technologii otrzymywania warstwy organicznej o grubości 100-120 nm na podłożu szklanym oraz przeprowadzenie wstępnej analizy właściwości optycznych otrzymanych próbek.
The article presents results of investigation of organic film for photovoltaic applications. The organic material was applied in spin coating method. In this process the time of spin coating,the rotation speed and amount of organics substance were varied. The investigated organic layers were measured by optics and mechanic profilometers and spectrophotometer. In all of process we tried to obtain 100-120 nm of thickness of organics thin-film.
Źródło:
Maszyny Elektryczne: zeszyty problemowe; 2018, 2, 118; 137--140
0239-3646
2084-5618
Pojawia się w:
Maszyny Elektryczne: zeszyty problemowe
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Windshield Defrost Simplified CFD Model
Autorzy:
Schmid, Michal
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/112070.pdf
Data publikacji:
2019
Wydawca:
Stowarzyszenie Menedżerów Jakości i Produkcji
Tematy:
windshield defrost
CFD
ice layer thickness
VOF
Thin Film
model CFD
model VOF
cienki film
Opis:
The windshield defrost system, in general, is a vehicle safety feature. Thus, its restricted by variety of directives. However, the OMEs’ benchmark targets could be even more demanding as the deicing process is in addition also part of passengers comfort. From vehicle design point of view the wind-shield defrost system is typically connected to HVAC unit (Heating, Ventilation and Air Conditioning). In the technical solution the windshield is heated via hot air convection. Nevertheless, other methods are becoming more and more popular, like directly heated glass by hot wire ohmic heating (heated glasses). The defrost CFD model should predict the ice layer thickness in time and space and in environmental conditions defined according to appropriate directives and technical solution. The accurate and fast modelling technique is essential part of a vehicle development, especially nowadays, where the optimization techniques area widely used and requires hundreds of simulations runs. Modelling requests are even increasing with modern pure electric vehicles (EVs), were the thermal and energy management is more demanding compared to the classical internal combustion engine (ICE) vehicles. The aim of the work is to verify possibility to model the ice layer thickness with simplified approach, which could be beneficial from computational time burden.
Źródło:
Production Engineering Archives; 2019, 25; 8-11
2353-5156
2353-7779
Pojawia się w:
Production Engineering Archives
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Wielowarstwowe cienkie filmy jako powłoki o właściwościach przeciwdrobnoustrojowych
Autorzy:
Kruk, T.
Szczepanowicz, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/274162.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Roble
Tematy:
nanotechnologia
cienki film wielowarstwowy
filmy polimerowe
ochrona przeciwdroboustrojowa
warstwy polielektrolitowe
nanotechnology
multilayer thin film
polymeric film
antimicrobial protection
polyelectrolyte layers
Źródło:
LAB Laboratoria, Aparatura, Badania; 2012, 17, 1; 57-61
1427-5619
Pojawia się w:
LAB Laboratoria, Aparatura, Badania
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Vibro-acoustic analysis of laminated double glazing using the force identification method
Autorzy:
Ben Jdidia, M
Akrout, A
Tounsi, D
Fakhfakh, T.
Haddar, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/949211.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Polskie Towarzystwo Mechaniki Teoretycznej i Stosowanej
Tematy:
fluid-structure interaction
thin-film laminated plate
ICA
excitation force
Kurtosis
Opis:
This paper presents a procedure for identifying wave forms and excitation frequencies of some forces applied on a given complex fluid-structure coupled system by using only its vibro-acoustic response. The considered concept is called the Independent Component Analysis (ICA) which is based on the Blind Source Separation (BSS). In this work, the ICA method is exploited in order to determine the excitation force applied to a thin-film laminated double glazing system enclosing a thin fluid cavity and limited by an elastic joint. The dynamic response of the studied fluid-structure coupled system is determined by finite element discretization and minimization of the homogenized energy functional of the coupled problem. This response will serve as the input for the ICA algorithm in order to extract the applied excitation.
Źródło:
Journal of Theoretical and Applied Mechanics; 2014, 52, 4; 895-904
1429-2955
Pojawia się w:
Journal of Theoretical and Applied Mechanics
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Utilization of the cyclic interferometer in polarization phase-shifting technique to determine the thickness of transparent thin-films
Autorzy:
Kaewon, Rapeepan
Pawong, Chutchai
Chitaree, Ratchapak
Lertvanithphol, Tossaporn
Bhatranand, Apichai
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/173387.pdf
Data publikacji:
2020
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
polarization phase-shifting technique
cyclic interferometric configuration
non-destructive thickness measurements
transparent thin film
Opis:
An alternative polarization phase-shifting technique is proposed to determine the thickness of transparent thin-films. In this study, the cyclic interferometric configuration is chosen to maintain the stability of the operation against external vibrations. The incident light is simply split by a non-polarizing beam splitter cube to generate test and reference beams, which are subsequently polarized by a polarizing beam splitter. Both linearly polarized beams are orthogonal and counter-propagating within the interferometer. A wave plate is inserted into the common paths to introduce an intrinsic phase difference between the orthogonal polarized beams. A transparent thin-film sample, placed in one of the beam tracks, modifies the output signal in terms of the phase retardation in comparison with the reference beam. The proposed phase-shifting technique uses a moving mirror with a set of “fixed” polarizing elements, namely, a quarter-wave retarder and a polarizer, to facilitate phase extraction without rotating any polarizing devices. The measured thicknesses are compared with the measurements of the same films acquired using standard equipment such as the field-emission scanning electron microscope and spectroscopic ellipsometer. Experimental results with the corresponding measured values are in good agreement with commercial measurements. The system can be reliably utilized for non-destructive thickness measurements of transparent thin-films.
Źródło:
Optica Applicata; 2020, 50, 1; 69-81
0078-5466
1899-7015
Pojawia się w:
Optica Applicata
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Urbach energy and dispersion parameters of CdS chemically deposited thin films on the effect of thickness
Autorzy:
Hadi, Ahmed Hussin
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1177946.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
Tematy:
CdS thin film
Dispersion parameters
Urbach energy
chemical spray pyrolysis
Opis:
Optical transmittance spectra of CdS thin films were recorded from UV-Visible spectrophotometer in the range 380-900 nm. The films were prepared by chemical spray pyrolysis by spraying an aqueous solution of cadmium chloride (CdCl2) and thiourea [(NH2)2CS] with de-ionized water. UV-Visible spectrophotometer used to recording the transmittance spectra in the range of 380-900 nm. The transmittance decreased with the increasing of CdS film thickness, while the reflectance increases. The energy gap decreased with the increasing of film thickness, while Urbach energy increased. Dispersion parameters such as; Ed, Eo, ε∞, n(0), So, λo, M-1, and M-3 are studied.
Źródło:
World Scientific News; 2018, 97; 241-249
2392-2192
Pojawia się w:
World Scientific News
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Transport processes in thin films induced with absorption for two aromatic hydrocarbons
Transport ładunku w cienkich warstwach indukowany absorpcją dla dwu aromatycznych węglowodorów
Autorzy:
Kania, S.
Kuliński, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/296454.pdf
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Politechnika Łódzka. Wydawnictwo Politechniki Łódzkiej
Tematy:
cienkie warstwy
warstwa tetracenu
warstwa p-czterofenylu
proces aktywacji
ruchliwość elektronów
transport nośników ładunku
thin film
tetracene film
p-quaterphenyl film
activation process
electron mobility
carrier transport
Opis:
Transport processes enhanced by absorption of the volatile ethanol on the tetracene and p-quaterphenyl films are considered. Obtained results may suggest injection of the charge during chemisorptions. There was observed a deep modulation of conductivity due to absorption of ethanol, this dependence suggests some ability to utilize.
Badano proces aktywacji i proces transportu elektronów w warstwach tetracenu i p-quaterphenylu. Uzyskane wyniki zdają się sugerować, że mamy tu do czynienia z chemisorpcją etanolu i produktów jego rozpadu termicznego skojarzoną z transferem elektronów do lub z warstwy. Właściwym do opisu transferu elektronów wydaje się być model kwantowy jednoelektronowy, rozpisany dla każdego rodzaju cząsteczki absorbatu. Wydaje się, że duża głębokość modulacji prądu oraz zależność procesów przewodnictwa od chwilowej wartości stężenia par aktywatora i odwracalność procesu może sugerować pewne możliwości utylitarne.
Źródło:
Scientific Bulletin. Physics / Technical University of Łódź; 2010, 31; 51-31
1505-1013
2449-982X
Pojawia się w:
Scientific Bulletin. Physics / Technical University of Łódź
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Titanium dioxide nanoparticles and thin films deposited by an atomization method
Autorzy:
Machalska, G.
Noworolnik, M.
Szindler, M.
Sitek, W.
Babilas, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/379058.pdf
Data publikacji:
2019
Wydawca:
Stowarzyszenie Komputerowej Nauki o Materiałach i Inżynierii Powierzchni w Gliwicach
Tematy:
sol-gel
nanoparticles
thin film
titanium dioxide
atomization
zol-żel
nanocząsteczki
cienka powłoka
dwutlenek tytanu
atomizacja
Opis:
Purpose: The article presents the results of research on titanium dioxide synthesized by a sol-gel method that is an easy process enabling the control of the shape and size of particles The purpose of this article is to examine titanium dioxide nanoparticles and thin films deposited by an atomization method. Design/methodology/approach: Titanium dioxide sol was synthesized by using titanium isopropoxide as a precursor. Optical properties were measured by a UV-Vis spectrometer. Structural studies were performed by Raman spectroscopy. Qualitative analysis was performed by the EDS. Surface morphology of nanoparticles and thin films was performed by the SEM technique. Findings: The sol-gel method allows the formation of uniform nanoparticles and thin films of titanium dioxide. The atomization method is a successful method for the deposition of sol to the surface of substrates. Research limitations/implications: The next step in the research will be to investigate the obtained thin films in dye-sensitized solar cells as a semiconductive layer. Practical implications: Unique properties of produced titanium dioxide nanostructural materials have caused the interest in them in such fields as optoelectronics, photovoltaics, medicine and decorative coatings. Originality/value: Titanium dioxide thin films and nanoparticles were synthesized using the sol-gel method and then deposited by the atomization method.
Źródło:
Archives of Materials Science and Engineering; 2019, 100, 1/2; 34-41
1897-2764
Pojawia się w:
Archives of Materials Science and Engineering
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The optical parameters of TiO2 antireflection coating prepared by atomic layer deposition method for photovoltaic application
Autorzy:
Szindler, Marek
Szindler, Magdalena M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1835965.pdf
Data publikacji:
2020
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
thin film
atomic layer deposition
titanium dioxide
Opis:
Titanium dioxide thin films have been deposited on silicon wafers substrates by an atomic layer deposition (ALD) method. There optical parameters were investigated by spectroscopic ellipsometry and UV/VIS spectroscopy. A material with a refractive index of 2.41 was obtained. Additionally, in a wide spectral range it was possible to reduce the reflection from the silicon surface below 5%. The Raman spectroscopy method was used for structural characterization of anatase TiO2 thin films. Their uniformity and chemical composition are confirmed by a scanning electron microscope (SEM) energy dispersive spectrometer (EDS).
Źródło:
Optica Applicata; 2020, 50, 4; 663-670
0078-5466
1899-7015
Pojawia się w:
Optica Applicata
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The Influence of the Bias on Mechanical Properties of a-C:H CVD Thin Films
Autorzy:
Kottfer, D.
Marton, M.
Kaczmarek, Ł.
Kuffova, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/403717.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
Tematy:
mechanics
a-C:H thin film
hardness
Young's modulus
7075 Al alloy
Opis:
In this study a-C:H (hydrogenated amorphous carbon) thin films were deposited on the 7075 Al alloy without an interlayer using a DC CVD (direct current chemical vapor deposition) method with varied negative substrate bias in order to improve the hardness and Young´s modulus. The highest values of films hardness and Young´s modulus were 25.6±3.5 GPa and 140.3±4.6 GPa, respectively. The measured results show a promising potential of the a-C:H coated 7075 Al alloy for low load (up to 10 N) applications.
Źródło:
Problemy Mechatroniki : uzbrojenie, lotnictwo, inżynieria bezpieczeństwa; 2018, 9, 1 (31); 23-30
2081-5891
Pojawia się w:
Problemy Mechatroniki : uzbrojenie, lotnictwo, inżynieria bezpieczeństwa
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al2O3 thin films
Autorzy:
Dobrzanski, L. A.
Szindler, M.
Hajduk, B.
Kotowicz, S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/173801.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
thin film
aluminum oxide
atomic layer deposition
Opis:
This paper presents some results of investigations on aluminum oxide Al2O3 thin films prepared by the atomic layer deposition method on polished monocrystalline silicon. It has been described how the technological parameters of the deposition process, like the number of cycles and substrate temperature, influenced the optical properties and morphology of prepared thin films. Their physical and optical properties like thickness, uniformity and refractive index have been investigated with spectroscopic ellipsometry, atomic force microscopy and UV/vis optical spectroscopy.
Źródło:
Optica Applicata; 2015, 45, 4; 573-583
0078-5466
1899-7015
Pojawia się w:
Optica Applicata
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The Effect of Silicon Orientation on Thickness and Chemical Bonding Configuration of SiOxNy Thin Films
Autorzy:
Ismael, M. M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/412157.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
Tematy:
Glass assisted CO2 laser
Silicon substrate
SiOxNy Thin Film
Opis:
Fourier Transform Infrared (FTIR) Spectroscopy and Capacitance-Voltage measurements are used to characterize the chemical bonding configuration and crystallographic orientations for SiOxNy thin films grown by glass assisted CO2 laser. FTIR spectra detected the Si-O and Si-N strongest absorption bands are close to each other at wave number in the range (700-1000 cm-1) depending on silicon substrates, and Si-O stretching bond at wave number around (~1088.285 cm-1) with a FWHM of 73.863 cm-1 for the two samples, the presences of hydrogen impurities like Si-H and N-H in the films were also identified and calculated. From C-V measurement film thickness were calculated and found to be 19.2 and 17.2 nm for SiOxNy/Si(111) and SiOxNy/Si(100) respectively. From the flat band voltage of -5.4 and -1.3 measured the two samples, their interface trap densities were found to be 1.4 × 1013 and 1.57 × 1013 ev-1•cm-2 respectively.
Źródło:
International Letters of Chemistry, Physics and Astronomy; 2013, 14; 1-9
2299-3843
Pojawia się w:
International Letters of Chemistry, Physics and Astronomy
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Surface roughness and residual stress evolution in SiNx/SiO2 multilayer coatings deposited by reactive pulsed magnetron sputtering
Autorzy:
Tien, Chuen-Lin
Lee, Po-Wei
Lin, Shih-Chin
Lin, Hong-Yi
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1835787.pdf
Data publikacji:
2021
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
thin film
residual stress
quarter-wave stack
surface roughness
Opis:
The surface roughness and residual stress behavior in two types of SiNx/SiO2 dielectric quarter-wave stacks was investigated experimentally. A reactive pulsed magnetron sputtering system was used to prepare the SiNx/SiO2 multilayer thin films. The results show that SiNx/SiO2 quarter-wave stack with a buffer layer of MgF2 thin film can reduce the residual stress. The effect of aging on the residual stress in two quarter-wave stacks was also studied. We found that the residual stresses in both SiNx/SiO2 multilayer coatings are changed from a compressive state to a tensile stress state with increasing the aging time. The root mean square (RMS) surface roughness of MgF2/(SiNx/SiO2)22 and (SiNx/SiO2)22 quarter-wave stacks are 2.23 ± 0.22 nm and 2.08 ± 0.20 nm, respectively.
Źródło:
Optica Applicata; 2021, 51, 2; 223-233
0078-5466
1899-7015
Pojawia się w:
Optica Applicata
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Structural and Optical Properties of Sol-Gel Derived Dip-Coated CdO Thin Film
Autorzy:
Kumari, Renu
Kumar, Vipin
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1159724.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
Tematy:
Band gap
CdO
Sol-gel dip coating
Thin film
Opis:
In this paper CdO thin film has been prepared by sol-gel dip-coating method on glass substrate. The film was characterized by X-Ray diffraction, UV-Visible spectroscopy and photoluminescence spectroscopy for structural and optical properties of CdO thin film. The XRD pattern shows that film is polycrystalline in nature and has a cubical structure with orientation along (111) plane. The diffuse reflectance spectra for the film is studied in wavelength range 400-800 nm. The direct energy band gap of 2.50 eV is found for the film using modified Kubelka-Munk function. Photoluminescence spectra shows one sharp peak at 540 nm due to oxygen vacancy of cadmium oxide.
Źródło:
World Scientific News; 2018, 113; 210-217
2392-2192
Pojawia się w:
World Scientific News
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Stability of finite-size argon thin film coating single wall carbon nanotube
Autorzy:
Kośmider, M.
Dendzik, Z.
Żurek, S.
Górny, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1964139.pdf
Data publikacji:
2009
Wydawca:
Politechnika Gdańska
Tematy:
nanotube
molecular dynamics
cluster
thin film
Opis:
The structure and the dynamics of the argon thin film coating (15,4) and (12,12) carbon nanotubes have been studied in a series of molecular dynamic simulations. In the studied temperature regime, the argon atoms in the thin film were well localized. Structural changes and diffusion process inside the argon layers were not been observed. The influence of the chirality and the radius of the nanotube to the cluster properties is also reported.
Źródło:
TASK Quarterly. Scientific Bulletin of Academic Computer Centre in Gdansk; 2009, 13, 3; 187-197
1428-6394
Pojawia się w:
TASK Quarterly. Scientific Bulletin of Academic Computer Centre in Gdansk
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Wyświetlanie 1-15 z 77

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies