Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "MOVPE" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-8 z 8
    Tytuł:
    MOVPE InP based material for millimeter and submillimeter wave generation and amplification
    Autorzy:
    Strupiński, W.
    Kosiel, K.
    Jasik, A.
    Jakieła, R.
    Jeleński, A.
    Kollberg, E.
    Dillner, L.
    Nawaz, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/308777.pdf
    Data publikacji:
    2002
    Wydawca:
    Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
    Tematy:
    epitaxy InP
    MOVPE
    microwave generation
    Opis:
    The potential of the MOVPE growth process for millimeter and submillimeter wave generation and amplification is presented. The increase in layer quality, the improved homogeneity and purity, the precision of mono-layers growth and wide spectrum III-V compounds makes MOVPE techniques very attractive for modern device applications. The characterisation results of the heterostructures dedicated for HBV varactors and 2-DEG transistors (HEMT) are described.
    Źródło:
    Journal of Telecommunications and Information Technology; 2002, 1; 8-10
    1509-4553
    1899-8852
    Pojawia się w:
    Journal of Telecommunications and Information Technology
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Wpływ trawienia podłoży 4H-SiC na epitaksje GaN
    The influence of the 4H-SiC substrats etching on GaN epitaxy
    Autorzy:
    Caban, P.
    Kościewicz, K.
    Strupiński, W.
    Pągowska, K.
    Ratajczak, R.
    Wójcik, M.
    Gaca, J.
    Turos, A.
    Szmidt, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/192222.pdf
    Data publikacji:
    2008
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
    Tematy:
    LP MOVPE
    GaN
    4H-SiC
    Opis:
    Przedstawiono wyniki prób osadzania azotku galu na podłożach z węglika krzemu w technologii epitaksji ze związków metalorganicznych w fazie pary w obniżonym ciśnieniu (LP MOVPE). W szczególności zbadano wpływ trawienia podłoży oraz ich odchylenia od osi (0001) na morfologię powierzchni oraz strukturę krystalograficzną osadzanego GaN. Stwierdzono, że trawienie podłoży ma wpływ na chropowatość powierzchni warstw epitaksjalnych, ale również poprawia strukturę krystalograficzną. Warstwy GaN zostały scharakteryzowane przy wykorzystaniu pomiarów AFM, HRXRD, RBS oraz pomiaru efektu Hall'a. Zaobserwowano, że najbardziej odpowiednim z analizowanych podłoży do epitaksji GaN jest 4H-SJC są te, które nie mają odchylenia od osi kryształu (0001).
    The influence of surface preparation and off-cut of 4H-SiC substrates on morphological and structural properties of GaN grown by low pressure metalorganic vapour phase epitaxy was studied. Substrate etching has an impact on the surface roughness of epilayers and improves its crystal quality. The GaN layers were characterized by AFM, HRXRD, RBS/channelling and Hall effect measurements. It was observed that on-axis 4H-SiC is most suitable for GaN epitaxy and that substrate etching improves the surface morphology of epilayer.
    Źródło:
    Materiały Elektroniczne; 2008, T. 36, nr 4, 4; 5-16
    0209-0058
    Pojawia się w:
    Materiały Elektroniczne
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Influence of AlN spacer on the properties of AlGaN/AlN/GaN heterostructures
    Autorzy:
    Wosko, M
    Paszkiewicz, B
    Paszkiewicz, R
    Tlaczala, M
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/174100.pdf
    Data publikacji:
    2013
    Wydawca:
    Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
    Tematy:
    AlGaN/GaN
    heterostructure
    AlN spacer
    MOVPE
    Opis:
    AlGaN/GaN heterostructures attract attention of many research groups over the last decade because of their superior properties (high mobility and saturation velocity of 2DEG) and strong capability in high frequency/power electronics and sensors applications. One of the factors which reduces the mobility of two-dimensional electron gas (2DEG) is the alloy and interface roughness scattering mechanism occurring at the heterointerface. Mathematical calculations of a wave-function of 2DEG in the channel show that theses two phenomena play an important role, due to the fact that some electrons in 2DEG can migrate into AlGaN barrier and be strongly dissipated. One of the proposed solutions against alloy scattering in the buffer layer is the use of thin AlN spacer at the heterointerface between AlGaN and GaN layers. AlN layer enhances the conduction band offset due to a polarization-induced dipole in the AlN layer, and therefore increases carrier confinement. Several Al0.18GaN0.82/AlN/GaN heterostructures with different AlN spacer layer thickness were grown by MOVPE method for studies of the Hall mobility and sheet carrier concentration of 2DEG. Hall measurements performed using Van der Pauw shown mobility maximum at nominally 1.3 nm AlN spacer thickness and almost linear dependence of sheet carrier concentration with AlN spacer thickness in the range from 0.7 to 2 nm.
    Źródło:
    Optica Applicata; 2013, 43, 1; 61-66
    0078-5466
    1899-7015
    Pojawia się w:
    Optica Applicata
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    MOVPE Technology of Fe-Compensated InP Layers for the Quantum Cascade Laser Applications
    Autorzy:
    Badura, Mikołaj
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/226294.pdf
    Data publikacji:
    2020
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    MOVPE technology
    optoelectronics
    quantum cascade lasers
    epitaxy
    Opis:
    Quantum cascade laser is one of the most sophisticated semiconductor devices. Its technology requires extremely high precision and layers quality. Device performance is limited by thermal extraction form laser core. One of solutions is to apply highly resistivity epitaxial material acting as insulating layer on top of the QCL. Present work describes consequent steps of elaboration of MOVPE technology of Fe-compensated InP layers for further applications in quantum cascade lasers.
    Źródło:
    International Journal of Electronics and Telecommunications; 2020, 66, 2; 389-394
    2300-1933
    Pojawia się w:
    International Journal of Electronics and Telecommunications
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    The influence of quantum well and barrier thicknesses on photoluminescence spectra of InGaAs/AlInAs superlattices grown by LP-MOVPE
    Autorzy:
    Łozińska, Adriana
    Badura, Mikołaj
    Bielak, Katarzyna
    Ściana, Beata
    Tłaczała, Marek
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/174236.pdf
    Data publikacji:
    2020
    Wydawca:
    Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
    Tematy:
    photoluminescence
    quantum cascade lasers
    MOVPE
    metalorganic vapour phase epitaxy
    Opis:
    In the presented work, the influence of the quantum well and barrier thicknesses on optical characteristics of InGaAs/AlInAs superlattices was reported. Six different structures of In0.53Ga0.47As/Al0.48In0.52As superlattices lattice-matched to InP were grown by low pressure metal organic vapour phase epitaxy (LP-MOVPE). Optical properties of the obtained structures were examined by means of photoluminescence spectroscopy. This technique allows quick, simple and non-destructive measurements of radiative optical transitions in different semiconductor heterostructures.The analysis of recorded photoluminescence spectra revealed the influence of the quantum well and barrier thicknesses on the emission line energy.
    Źródło:
    Optica Applicata; 2020, 50, 2; 251-256
    0078-5466
    1899-7015
    Pojawia się w:
    Optica Applicata
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    AP-MOVPE Technology and Characterization of InGaAsN p-i-n Subcell for InGaAsN/GaAs Tandem Solar Cell
    Autorzy:
    Dawidowski, W.
    Ściana, B.
    Zborowska-Lindert, I.
    Mikolásek, M.
    Latkowska, M.
    Radziewicz, D.
    Pucicki, D.
    Bielak, K.
    Badura, M.
    Kováč, J.
    Tłaczała, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/226630.pdf
    Data publikacji:
    2014
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    dilute nitrides
    AP MOVPE
    subcell
    tandem solar cell
    J-V characteristics
    Opis:
    Tandem (two p-n junctions connected by tunnel junction) and multijunction solar cells (MJSCs) based on AIIIBV semiconductor compounds and alloys are the most effective photovoltaic devices. Record efficiency of the MJSCs exceeds 44% under concentrated sunlight. Individual subcells connected in series by tunnel junctions are crucial components of these devices. In this paper we present atmospheric pressure metal organic vapour phase epitaxy (AP-MOVPE) of InGaAsN based subcell for InGaAsN/GaAs tandem solar cell. The parameters of epitaxial structure (optical and electrical), fabrication process of the test solar cell devices and current-voltage (J-V) characteristics are presented and discussed.
    Źródło:
    International Journal of Electronics and Telecommunications; 2014, 60, 2; 151-156
    2300-1933
    Pojawia się w:
    International Journal of Electronics and Telecommunications
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Growth and properties of ZnO films grown using pa-movpe with DMZn and N2O
    Autorzy:
    Nakano, T.
    Nishimoto, K.
    Sumiya, M.
    Fuke, S.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/385163.pdf
    Data publikacji:
    2009
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Przemysłowy Instytut Automatyki i Pomiarów
    Tematy:
    ZnO
    PA-MOVPE
    epitaxial growth
    DMZn
    N2O
    temperature modulation growth
    Opis:
    ZnO films were grown by plasma-assisted metal organic vapor phase epitaxy (PA-MOVPE) using dimethylzinc (DMZn) and N O gases. The crystallinity and surface morphology of ZnO films were investigated using X-ray diffraction (XRD) and scanning electron microscopy (SEM), respectively. The crystallinity of ZnO improved (a) when the N2O flow rate was increased, because vapor phase reaction was suppressed while surface migration was enhanced, and (b) when the growth temperature was increased, because surface diffusion was enhanced. In the PA-MOVPE method with N2O gases and DMZn, both the N2O flow rate and crystal growth temperature strongly affected the crystallinity of ZnO films.
    Źródło:
    Journal of Automation Mobile Robotics and Intelligent Systems; 2009, 3, 4; 124-126
    1897-8649
    2080-2145
    Pojawia się w:
    Journal of Automation Mobile Robotics and Intelligent Systems
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Technology and properties of low-pressure metalorganic vapour phase epitaxy grown InGaAs/AlInAs superlattice for quantum cascade laser applications
    Autorzy:
    Badura, M.
    Bielak, K.
    Ściana, B.
    Radziewicz, D.
    Pucicki, D.
    Dawidowski, W.
    Żelazna, K.
    Kudrawiec, R.
    Tłaczała, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/173549.pdf
    Data publikacji:
    2016
    Wydawca:
    Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
    Tematy:
    InGaAs
    AlInAs
    superlattice
    metalorganic vapour phase epitaxy
    MOVPE
    quantum cascade laser
    QCL
    Opis:
    Quantum cascade laser is one of the most sophisticated semiconductor devices. The active region of the quantum cascade laser consists of hundreds thin layers, thus the deposition precision is the most crucial. The main technique for the fabrication of quantum cascade laser structure is molecular beam epitaxy, however, the prevalence of metalorganic vapour phase epitaxy techniques in the fabrication of semiconductor structures causes a perpetual work on the improvement production of the entire quantum cascade laser structure by the metalorganic vapour phase epitaxy. The paper presents technological aspects connected with the metalorganic vapour phase epitaxy growth of InGaAs/AlInAs low-dimensional structures for quantum cascade laser active region emitting ~9.6 μm radiation. Epitaxial growth of superlattice made of InGaAs/AlInAs lattice matched to InP was conducted at the AIXTRON 3x2″ FT system. Optical and structural properties of such heterostructures were characterised by means of high resolution X-ray diffraction, photoluminescence, contactless electroreflectance and scanning electron microscope techniques. Epitaxial growth and possible solutions of structure improvements are discussed.
    Źródło:
    Optica Applicata; 2016, 46, 2; 241-248
    0078-5466
    1899-7015
    Pojawia się w:
    Optica Applicata
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-8 z 8

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies