Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "PECVD" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
Wyświetlanie 1-15 z 20
Tytuł:
Challenges in ultrathin oxide layers formation
Autorzy:
Beck, R.B.
Jakubowski, A.
Łukasiak, L.
Korwin-Pawłowski, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/307646.pdf
Data publikacji:
2001
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
silicon technology
oxidation
PECVD
RTO
gate oxide
ultrathin
layers
Opis:
In near future silicon technology cannot do without ultrathin oxides, as it becomes clear from the "Roadmap'2000". Formation, however, of such layers, creates a lot of technical and technological problems. The aim of this paper is to present the technological methods, that potentially can be used for formation of ultrathin oxide layers for next generations ICs. The methods are briefly described and their pros and cons are discussed.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2001, 1; 27-34
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Characteristics of Carbide Interfacial Layer Formed During Deposition of DLC Films on 316L Stainless Steel Substrate
Autorzy:
Dudek, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/354300.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
RF PECVD
carbon films
diamond like carbon film
film growth
carbides formation
Opis:
The paper presents the analysis of formation of interfacial layer during deposition of diamond like carbon film (DLC) on the 316L stainless steel by capacitive plasma discharge in the CH4 atmosphere. The structure of the interfacial layer of DLC film was strongly affected by the temperature increase during the initial stages of the process. Initially, thin interfacial layer of 5 nm has been formed. As the temperature had reached 210°C, the second phase of the process was marked by the onset of carbon atoms diffusion into the steel and by the interface thickness increase. Finally, the growth of chromium carbide interface, the upward diffusion of chromium and nickel atoms to film, the etching and the decrease of the DLC film thickness were observed at 233°C. These investigations were carried out ex-situ by spectroscopic ellipsometry, X-ray diffraction, X-ray photoelectron spectroscopy and Raman spectroscopy.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2017, 62, 4; 2211-2216
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Kształtowanie właściwości warstw NCD z zastosowaniem trawienia jonowego jako obróbki wstępnej w metodzie RF PACVD
The NCD layer properties designed through ion etching pre-treatment in the RF PACVD method
Autorzy:
Grabarczyk, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/285332.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
NCD
warstwy węglowe
trawienie jonowe
zastosowania biomedyczne
metoda RF PACVD
carbon coatings
ion etching
biomedical application
RF PECVD method
Opis:
W pracy przedstawiono wpływ obróbki wstępnej, polegającej na trawieniu jonowym powierzchni, na aktywną zmianę struktury warstw węglowych syntetyzowanych w metodzie plazmy wysokiej częstotliwości (RF PACVD). W badaniach warstwa węglowa osadzana była na powierzchni stali medycznej (AISI 316L) w plazmie metanowej. Podczas obróbki wstępnej, trawienia jonowego, zmieniano negatywny potencjał polaryzacji elektrody w granicach od 1000 V do 1600 V. Te zmiany prowadziły do obserwowanych różnic w strukturze, chropowatości, grubości i właściwościach tribologicznych warstw węglowych. Wykazano, iż wyższe parametry trawienia jonowego, poprzez zwiększenie energii bombardowania jonowego prowadzącego do intensywniejszego nagrzewania podłoża, powodują silne zmiany w strukturze powstającej warstwy. Ma to istotny wpływ na właściwości warstwy, a zwłaszcza jej odporność korozyjną i twardość.
Here is presented evidence of how ion etching pre-treatment in the radio frequency plasma-assisted chemical vapour deposition (RF PACVD) method produces an active change in the substrate's surface and forms an interlayer between the surface and the carbon coating, thus creating the best conditions to deposit the coating onto the substrate. In this method, a film is deposited onto the surface of a medical steel (AISI 316L) sample in methane plasma. During the ion etching pre-treatment, the negative bias voltage parameters are changed from 1000 V to 1600 V. These changes lead to observed differences in the structure, roughness, thickness, and tribological properties of the carbon films. High ion etching causes an increase in the temperature of the surface and can compromise the surface and interlayer integrity, causing changes in the corrosion resistance and hardness of the carbon coating.
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2012, 15, 112; 36-41
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Improvement of Tools Durability by Application of Hybrid Layer of Nitrided/PECVD Coating
Poprawa trwałości narzędzi poprzez zastosowanie warstw hybrydowych azotowanie/PEC VD
Autorzy:
Gronostajski, Z.
Kaszuba, M.
Paschke, H.
Zakrzewski, T.
Rogaliński, G.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/356165.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
forging
tools
nitride
PVD
CVD
kucie
narzędzia
azotek
technologie hybrydowe azotowanie/PECVD
Opis:
In the process of die hot forging the tools are subjected to three main factors leading to their destruction: the intensive thermal shocks, cyclically variable mechanical loads and intensive friction. The above mentioned factors causing destruction in the process of hot forging and warm forging concern mainly the surface of tools. Hybrid technique nitrided/PECVD belong to the latest methods of modifying the properties of the surface layer. In the paper the application of this technique for forging tools of constant velocity joint body is presented. The durability of the new tools is much better than the tools applied so far.
W procesach kucia matrycowego na gorąco narzędzia poddawane są działaniu trzech głównych czynników powodujących ich niszczenie, tj. intensywnym szokom cieplnym, cyklicznie zmiennym obciążeniom mechanicznym oraz intensywnemu tarciu. Wymienione czynniki powodują zniszczenie głównie warstwy powiedzeniowej narzędzi, dlatego poszukuje się nowych metod podnoszących trwałość tej warstw. Jednym z rozwiązań jest stosowanie technologii hybrydowych azotowanie/PECVD. W pracy przedstawionozastosowanie takich warstw na narzędzia do kucia przegubów homokinetycznych. Badania wykazały, że narzędzia z warstwami hybrydowymi mają większą trwałość niż dotychczas stosowane.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 3A; 1609-1615
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Optimization of radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition process of diamond-like carbon films
Autorzy:
Kijaszek, W.
Oleszkiewicz, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/174787.pdf
Data publikacji:
2016
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
diamond-like carbon
radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition RF ICP PECVD
Raman scattering spectroscopy
spectroscopic ellipsometry
Opis:
The diamond-like carbon materials have unique mechanical, optical, electrical and chemical properties. The material is commonly applied in automotive industry, medicine and in other everyday life products. However, the diamond-like carbons are not used in micro- and optoelectronics on a wider scale due to technological problems. The application of the diamond-like carbon films in electronic structure is limited because the standard methods do not ensure that the quality and properties of the deposited film will be satisfactory for a specific application. On the other hand, more sophisticated methods that allow manufacturing the diamond-like carbon film with adequate properties, such as microwave assisted chemical vapour deposition, require heating of the substrate to high temperature (above 1000°C). The solution to the problem is the radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition method that allows deposition of the diamond-like carbon films with satisfactory properties and the process can be carried out at room temperature. In the paper, basic information and issues concerning the diamond-like carbon films manufacturing technology by radio frequency inductively coupled plasma enhanced chemical vapour deposition method will be explained. The diamond-like carbon films were investigated by the Raman scattering spectroscopy and the spectroscopic ellipsometry.
Źródło:
Optica Applicata; 2016, 46, 2; 167-172
0078-5466
1899-7015
Pojawia się w:
Optica Applicata
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Microstructure and Mechanical Properties of Amorphous Hydrogenated DLC-Coated Ti-6Al-4V ELI Alloy with TiCN Interlayer Prepared by rf-PECVD
Autorzy:
Lee, Kwangmin
Kang, Seokil
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/355460.pdf
Data publikacji:
2020
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
DLC coating
rf-PECVD
Ti-6Al-4V ELI alloy
TiCN
Opis:
The low adherence of diamond-like carbon (DLC) films on titanium (Ti) alloys can be improved by using interlayer coatings. In this study, DLC (a-C:H) films were deposited using radio-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition (rf-PECVD), and a TiCN interlayer was applied between the extra low interstitial (ELI) grade of Ti-6Al-4V alloy and a-C:H film. The characteristics of the a-C:H-coated Ti-6Al-4V ELI alloy were investigated using field emission scanning electron microscopy, Vickers hardness, and scratch and wear tests. The DLC (a-C:H) films deposited by rf-PECVD had a thickness of 1.7 μm, and the TiCN interlayer hada thickness of 1.1 μm. Vickers hardness of the DLC (a-C:H) films were increased as a result of the influence of the TiCN interlayer. The resulting friction coefficient of the a-C:H-coated Ti-6Al-4V with the TiCN interlayer had an extremely low value of 0.07.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2020, 65, 4; 1357-1360
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Comparison of composition of ultra-thin silicon oxynitride layers fabricated by PECVD and ultrashallow rf plasma ion implantation
Autorzy:
Mroczyński, R.
Bieniek, T.
Beck, R. B.
Ćwil, M.
Konarski, P.
Hoffman, P.
Schmeißer, D.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308687.pdf
Data publikacji:
2007
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
ultra-thin dielectrics
oxynitride
SIMS
XPS
PECVD
Opis:
In this paper differences in chemical composition of ultra-thin silicon oxynitride layers fabricated in planar rf plasma reactor are studied. The ultra-thin dielectric layers were obtained in the same reactor by two different methods: ultrashallow nitrogen implantation followed by plasma oxidation and plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD). Chemical composition of silicon oxynitride layers was investigated by means of X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and secondary ion mass spectrometry (SIMS). The spectroscopic ellipsometry was used to determine both the thickness and refractive index of the obtained layers. The XPS measurements show considerable differences between the composition of the fabricated layers using each of the above mentioned methods. The SIMS analysis confirms XPS results and indicates differences in nitrogen distribution.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2007, 3; 20-24
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The influence of annealing (900?C) of ultra-thin PECVD silicon oxynitride layers
Autorzy:
Mroczyński, R.
Głuszko, G.
Beck, R. B.
Jakubowski, A.
Ćwil, M.
Konarski, P.
Hoffman, P.
Schmeißer, D.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308691.pdf
Data publikacji:
2007
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
ultra-thin dielectrics
silicon oxynitride
PECVD
CMOS
Opis:
This work reports on changes in the properties of ultra-thin PECVD silicon oxynitride layers after high- temperature treatment. Possible changes in the structure, composition and electrophysical properties were investigated by means of spectroscopic ellipsometry, XPS, SIMS and electrical characterization methods (C-V, I-V and charge- pumping). The XPS measurements show that SiOxNy is the dominant phase in the ultra-thin layer and high-temperature annealing results in further increase of the oxynitride phase up to 70% of the whole layer. Despite comparable thickness, SIMS measurement indicates a densification of the annealed layer, because sputtering time is increased. It suggests complex changes of physical and chemical properties of the investigated layers taking place during high-temperature annealing. The C-V curves of annealed layers exhibit less frequency dispersion, their leakage and charge-pumping currents are lower when compared to those of as-deposited layers, proving improvement in the gate structure trapping properties due to the annealing process.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2007, 3; 16-19
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Influence of RF ICP PECVD process parameters of diamond-like carbon films on DC bias and optical emission spectra
Autorzy:
Oleszkiewicz, W
Markowski, J
Srnanek, R
Kijaszek, W
Gryglewicz, J
Kovac, J
Tlaczala, M
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/173686.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
PECVD
diamond-like carbon layers
OES
Raman spectroscopy
AFM
Opis:
The work presents the results of a research carried out with PlasmaLab Plus 100 system, manufactured by Oxford Instruments Company. The system was configured for deposition of diamond-like carbon films by ICP PECVD method. The change of an initial value of DC bias was investigated as a function of set values of the generator power (RF generator and ICP generator) in the constant power of the RF generator operation mode. The research shows that the value of DC bias nearly linearly depends on the RF generator power value and is affected only in a small degree by the power of ICP discharge. The capability of an installed OES spectrometer has been used to ensure the same starting conditions for the deposition processes of DLC films. The analysis of OES spectra of RF plasma discharge used in the deposition processes shows that the increase in ICP discharge power value results in the increased efficiency of the ionization process of a gaseous precursor (CH4). The quality of deposited DLC layers was examined by Raman spectroscopy. Basing on the acquired Raman spectra, the theoretical content of sp3 bonds in the structure of the film was estimated. The content is ranging from 30% to 65% and depends on ICP PECVD deposition process parameters.
Źródło:
Optica Applicata; 2013, 43, 1; 109-115
0078-5466
1899-7015
Pojawia się w:
Optica Applicata
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Aktywność antybakteryjna domieszkowanych srebrem powłok TiO2 wytwarzanych metodą RF PECVD
Antibacterial activity of Ag doped TiO2 films deposited by RF PECVD method
Autorzy:
Owczarek, S.
Sobczyk-Guzenda, A.
Szymanowski, H.
Volesky, L.
Jakubowski, W.
Gazicki-Lipman, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/286233.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
ditlenek tytanu
srebro
bakteriobójczość
RF PECVD
titanium dioxide
silver
antibacterial properties
RF PECVD technique
Opis:
W ramach pracy wykorzystano metodę RF PECVD (Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) do wytworzenia powłok TiO2-Ag. Domieszkowanie ditlenku tytanu srebrem miało na celu intensyfikację właściwości fotokatalitycznych i bakteriobójczych wykazywanych przez ten materiał. Związkiem wyjściowym jonów srebra był acetyloacetonian srebra. Kontrola jego temperatury umożliwiła wytworzenie na podłożach krzemowych powłok o różnej zawartości srebra. Ze względu na to, że korzystny wpływ jonów srebra na powłokę TiO2 występuje przy ich niskim stężeniu, sterowano temperaturą sublimatora w taki sposób aby zawartość Ag w powłoce nie przekraczała kilku procent. Tak wytworzone powłoki zbadano na spektrometrze EDX (Energy Dispersive X-Ray) pod kątem składu chemicznego. Analiza wyników dostarcza informacji o wprost proporcjonalnym wzroście udziału atomów Ag do wzrostu temperatury ich związku wyjściowego. Po naświetleniu powłok światłem z zakresu UV określono wartość fotozwilżalności przez wodę oraz przeżywalności bakterii E. coli na ich powierzchni. Z badań kąta zwilżania wynika, że zaledwie kilkuminutowe naświetlanie promieniowaniem UV może wystarczyć do uzyskania przez powłokę właściwości superhydrofilowych. Najsilniejszą zwilżalność powierzchni wykazuje powłoka o najmniejszej zawartości srebra (0,03%). W przypadku badań bakteriobójczych czas naświetlania (2 lub 4 min.) promieniowaniem UV nie wpływa w sposób istotny na wartość przeżywalności bakterii. Bardziej istotnym czynnikiem jest zawartość srebra w powłoce - zbyt duża ilość powoduje obniżenie właściwości bakteriobójczych.
In present work RF PECVD (Radio Frequency Chemical Vapour Deposition) technique was used to prepare TiO2-Ag coatings. The purpose of preparing silver doped titanium dioxide coatings was to step up photocatalytic and antibacterial properties of this substance. Silver acetylacetonate was the precursor of silver ions. Thanks to temperature control it was possible to prepare coatings of different Ag contain at silicon substrates. The temperature was controlled so that not to exceed a few percentage amount of silver in the coating, because its favourable influence on TiO2 coatings exists when concentration of silver ions is low. Coatings were examined under EDX (Energy Dispersive X-Ray) spectrometer to check atomic contain of elements. The results show that the percentage of Ag atoms increases directly proportionally to the temperature increase of its precursor. After exposition to UV radiation the water photo hydrophillic and bactericidal properties of coatings were measured. The water contact angle measurements have shown that super hydrophillic properties were obtained just after few minutes of UV radiation exposition. The coating of lowest silver contain (0,03%) exhibit the lowest water contact angle. In case of bactericidal studies the time of UV radiation (2 or 4 minutes) does not influence much the bacteria survival rate. Silver content is a more important factor - to big amount causes decreasing of antibacterial properties of the coating.
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2014, 17, no. 128-129; 64-66
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Naprężenia własne w warstwach węglowych osadzanych na podłożu tytanowym
The residual stress in carbon films deposited on titanium substrates
Autorzy:
Raczkowski, R.
Dudek, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/285581.pdf
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
RF PECVD
warstwy węglowe
naprężenia
carbon films
stress
Opis:
Wysokie naprężenia ściskające występujące w warstwach węglowych znacząco ograniczają ich grubość, gdyż prowadzą do jej delaminacji. W prezentowanej pracy zbadano wpływ ujemnego potencjału autopolaryzacji na wartość naprężeń występujących w warstwach węglowych wytworzonych na tytanowym podłożu podczas procesu RF PECVD. Otrzymane wyniki pokazują, że metoda pomiaru naprężeń oparta na zależności Stoney'a pozwala na dokładne pomiary naprężeń w przypadku warstw osadzanych na wybranym podłożu. Maksimum naprężeń ściskających jest obserwowane dla małych wartości potencjału autopolaryzacji (-300 V) i stale maleje wraz ze wzrostem napięcia. W przedziale od -500 V do -600 V mierzone naprężenia zmieniają się z naprężeń ściskających na rozciągające. Po zmianie znaku naprężenia w warstwie wzrastają wraz z wartością potencjału autopolaryzacji. Wpływ mikrostruktury na naprężenia wewnętrzne w warstwach był analizowany przy użyciu spektroskopii Ramana.
High compressive stress present in carbon films significantly limits their thickness because of delamination. In this work, the effect of substrate bias on the amount of stress in carbon films deposited on titanium substrate by the RF PECVD technique was investigated. The results obtained show that the Stoney formula provides a very convenient and accurate way to measure the stress in the case of films deposited on selected substrates. The maximum of compressive stress is observed at low bias voltage (-300 V) and it steadily decreases with the increasing value of this voltage. In the range from -500 V to -600 V the measured stress changes from compressive to tensile and it continuously increases with further bias increase. The effects of the film microstructure on the film's internal stress were also studied using Raman spectroscopy.
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2010, 13, 93; 19-24
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Numerical analysis of thermal stresses in carbon films obtained by the RF PECVD method on the surface of a cannulated screw
Analiza numeryczna naprężeń cieplnych w warstwie węglowej otrzymanej w procesie RF PECVD na powierzchni wkręta kostnego
Autorzy:
Sawicki, J.
Dudek, M.
Kaczmarek, Ł.
Więcek, B.
Świątczak, T.
Olbrycht, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/350904.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
RF PECVD
termografia
warstwy węglowe
naprężenie
modelowanie elementów skończonych
thermography
carbon films
residual stresses
finite element modeling
Opis:
For many years, research on carbon films has been stimulated by the need to simultaneously optimize their biological and mechanical properties and by the challenges related to their deposition on medical implants. The residual mechanical stress occurring inside deposited films is the most important mechanical parameter which leads to the total destruction of these films by cracking and peeling. In the present work, we systematically studied the effect of ion bombardment during the process of radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RF PECVD) by monitoring the temperature distribution on a cannulated screw using the infrared technique. The obtained experimental and finite element modeling (FEM) results show that stresses in carbon films deposited on a cannulated screw are quite inhomogeneous and depend on the geometry of the sample and the relative position of the studied contact area between the substrate/film interface and the surface of the film.
Od wielu lat prowadzone są badania mające na celu zredukowanie naprężeń, w węglowych warstwach stosowanych na implanty medyczne, bez pogorszenia własności mechanicznych i biologicznych. Niemniej jednak poznanie mechanizmów wywołujących naprężenia wymaga szczegółowej analizy numerycznej. Wysoka wartość naprężeń mechanicznych występujących w osadzanych warstwach prowadzi poprzez pękanie i odwarstwienie do ich całkowitego zniszczenia, co znacząco organiczna praktyczne wykorzystanie warstw węglowych. W prezentowanej pracy, przeanalizowano wpływ bombardowania jonów podczas procesu plazmochemicznego (RF PECVD) na rozkład temperatury na powierzchni śruby ortopedycznej przy użyciu kamery termowizyjnej. Przeprowadzone eksperymenty i uzyskane rezultaty modelowania (MES) pokazały, ze naprężenia w warstwach węglowych osadzonych na śrubie ortopedycznej sa niejednorodne i zależą od rzeczywistej powierzchni styku pomiędzy podłożem a powłoka jak i geometrii samej próbki.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2013, 58, 1; 77-81
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Bactericidal and hydrophilic plasma deposited thin TiO2 films on glass substrate
Autorzy:
Sobczyk-Guzenda, A.
Szymanowski, H.
Gazicki-Lipman, M.
Kowalski, J.
Jakubowski, W.
Halamus, T.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/285691.pdf
Data publikacji:
2009
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
TiO2 thin films
RF PECVD method
bactericidal activity
hydrophilic effect
Opis:
In recent years, titanium dioxide has attracted a great deal of attention as a material for photocatalytic applications. These applications include antibacterial effect as well as photocatalytic air and water purification. Another property of TiO2 concerns a substantial increase of its surface hydrophilicity upon irradiation. The aim of this work is to investigate thin TiO2films obtained by RF PECVD technique with respect to hydrophilic and long-term bactericidal activity. Structural studies, carried out by Raman spectroscopy show that all the investigated coatings are amorphous. The films exhibit agglomerates, with their amount depending on energetic conditions of deposition. Adhesion measured by a scratch test shows that films deposited at higher RF power adhere better than those synthesized at lower power values. UV irradiation causes death of nearly 100% of Escherichia coli population on TiO2films. The irradiated films are still active for about 30 min after the end of UV exposure. A substantial decrease of water contact angle is also observed upon the irradiation of the films with UV light.
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2009, 12, 85; 8-12
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Bactericidal properties of Cu doped TiO2 films deposited on medical stainless steel
Autorzy:
Sobczyk-Guzenda, A.
Owczarek, S.
Jakubowski, W.
Jędrzejczak, A.
Gazicki-Lipman, M.
Szymanowski, H.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/284706.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
stainless steel
RF PECVD technique
biomaterials
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2017, 20, no. 143 spec. iss.; 75
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Bakteriobójcze powłoki ditlenku tytanu z dodatkiem żelaza
Iron containing bactericidal titanium dioxide coatings
Autorzy:
Sobczyk-Guzenda, A.
Szymanowski, H.
Owczarek, S.
Kawczyński, M.
Gazicki-Lipman, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/285587.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:
metoda RF PECVD
powłoka TiO2
żelazo
właściwości optyczne
bakteriobójczość
RF PECVD method
TiO2 coatings
iron
optical properties
bactericidal effect
Opis:
Celem pracy było określenie wpływu ilości żelaza zawartego w wygrzewanych powłokach ditlenku tytanu (TiO2) wytworzonych w procesie RF PECVD (radio frequency plasma enhanced chemical vapour deposition) na ich właściwości optyczne oraz bakteriobójczość. Powłoki nanoszone były na podłoża krzemowe przy stałej mocy wyładowania jarzeniowego - 300 W, czasie trwania procesu - 30 min., przepływie tlenu - 50 sccm oraz ilości dostarczanego chlorku tytanu (IV) w temperaturze 0oC (związku wyjściowego dlaTiO2). Zmiennym parametrem był przepływ par pentakarbonylku żelaza (prekursora dla atomów żelaza). Otrzymano powłoki o następującej zawartości atomowej żelaza: 0,1%, 0,4%, 0,8% 1,1%, 2,3%, 5,6%, 11,5%, 27,3%. Badania elipsometryczne wykazały znaczący wpływ zawartości żelaza na zmianę parametrów współczynnika załamania światła, współczynnika ekstynkcji oraz grubości powłok. Najsilniejszy efekt bakteriobójczy wykazała powłoka o zawartości 0.4% Fe. Ponadto można było dostrzec tendencję spadku przeżywalności wraz ze zmniejszeniem ilości żelaza w powłoce.
The aim of the work was to determine the effect of iron content in thermally annealed titanium dioxide (TiO2) coatings, synthesized with the radio frequency plasma enhanced chemical vapour deposition (RF PECVD) method, on their optical and bactericidal properties. The coatings were deposited onto silicon substrates at the following constant operational parameters: glow discharge power of 300 Watt, oxygen flow rate of 50 sccm titanium tetrachloride (TiO2 precursor) evaporation temperature of 0oC and process duration of 30 minutes, with the variable parameter being the flow rate of iron pentacarbonyl, a source of iron atoms. Coatings characterized by the following iron content were produced: 0.1%, 0.4%, 0.8% 1.1%, 2.3%, 5.6%, 11.5% and 27.3%. Ellipsometric measurements have shown a substantial effect of iron content on the refractive index, extinction coefficient and thickness of the films. The strongest bactericidal effect was exhibited by the coating containing 0.4% of iron, with the bacterial survivability decreasing along the lines of lowering content of this element.
Źródło:
Engineering of Biomaterials; 2013, 16, no. 122-123 spec. iss.; 30-33
1429-7248
Pojawia się w:
Engineering of Biomaterials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Wyświetlanie 1-15 z 20

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies