Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Vasallo, B." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Monte Carlo Analysis of the Dynamic Behavior οf InAlAs/InGaAs Velocity Modulation Transistors: A Geometrical Optimization
Autorzy:
Vasallo, B.
González, T.
Pardo, D.
Mateos, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1505612.pdf
Data publikacji:
2011-02
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
85.30.De
85.30.Tv
Opis:
The influence of the geometry on the dynamic behavior of InAlAs/InGaAs velocity modulation transistors is analyzed by means of a Monte Carlo simulator in order to optimize the performance of this new type of transistor. In velocity modulation transistors, based on the topology of a double-gate high electron mobility transistor, the source and drain electrodes are connected by two channels with different mobilities, and electrons are transferred between both of them by changing the gate voltages in differential mode. Consequently, the drain current is modulated while keeping the total carrier density constant, thus in principle avoiding capacitance charging/discharging delays. However, the low values taken by the transconductance, as well as the high capacitance between the two gates in differential-mode operation, lead to a deficient dynamic performance. This behavior can be geometrically optimized by increasing the mobility difference between the two channels, by increasing the channel width and, mainly, by reducing the gate length, with a higher immunity to short channel effects than the traditional architectures.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 119, 2; 193-195
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Monte Carlo Analysis of Impact Ionization in Isolated-Gate InAs/AlSb High Electron Mobility Transistors
Autorzy:
Vasallo, B.
Rodilla, H.
González, T.
Lefebvre, E.
Moschetti, G.
Grahn, J.
Mateos, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1506159.pdf
Data publikacji:
2011-02
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
85.30.De
85.30.Tv
Opis:
We perform a physical analysis of the kink effect in InAs/AlSb high electron mobility transistors by means of a semiclassical 2D ensemble Monte Carlo simulator. Due to the small bandgap of InAs, InAs/AlSb high electron mobility transistors are very susceptible to suffer from impact ionization processes, with the subsequent hole transport through the structure, both implicated in the kink effect. When the drain-to-source voltage $V_{DS}$ is high enough for the onset of impact ionization, holes generated tend to pile up at the gate-drain side of the buffer. This occurs due to the valence-band energy barrier between the buffer and the channel. Because of this accumulation of positive charge, the channel is further opened and the drain current $I_{D}$ increases, leading to the kink effect in the I-V characteristics.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 119, 2; 222-224
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies