Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Stankus, V." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Synthesis of PbTiO₃ Thin Films by Annealing Multilayer Oxide Structures in Vacuum
Autorzy:
Iljinas, A.
Stankus, V.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1398677.pdf
Data publikacji:
2016-01
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.15.Cd
68.55.-a
Opis:
This article presents investigation of syntheses of perovskite PbTiO₃ thin films by using reactive magnetron layer-by-layer deposition on Si (100) substrate and post-annealing in air and vacuum $(p=5 \times 10^{-3} Pa)$. The film stoichiometry was accurately controlled by the deposition of individual layers with the required ( ≈1 nm) thickness, using the substrate periodic moving over targets. Deposited thin films were annealed in air and in vacuum at 670°C and 770°C for 1 h, respectively. The morphological, structural, and chemical properties of thin films deposited at 300°C substrate temperature and post-annealed thin films using either conventional annealing and thermal annealing in vacuum at different temperatures were investigated and compared between. X-ray diffraction measurements of thin films annealed in air show formed crystalline perovskite PbTiO₃ phase with tetragonality c/a=1.047. The crystallite size of oxidized films depends on the substrate temperature. The structure of post annealed in vacuum thin films strongly depends on Pb/Ti atomic ratio. It was observed that the best structure and morphology forms when atomic ratio of Pb/Ti was 0.80. Pseudocubic phase of lead titanate forms with sufficiently low tetragonality at 670°C temperature.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2016, 129, 1; 121-124
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Preparation of Carbon-Copper-Silicon Nanocomposite Materials and Coatings Owing to Abrasive-Reactive Wear
Autorzy:
Urakaev, F.
Ketegenov, T.
Borzdov, Y.
Savchenko, I.
Shevchenko, V.
Stankus, S.
Uvarov, N.
Pokhilenko, N.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1538179.pdf
Data publikacji:
2010-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.20.Ev
81.40.Pq
81.07.Wx
81.07.Bc
81.05.Mh
Opis:
We will focus on the important aspect of mechanical activation by grinding in a mill, namely, nanoscale wear of the treated substances and of the milling tools. A new technology called abrasive-reactive wear has been developed that utilizes wear debris as an integral component of the reaction system rather than treating it as a harmful impurity. This technology is applied to the processing of low-grade diamond and silicon by cupric milling tools. Abnormal influence of graphite on abrasive wear degree is established.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2010, 117, 5; 873-877
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies