Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "PECVD" wg kryterium: Temat


Tytuł:
Wykorzystanie metody RF PECVD do modyfikacji ditlenku tytanu jako napełniacza fotodegradowalnych polimerów syntetycznych stosowanych w medycynie
RF PECVD modification of titanium dioxide filler of photo-degradable synthetic polymers used for medical purposes
Autorzy:
Sobczyk-Guzenda, A.
Gazicki-Lipman, M.
Szymanowski, H.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/284758.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
ditlenek tytanu
metoda RF PECVD
fotodegradacja
zwilżalność proszku
titanium dioxide
RF PECVD
photodegradation
powder wettability
Opis:
Celem pracy była ocena wpływu modyfikacji plazmo-chemicznej sproszkowanego ditlenku tytanu (TiO2) na zmianę jego zwilżalności, właściwości mechanicznych oraz szybkości fotodegradacji polimeru syntetycznego z dodatkiem TiO2. Użyto komercyjny ditlenk tytanu - Aeroxide P25. Modyfikacja przeprowadzona była w plazmie metanowej w zakresie mocy wyładowania jarzeniowego od 20 do 200 W, przy stałym przepływie metanu i czasie trwania procesu. Badania zwilżalności dowiodły, że proszki modyfikowane wykazują zmniejszającą się tendencję do sorpcji wody, osiągając wartość progową przy mocy 100 W, po przekroczeniu której ich zdolność do pochłaniania wody znacznie wzrastała. Mieszanki polistyrenu (PS) wykonane zostały przy dwóch stężeniach TiO2 2 i 6%. Do badań użyto TiO2 modyfikowanego przy mocy 40 i 100 W. Zaobserwowano zwiększenie wytrzymałości na zerwanie dla kompozytu TiO2+PS w porównaniu do czystego PS. Z kolei modyfikacja przy mocy 100 W poprawiła znacznie właściwości mechaniczne w porównaniu do niemodyfikowanego TiO2. Przeprowadzony proces fotodegradacji dowiódł, że mieszanina modyfikowanego TiO2+PS przy mocy 100W wykazała najsilniejszy efekt degradacji ujawniający się największym ubytkiem masy po naświetlaniu światłem z zakresu UV-B w stosunku do niemodyfikowanego TiO2+PS.
The aim of the work was an assessment of the effect of plasma chemical modification of titanium dioxide (TiO2) powder on its wettability as well as on mechanical properties and rate of photodegradation of TiO2 filled synthetic polymer. As a filler, a titanium dioxide powder Aeroxide P25 was used. Filler modification was carried out in methane plasma using the glow discharge power of 20-200 Watt and a constant methane flow rate and process duration. Wettability measurements showed that plasma modified powders had a decreasing tendency towards water sorption, however, only to a power threshold of 100 Watt, above which their sorption ability substantially increased. Polystyrene blends (PS) with TiO2 at two concentrations, namely those of 2% and 6%, were prepared. Titanium dioxide filler samples modified at the power level of either 40 Watt or 100 Watt were used for testing. An increase of tensile strength of a TiO2/PS composite, with respect to plain PS, was observed. On the other hand, plasma modification of the filler, carried out at 100 Watt, substantially improved mechanical properties of the composites, compared to those filled with a nonmodified material. Photodegradation studies showed the strongest effect, consisting in the largest loss of mass following an exposure to UV-B radiation, for the samples of PS filled with TiO2 modified at 100 Watt.
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2013, 16, no. 122-123 spec. iss.; 26-29
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The influence of annealing (900?C) of ultra-thin PECVD silicon oxynitride layers
Autorzy:
Mroczyński, R.
Głuszko, G.
Beck, R. B.
Jakubowski, A.
Ćwil, M.
Konarski, P.
Hoffman, P.
Schmeißer, D.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308691.pdf
Data publikacji:
2007
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
ultra-thin dielectrics
silicon oxynitride
PECVD
CMOS
Opis:
This work reports on changes in the properties of ultra-thin PECVD silicon oxynitride layers after high- temperature treatment. Possible changes in the structure, composition and electrophysical properties were investigated by means of spectroscopic ellipsometry, XPS, SIMS and electrical characterization methods (C-V, I-V and charge- pumping). The XPS measurements show that SiOxNy is the dominant phase in the ultra-thin layer and high-temperature annealing results in further increase of the oxynitride phase up to 70% of the whole layer. Despite comparable thickness, SIMS measurement indicates a densification of the annealed layer, because sputtering time is increased. It suggests complex changes of physical and chemical properties of the investigated layers taking place during high-temperature annealing. The C-V curves of annealed layers exhibit less frequency dispersion, their leakage and charge-pumping currents are lower when compared to those of as-deposited layers, proving improvement in the gate structure trapping properties due to the annealing process.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2007, 3; 16-19
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Optimization of radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition process of diamond-like carbon films
Autorzy:
Kijaszek, W.
Oleszkiewicz, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/174787.pdf
Data publikacji:
2016
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
diamond-like carbon
radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition RF ICP PECVD
Raman scattering spectroscopy
spectroscopic ellipsometry
Opis:
The diamond-like carbon materials have unique mechanical, optical, electrical and chemical properties. The material is commonly applied in automotive industry, medicine and in other everyday life products. However, the diamond-like carbons are not used in micro- and optoelectronics on a wider scale due to technological problems. The application of the diamond-like carbon films in electronic structure is limited because the standard methods do not ensure that the quality and properties of the deposited film will be satisfactory for a specific application. On the other hand, more sophisticated methods that allow manufacturing the diamond-like carbon film with adequate properties, such as microwave assisted chemical vapour deposition, require heating of the substrate to high temperature (above 1000°C). The solution to the problem is the radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition method that allows deposition of the diamond-like carbon films with satisfactory properties and the process can be carried out at room temperature. In the paper, basic information and issues concerning the diamond-like carbon films manufacturing technology by radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition method will be explained. The diamond-like carbon films were investigated by the Raman scattering spectroscopy and the spectroscopic ellipsometry.
Źródło:
Optica Applicata; 2016, 46, 2; 167-172
0078-5466
1899-7015
Pojawia się w:
Optica Applicata
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Numerical analysis of thermal stresses in carbon films obtained by the RF PECVD method on the surface of a cannulated screw
Analiza numeryczna naprężeń cieplnych w warstwie węglowej otrzymanej w procesie RF PECVD na powierzchni wkręta kostnego
Autorzy:
Sawicki, J.
Dudek, M.
Kaczmarek, Ł.
Więcek, B.
Świątczak, T.
Olbrycht, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/350904.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
RF PECVD
termografia
warstwy węglowe
naprężenie
modelowanie elementów skończonych
thermography
carbon films
residual stresses
finite element modeling
Opis:
For many years, research on carbon films has been stimulated by the need to simultaneously optimize their biological and mechanical properties and by the challenges related to their deposition on medical implants. The residual mechanical stress occurring inside deposited films is the most important mechanical parameter which leads to the total destruction of these films by cracking and peeling. In the present work, we systematically studied the effect of ion bombardment during the process of radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RF PECVD) by monitoring the temperature distribution on a cannulated screw using the infrared technique. The obtained experimental and finite element modeling (FEM) results show that stresses in carbon films deposited on a cannulated screw are quite inhomogeneous and depend on the geometry of the sample and the relative position of the studied contact area between the substrate/film interface and the surface of the film.
Od wielu lat prowadzone są badania mające na celu zredukowanie naprężeń, w węglowych warstwach stosowanych na implanty medyczne, bez pogorszenia własności mechanicznych i biologicznych. Niemniej jednak poznanie mechanizmów wywołujących naprężenia wymaga szczegółowej analizy numerycznej. Wysoka wartość naprężeń mechanicznych występujących w osadzanych warstwach prowadzi poprzez pękanie i odwarstwienie do ich całkowitego zniszczenia, co znacząco organiczna praktyczne wykorzystanie warstw węglowych. W prezentowanej pracy, przeanalizowano wpływ bombardowania jonów podczas procesu plazmochemicznego (RF PECVD) na rozkład temperatury na powierzchni śruby ortopedycznej przy użyciu kamery termowizyjnej. Przeprowadzone eksperymenty i uzyskane rezultaty modelowania (MES) pokazały, ze naprężenia w warstwach węglowych osadzonych na śrubie ortopedycznej sa niejednorodne i zależą od rzeczywistej powierzchni styku pomiędzy podłożem a powłoka jak i geometrii samej próbki.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2013, 58, 1; 77-81
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Naprężenia własne w warstwach węglowych osadzanych na podłożu tytanowym
The residual stress in carbon films deposited on titanium substrates
Autorzy:
Raczkowski, R.
Dudek, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/285581.pdf
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
RF PECVD
warstwy węglowe
naprężenia
carbon films
stress
Opis:
Wysokie naprężenia ściskające występujące w warstwach węglowych znacząco ograniczają ich grubość, gdyż prowadzą do jej delaminacji. W prezentowanej pracy zbadano wpływ ujemnego potencjału autopolaryzacji na wartość naprężeń występujących w warstwach węglowych wytworzonych na tytanowym podłożu podczas procesu RF PECVD. Otrzymane wyniki pokazują, że metoda pomiaru naprężeń oparta na zależności Stoney'a pozwala na dokładne pomiary naprężeń w przypadku warstw osadzanych na wybranym podłożu. Maksimum naprężeń ściskających jest obserwowane dla małych wartości potencjału autopolaryzacji (-300 V) i stale maleje wraz ze wzrostem napięcia. W przedziale od -500 V do -600 V mierzone naprężenia zmieniają się z naprężeń ściskających na rozciągające. Po zmianie znaku naprężenia w warstwie wzrastają wraz z wartością potencjału autopolaryzacji. Wpływ mikrostruktury na naprężenia wewnętrzne w warstwach był analizowany przy użyciu spektroskopii Ramana.
High compressive stress present in carbon films significantly limits their thickness because of delamination. In this work, the effect of substrate bias on the amount of stress in carbon films deposited on titanium substrate by the RF PECVD technique was investigated. The results obtained show that the Stoney formula provides a very convenient and accurate way to measure the stress in the case of films deposited on selected substrates. The maximum of compressive stress is observed at low bias voltage (-300 V) and it steadily decreases with the increasing value of this voltage. In the range from -500 V to -600 V the measured stress changes from compressive to tensile and it continuously increases with further bias increase. The effects of the film microstructure on the film's internal stress were also studied using Raman spectroscopy.
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2010, 13, 93; 19-24
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Napełniacze wspomagające proces foto-bio-degradacji medycznych odpadów polimerowych
Fillers enhancing photo+bio-degradation of medical polymer wastes
Autorzy:
Sobczyk-Guzenda, A.
Kaczmarek, M.
Grzywacz, J.
Szymanowski, H.
Gazicki-Lipman, M.
Woźniak, B.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/284199.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
metoda RF PECVD
modyfikacja powierzchniowa napełniaczy
fotodegradacja
biodegradacja
materiały kompozytowe
RF PECVD method
surface modification of fillers
photodegradation
biodegradation
composite materials
Opis:
W niniejszej pracy został omówiony sposób plazmo-chemicznej modyfikacji napełniaczy do foto-bio-degradowalnych materiałów kompozytowych. W tych materiałach polimer syntetyczny będzie stanowił matrycę, natomiast napełniaczami będą polimer naturalny (skrobia) oraz ditlenek tytanu (TiO2), które mają za zadanie znacznie przyśpieszyć proces degradacji matrycy. Ponadto założono, że w okresie użytkowania taki kompozyt będzie wykazywał właściwości fotokatalityczne wzbudzane światłem z zakresu UV-B. W pracy został opisany wpływ modyfikacji powierzchniowej napełniaczy na ich właściwości fizyko-chemiczne. Do oceny zwilżalności skrobi wykorzystano zjawisko kapilarnego wniesienia wody. W celu określenia zmian stopnia usieciowienia została wykonana analiza spektroskopii w podczerwieni z transformacją Fouriera (FTIR).
A method of plasma chemical modification of fillers for photo-bio-degradable composite materials is described. In these materials, a synthetic polymer constitutes a matrix, with the fillers being natural polymer (starch) and titanium dioxide (TiO2), both aimed at a substantial quickening of the matrix degradation process. It has been assumed that such a composite will exhibit photocatalytic properties, stirred by the irradiation with the UV-B light. In this work, the effect of surface modification of the filler on its physical and chemical properties is described. For the determination of starch wettability, the effect of water capillary elevation was used. An assessment of the degree of cross-linking was made on the basis of the Furrier transform infrared (FTIR) absorption analysis.
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2012, 15, no. 116-117 spec. iss.; 62-65
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Microstructure and Mechanical Properties of Amorphous Hydrogenated DLC-Coated Ti-6Al-4V ELI Alloy with TiCN Interlayer Prepared by rf-PECVD
Autorzy:
Lee, Kwangmin
Kang, Seokil
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/355460.pdf
Data publikacji:
2020
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
DLC coating
rf-PECVD
Ti-6Al-4V ELI alloy
TiCN
Opis:
The low adherence of diamond-like carbon (DLC) films on titanium (Ti) alloys can be improved by using interlayer coatings. In this study, DLC (a-C:H) films were deposited using radio-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition (rf-PECVD), and a TiCN interlayer was applied between the extra low interstitial (ELI) grade of Ti-6Al-4V alloy and a-C:H film. The characteristics of the a-C:H-coated Ti-6Al-4V ELI alloy were investigated using field emission scanning electron microscopy, Vickers hardness, and scratch and wear tests. The DLC (a-C:H) films deposited by rf-PECVD had a thickness of 1.7 μm, and the TiCN interlayer hada thickness of 1.1 μm. Vickers hardness of the DLC (a-C:H) films were increased as a result of the influence of the TiCN interlayer. The resulting friction coefficient of the a-C:H-coated Ti-6Al-4V with the TiCN interlayer had an extremely low value of 0.07.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2020, 65, 4; 1357-1360
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Kształtowanie właściwości warstw NCD z zastosowaniem trawienia jonowego jako obróbki wstępnej w metodzie RF PACVD
The NCD layer properties designed through ion etching pre-treatment in the RF PACVD method
Autorzy:
Grabarczyk, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/285332.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
NCD
warstwy węglowe
trawienie jonowe
zastosowania biomedyczne
metoda RF PACVD
carbon coatings
ion etching
biomedical application
RF PECVD method
Opis:
W pracy przedstawiono wpływ obróbki wstępnej, polegającej na trawieniu jonowym powierzchni, na aktywną zmianę struktury warstw węglowych syntetyzowanych w metodzie plazmy wysokiej częstotliwości (RF PACVD). W badaniach warstwa węglowa osadzana była na powierzchni stali medycznej (AISI 316L) w plazmie metanowej. Podczas obróbki wstępnej, trawienia jonowego, zmieniano negatywny potencjał polaryzacji elektrody w granicach od 1000 V do 1600 V. Te zmiany prowadziły do obserwowanych różnic w strukturze, chropowatości, grubości i właściwościach tribologicznych warstw węglowych. Wykazano, iż wyższe parametry trawienia jonowego, poprzez zwiększenie energii bombardowania jonowego prowadzącego do intensywniejszego nagrzewania podłoża, powodują silne zmiany w strukturze powstającej warstwy. Ma to istotny wpływ na właściwości warstwy, a zwłaszcza jej odporność korozyjną i twardość.
Here is presented evidence of how ion etching pre-treatment in the radio frequency plasma-assisted chemical vapour deposition (RF PACVD) method produces an active change in the substrate's surface and forms an interlayer between the surface and the carbon coating, thus creating the best conditions to deposit the coating onto the substrate. In this method, a film is deposited onto the surface of a medical steel (AISI 316L) sample in methane plasma. During the ion etching pre-treatment, the negative bias voltage parameters are changed from 1000 V to 1600 V. These changes lead to observed differences in the structure, roughness, thickness, and tribological properties of the carbon films. High ion etching causes an increase in the temperature of the surface and can compromise the surface and interlayer integrity, causing changes in the corrosion resistance and hardness of the carbon coating.
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2012, 15, 112; 36-41
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Influence of RF ICP PECVD process parameters of diamond-like carbon films on DC bias and optical emission spectra
Autorzy:
Oleszkiewicz, W
Markowski, J
Srnanek, R
Kijaszek, W
Gryglewicz, J
Kovac, J
Tlaczala, M
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/173686.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
PECVD
diamond-like carbon layers
OES
Raman spectroscopy
AFM
Opis:
The work presents the results of a research carried out with PlasmaLab Plus 100 system, manufactured by Oxford Instruments Company. The system was configured for deposition of diamond-like carbon films by ICP PECVD method. The change of an initial value of DC bias was investigated as a function of set values of the generator power (RF generator and ICP generator) in the constant power of the RF generator operation mode. The research shows that the value of DC bias nearly linearly depends on the RF generator power value and is affected only in a small degree by the power of ICP discharge. The capability of an installed OES spectrometer has been used to ensure the same starting conditions for the deposition processes of DLC films. The analysis of OES spectra of RF plasma discharge used in the deposition processes shows that the increase in ICP discharge power value results in the increased efficiency of the ionization process of a gaseous precursor (CH4). The quality of deposited DLC layers was examined by Raman spectroscopy. Basing on the acquired Raman spectra, the theoretical content of sp3 bonds in the structure of the film was estimated. The content is ranging from 30% to 65% and depends on ICP PECVD deposition process parameters.
Źródło:
Optica Applicata; 2013, 43, 1; 109-115
0078-5466
1899-7015
Pojawia się w:
Optica Applicata
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Improvement of Tools Durability by Application of Hybrid Layer of Nitrided/PECVD Coating
Poprawa trwałości narzędzi poprzez zastosowanie warstw hybrydowych azotowanie/PEC VD
Autorzy:
Gronostajski, Z.
Kaszuba, M.
Paschke, H.
Zakrzewski, T.
Rogaliński, G.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/356165.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
forging
tools
nitride
PVD
CVD
kucie
narzędzia
azotek
technologie hybrydowe azotowanie/PECVD
Opis:
In the process of die hot forging the tools are subjected to three main factors leading to their destruction: the intensive thermal shocks, cyclically variable mechanical loads and intensive friction. The above mentioned factors causing destruction in the process of hot forging and warm forging concern mainly the surface of tools. Hybrid technique nitrided/PECVD belong to the latest methods of modifying the properties of the surface layer. In the paper the application of this technique for forging tools of constant velocity joint body is presented. The durability of the new tools is much better than the tools applied so far.
W procesach kucia matrycowego na gorąco narzędzia poddawane są działaniu trzech głównych czynników powodujących ich niszczenie, tj. intensywnym szokom cieplnym, cyklicznie zmiennym obciążeniom mechanicznym oraz intensywnemu tarciu. Wymienione czynniki powodują zniszczenie głównie warstwy powiedzeniowej narzędzi, dlatego poszukuje się nowych metod podnoszących trwałość tej warstw. Jednym z rozwiązań jest stosowanie technologii hybrydowych azotowanie/PECVD. W pracy przedstawionozastosowanie takich warstw na narzędzia do kucia przegubów homokinetycznych. Badania wykazały, że narzędzia z warstwami hybrydowymi mają większą trwałość niż dotychczas stosowane.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 3A; 1609-1615
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Fotohydrofilowe powłoki TiO2 nanoszone metodą RF PECVD z metaloorganicznego związku wyjściowego
TiO2 photohydrophilic coatings deposited with the RF PECVD technique from organometallic precursors
Autorzy:
Sobczyk-Guzenda, A.
Owczarek, S.
Gazicki-Lipman, M.
Szymanowski, H.
Kowalski, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/285330.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
metoda RF PECVD
ditlenek tytanu
fotokataliza
powłoki hydrofilowe
właściwości optyczne
RF PECVD method
titanium dioxide
photocatalysis
hydrophilic coatings
optical properties
Opis:
Powłoki TiO2 wytwarzane metodą RF PECVD posiadają różne właściwości w zależności od sposobu i warunków prowadzenia procesu. W prezentowanej pracy badano w jakim stopniu wartość przepływu tlenu wpływa na właściwości powłok ditlenku tytanu - kładąc szczególny nacisk na fotozwilżalność. Powłoki TiO2 nanoszone były z tetraetoksytytanu w obecności tlenu na krzemowe i szklane podłoża. Przepływ tlenu zmieniany był w przedziale pomiędzy 100 a 500 sccm. Parametrami stałymi we wszystkim procesach były: czas nanoszenia powłok wynoszący 90 minut oraz moc wyładowania jarzeniowego równa 300 W. Z badań wynika, że powłoki nanoszone przy przepływie tlenu równym 400 sccm wykazują najwyższą fotozwilżalność. Hydrofobowy charakter takiej powłoki (kąt zwilżania wodą powyżej 120 deg) ulega zmianie na hydrofilowy już po nieco ponad półgodzinnej ekspozycji na działanie promieniowania UV, zaś po 2 godzinach naświetlania kąt zwilżania maleje do wartości poniżej 40 deg. Wartość przepływu tlenu wpływa również istotnie na grubość otrzymanej powłoki. W zadanych warunkach najcieńsze powłoki otrzymywane są przy 350 sccm i ich grubość rośnie zarówno ze zwiększaniem jak i zmniejszaniem wartości przepływu tlenu.
Depending on the detailed solution and parameters used, TiO2 coatings produced with the RF PECVD technique are characterized with various properties. In the present work, the effect of the flow rate of incoming oxygen on the coatings behaviour and on their photohydrophilic properties in particular is discussed. The coatings were deposited from the mixture of tetraetoxytitanium and oxygen onto the glass and silicon substrates. Oxygen flow rate was adjusted within the range of 100 and 500 sccm. Other parameters were kept constant: deposition time of 90 minutes and deposition power of 300 Watt. The results obtained show that the most pronounced photohydrophilic behaviour is exhibited by the coatings deposited at the oxygen flow rate of 400 sccm. Hydrophobic character of these films (water wetting angle above 120 deg) transforms to hydrophilic after only half an hour long exposition to UV radiation, and after two hours of illumination that wetting angle becomes lower than 40 deg. The flow rate of oxygen also substantially affects the thickness of the deposited coating. For the above parameters the lowest film thickness is obtained for the O2 flow rate of 350 sccm and it increases both when this parameter rises and when it drops.
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2012, 15, 112; 20-25
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Foto-biodegradowalne kompozyty poli (kwasu L-mlekowego) i TiO2
Photo-biodegradable poly(L-lactic acid)/TiO2 nanocomposites
Autorzy:
Sobczyk-Guzenda, A.
Owczarek, S.
Kaczorowski, R.
Gazicki-Lipman, M.
Szymanowski, H.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/285260.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
kompozyty
polilaktyd
TiO2
metoda RF PECVD
biodegradacja
composites
polylactic acid
RF PECVD technique
biodegradation
Opis:
Wielofunkcyjne kompozyty składające się z polimerów oraz nieorganicznych nanododatków zmieniające pierwotne właściwości polimeru są uznawane za nowoczesne materiały, które można wykorzystać w wielu dziedzinach przemysłu oraz życia codziennego. Wpływ nanonapełniacza na modyfikację właściwości matrycy polimerowej zależy w dużym stopniu od kształtu i wielkości jego cząstek, cech powierzchniowych oraz co za tym idzie stopnia jego dyspersji. W przedstawionej pracy wytworzono kompozyty składające się ditlenku tytanu (IV) TiO2 oraz poli(kwasu mlekowego) (PLA). Użyto zarówno niemodyfikowany TiO2 oraz modyfikowany metodą RF PECVD (Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition). Proces ten przeprowadzono przy dwóch przepływach metanu 15 i 30 sccm. W celu sprawdzenia efektywności modyfikacji wykonano badanie FTIR (Fourier Transform Infrared Spectroscopy). Badanie to potwierdziło obecność na powierzchni ziaren TiO2 grup -CH2 i -CH3. Gotowe kompozyty poddano badaniom właściwości mechanicznych takich jak statyczna próba na rozciąganie oraz pomiar udarności. Otrzymane wyniki dowiodły, że dodatek TiO2 zarówno modyfikowanego jak i niemodyfikowanego nie zmienia wytrzymałości na rozciąganie natomiast poprawia jego udarność. Obecność niemodyfikowanego TiO2 w matrycy PLA obniża nieco wartość kąta zwilżania gotowego kompozytu, a modyfikacja powierzchni TiO2 w plazmie metanowej prowadzi do zmniejszenia zwilżalności produktu końcowego.
Multifunctional composites consisting of polymers or inorganic nanoadditions, which change the original properties of a polymer are considered to be modern materials for many industrial and daily life applications. An influence of a nanofiller on modification process of polymer matrix properties is strongly dependent on its particles shape and size, surface characteristics and in consequence its dispersion grade. In the present work composites consisting of titanium dioxide (IV) TiO2 and polylactic acid (PLA) were prepared. Unmodified TiO2 as well as modified one by RF PECVD (Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition ) technique were used. Two different methane flow rates (15 and 30 sccm) were used during processes. In order to check the efficiency of modification process FTiR (Fourier Transform Infrared Spectroscopy) research was conducted. The results show that there are -CH2 and -CH3 groups present at the TiO2 grains surface. Mechanical properties like tensile testing and impact resistance of the composites were measured. The results prove that an addition of TiO2 (modified and unmodified) does not influence the tensile strength but improves impact resistance value. A presence of unmodified TiO2 in PLA matrix slightly reduces the water contact angle value for a composite. Methane plasma surface treatment leads to wetting properties reduction of a final product.
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2014, 17, no. 128-129; 46-49
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Comparison of composition of ultra-thin silicon oxynitride layers fabricated by PECVD and ultrashallow rf plasma ion implantation
Autorzy:
Mroczyński, R.
Bieniek, T.
Beck, R. B.
Ćwil, M.
Konarski, P.
Hoffman, P.
Schmeißer, D.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308687.pdf
Data publikacji:
2007
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
ultra-thin dielectrics
oxynitride
SIMS
XPS
PECVD
Opis:
In this paper differences in chemical composition of ultra-thin silicon oxynitride layers fabricated in planar rf plasma reactor are studied. The ultra-thin dielectric layers were obtained in the same reactor by two different methods: ultrashallow nitrogen implantation followed by plasma oxidation and plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD). Chemical composition of silicon oxynitride layers was investigated by means of X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and secondary ion mass spectrometry (SIMS). The spectroscopic ellipsometry was used to determine both the thickness and refractive index of the obtained layers. The XPS measurements show considerable differences between the composition of the fabricated layers using each of the above mentioned methods. The SIMS analysis confirms XPS results and indicates differences in nitrogen distribution.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2007, 3; 20-24
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Characteristics of Carbide Interfacial Layer Formed During Deposition of DLC Films on 316L Stainless Steel Substrate
Autorzy:
Dudek, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/354300.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
RF PECVD
carbon films
diamond like carbon film
film growth
carbides formation
Opis:
The paper presents the analysis of formation of interfacial layer during deposition of diamond like carbon film (DLC) on the 316L stainless steel by capacitive plasma discharge in the CH4 atmosphere. The structure of the interfacial layer of DLC film was strongly affected by the temperature increase during the initial stages of the process. Initially, thin interfacial layer of 5 nm has been formed. As the temperature had reached 210°C, the second phase of the process was marked by the onset of carbon atoms diffusion into the steel and by the interface thickness increase. Finally, the growth of chromium carbide interface, the upward diffusion of chromium and nickel atoms to film, the etching and the decrease of the DLC film thickness were observed at 233°C. These investigations were carried out ex-situ by spectroscopic ellipsometry, X-ray diffraction, X-ray photoelectron spectroscopy and Raman spectroscopy.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2017, 62, 4; 2211-2216
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Challenges in ultrathin oxide layers formation
Autorzy:
Beck, R.B.
Jakubowski, A.
Łukasiak, L.
Korwin-Pawłowski, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/307646.pdf
Data publikacji:
2001
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
silicon technology
oxidation
PECVD
RTO
gate oxide
ultrathin
layers
Opis:
In near future silicon technology cannot do without ultrathin oxides, as it becomes clear from the "Roadmap'2000". Formation, however, of such layers, creates a lot of technical and technological problems. The aim of this paper is to present the technological methods, that potentially can be used for formation of ultrathin oxide layers for next generations ICs. The methods are briefly described and their pros and cons are discussed.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2001, 1; 27-34
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies