Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Plasma generation" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-7 z 7
Tytuł:
The Zno Nano Material Interaction With Nd:YAG Laser Under Vacuum
Autorzy:
Hussam, N. Mohammed Ali
Yahya, Abdulkreem Salman
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1179694.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Przedsiębiorstwo Wydawnictw Naukowych Darwin / Scientific Publishing House DARWIN
Tematy:
Langmuir probe
Nd:YAG laser etching
Plasma generation
ZnO nanomaterial
electron density
electron temperature
Opis:
The goal of this paper is to study the Nd:YAG laser interaction with the ZnO nanomaterial by etching the ZnO nanodisc surface. The preparation of ZnO nanodisc is studied also and the setup which we use in previous experiment published in the (IJRRR, Vol. X, Issue 1, March 2017) is used also. The interaction is done under vacuum conditions with high pressure in the range of (10-3) Tor. The main target of the paper is to study the plasma generated from the etching of the ZnO nanodisc by Nd:YAG laser.
Źródło:
World Scientific News; 2017, 72; 248-255
2392-2192
Pojawia się w:
World Scientific News
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Bezpieczeństwo pracy z mikrofalami przy urządzeniach do wytwarzania plazmy
Safety rules during work with microwave generated plasma
Autorzy:
Araszkiewicz, M.
Kordylewski, W.
Wnukowski, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/179006.pdf
Data publikacji:
2016
Wydawca:
Centralny Instytut Ochrony Pracy
Tematy:
mikrofale
generacja plazmy
promieniowanie mikrofalowe
promieniowanie elektromagnetyczne
strefy bezpieczeństwa
microwaves
plasma generation
microwave radiation
electromagnetic radiation
Opis:
W artykule przedstawiono sposób zapewnienia bezpieczeństwa podczas prowadzenia procesu plazmowego z wykorzystaniem mikrofal. Omówiono podstawowe elementy aparatury mikrofalowej wspólne dla wszystkich tego rodzaju urządzeń. Przedstawiono również najważniejsze zagrożenia, jakie można spotkać w przypadku stosowania mikrofal w aparaturze przemysłowej. Z uwagi na specyfikę promieniowania mikrofalowego, zasady bezpieczeństwa są w tym przypadku szczególnie istotne. Analiza potencjalnego ryzyka, metody wyznaczania poszczególnych stref bezpieczeństwa, jak i postępowanie w celu uzyskania certyfikacji stanowiska ze źródłem pola elektromagnetycznego o wysokiej częstotliwości zostały szczegółowo opisane. Dodatkowo przytoczono podstawowe akty prawne dotyczące tej tematyki.
The methods of providing the safety of microwave generated plasma conduction processes are presented in the article. Basic elements of microwave apparatuses common for the all microwave devices are discussed. The most important potential dangers that can be spotted around microwave industrial apparatuses are listed. The safety rules are extremely important due to the specific micro-wave behavior. Analysis of potential risk, the method of determination of each safety perimeters and ways of obtaining the safety certifications of the microwave site were precisely described. Additionally the legal framework, both European and Polish, on the topic is present m the article.
Źródło:
Bezpieczeństwo Pracy : nauka i praktyka; 2016, 10; 16-19
0137-7043
Pojawia się w:
Bezpieczeństwo Pracy : nauka i praktyka
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Enhanced resonant second harmonic generation in plasma based on density transition
Autorzy:
Kant, N.
Thakur, V.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/148562.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
second harmonic generation
laser
plasma density ramp
self-focusing
Opis:
Resonant second harmonic generation of a relativistic self-focusing laser in plasma with density ramp profile has been investigated. A high intense Gaussian laser beam generates resonant second harmonic beam in plasma with density ramp profile. The second harmonic undergoes periodic focusing in the plasma channel created by the fundamental wave. The normalized second harmonic amplitude varies periodically with distance and attains maximum value in the focal region. Enhancement in the second harmonic amplitude on account of relativistic self-focusing of laser based on plasma density transition is seen. Plasma density ramp plays an important role to make self-focusing stronger which leads to enhance the second harmonic generation in plasma.
Źródło:
Nukleonika; 2015, 60, 2; 355-360
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Dense Plasma Focus as a powerful source of monochromatic X-ray radiation
Autorzy:
Dubrovsky, A.
Gribkov, V.
Ivanov, Y.
Karpiński, L.
Orlova, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/147444.pdf
Data publikacji:
2006
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
dense plasma focus (DPF)
X-ray generation
X-ray dosimetry
exposure dose
absorbed dose
Opis:
A review of some experimental results obtained using the dense plasma focus (DPF) device PF-1000 is presented. The copper Ka1,2 radiation line generated by DPF in the case of device anode made of copper was the main object of this study. The predominance of this characteristic radiation over other kinds of radiation in the DPF X-ray spectrum is shown. A brief description of a new DPF 6.0 device as well as a radioenzymology experiment carried out within this device is presented.
Źródło:
Nukleonika; 2006, 51, 1; 21-28
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Możliwości analityczne generowania lotnych wodorków w technice optycznej spektrometrii emisyjnej (HG-ICP-OES). Część 2. Oznaczanie arsenu w materiałach glinokrzemianowych
The analytical possibilities of vapor hydride generation coupled with optical emission spectrometry (HG-ICP-OES). Part.2. Arsenic determination in aluminosilicate materials
Autorzy:
Piątkowska, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1221490.pdf
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Przemysłu Chemicznego. Zakład Wydawniczy CHEMPRESS-SITPChem
Tematy:
arsen
generacja lotnych wodorków
plazma indukcyjnie sprzężona
HG-ICP-OES
glinokrzemiany warstwowe
arsenic
vapor hydride generation
inductively coupled plasma
layered aluminosilicates
Opis:
Opracowano i wykonano badania walidacyjne procedury analitycznej oznaczania As w wybranych glinokrzemianowych warstwowych techniką optycznej spektrometrii emisyjnej sprzężonej z generacją wodorków (HG-ICP-OES). Ustalono kompromisowe warunki redukcji wstępnej gwarantujące możliwie największą wydajność reakcji tworzenia wodorków. Zastosowanie równoczesnego spektrometru emisyjnego ICP z poziomą geometrią palnika plazmowego i generacją wodorków umożliwiło znaczną poprawę oznaczalności arsenu w porównaniu do stosowanych metod konwencjonalnych, a opracowana metodyka cechuje się licznymi zaletami, z których najważniejsze to: dobra powtarzalność wyników analitycznych, wysoka czułość oraz niska granica oznaczalności.
Investigations of the analytical procedure of arsenic determination in chosen layered aluminosilicates by optical emission spectrometry technique coupled with hydride generation (HG-ICP-OES) were processed and validated. Attempts to establish compromising conditions of arsenic prereduction step assured the best efficiency of hydride generation process were performed. The application of simultaneous axially configured ICP spectrometer coupled with vapor hydride generation technique in arsenic measurements made possible considerable improvement in analyte detectability in comparison to applied conventional spectrofotometric methods. The proposed methodology marked with numerous advantages, which the most important are: good repeatability, high sensitivity as well as low quantifications limits of analytical results.
Źródło:
Chemik; 2010, 64, 5; 376-390
0009-2886
Pojawia się w:
Chemik
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Wpływ warunków wzbudzenia na emisję pierwiastków resztkowych w obecności żelaza w technice HG ICP-OES
Effect of excitation conditions on residual elements emission in the presence of iron in the HG ICP-OES technique
Autorzy:
Knapik, P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/181547.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Metalurgii Żelaza im. Stanisława Staszica
Tematy:
generowanie wodorków
pierwiastki resztkowe
spektrometria emisyjna
spektrometria optyczna
spektrometria atomowa
plazma indukcyjnie sprzężona
hydride generation
residual elements
optical emission spectrometry
inductively coupled plasma
emission spectroscopy
Opis:
Przeprowadzono badania nad możliwością oznaczania śladowych ilości arsenu, antymonu i cyny obecnych w stalach metodą generowania lotnych wodorków W tym celu ustalono optymalne warunki prowadzenia procesu i opracowano program analityczny spektrometru ICP-OES Agilent 5100. Opracowanie programu analitycznego wymagało ustalenia optymalnych parametrów wzbudzenia oznaczanych pierwiastków. W artykule przedstawiono wyniki badań obrazujące wpływ warunków wzbudzenia na emisję pierwiastków resztkowych w technice HG ICP-OES.
The possibility to determine trace amounts of arsenic, antimony and tin in steels with the use of hydride generation technique was examined. For this purpose, it was necessary to determine optimal process conditions and develop an analytical program for the Agilent 5100 ICP-OES spectrometer. The development of the analytical program required the determination of excitation parameters for the determined elements. The article presents the results of studies showing the effect of excitation conditions on the emission of residual elements in the HG ICP-OES technique.
Źródło:
Prace Instytutu Metalurgii Żelaza; 2017, T. 69, nr 1, 1; 53-58
0137-9941
Pojawia się w:
Prace Instytutu Metalurgii Żelaza
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Możliwości analityczne generowania lotnych wodorków w technice optycznej spektrometrii emisyjnej (HG-ICP-OES). Część 1. Podstawy teoretyczne procesu
The analytical possibilities of vapor hydride generation coupled with optical emission spectrometry (HG-ICP-OES). Part 1. Theoretical basis of the process
Autorzy:
Piątkowska, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/143077.pdf
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Przemysłu Chemicznego. Zakład Wydawniczy CHEMPRESS-SITPChem
Tematy:
generacja lotnych wodorków
pierwiastki tworzące lotne wodorki
plazma indukcyjnie sprzężona
HG-ICP-OES
arsen
glinokrzemiany warstwowe
vapor hydride generation
hydride forming elements
inductively coupled plasma
arsenic
layered aluminosilicates
Opis:
Przedstawiono możliwości analityczne oznaczania arsenu oraz innych pierwiastków tworzących lotne wodorki w materiałach środowiskowych, z uwzględnieniem technik generowania wodorków. Na podstawie doniesień literaturowych omówiono szereg czynników decydujących o wydajności tworzenia wodorków w plazmie, takich jak: stopień utlenienia oznaczanego pierwiastka w roztworze, stężenie i rodzaj reduktora, stężenie i rodzaj użytego kwasu; rodzaj i konstrukcja generatora, wpływ składników matrycowych oraz parametrów pomiarowych spektrometru.
The analytical possibilities of arsenic and other hydride forming elements determination in environmental materials involving hydride generation techniques were discussed. On the basis of some literature reviews, number of factors affecting hydride generation efficiency, such as: element oxidation state in solution, reducer type and concentration, acid type and concentration; hydride generator configuration, matrix components interferences as well as the spectrometer operating conditions were discussed.
Źródło:
Chemik; 2010, 64, 4; 294-301
0009-2886
Pojawia się w:
Chemik
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-7 z 7

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies