Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Sass, J." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
High Quality (100) and (001) Oriented Substrates Prepared from Czochralski Grown SrLaGaO$\text{}_{4}$ and SrLaAlO$\text{}_{4}$ Single Crystals
Autorzy:
Berkowski, M.
Fink-Finowicki, J.
Sass, J.
Mazur, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1964370.pdf
Data publikacji:
1997-07
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.10.Fq
61.50.Ks
68.35.Bs
Opis:
The growth of SrLaGaO$\text{}_{4}$ and SrLaAlO$\text{}_{4}$ crystals on ⟨100⟩ and ⟨001⟩ oriented seeds was investigated. Various defects, which appeared in crystals grown on these two orientations, were observed in polarized light and by X-ray diffraction topography. It was found that to obtain a substrate of the best quality, the crystal should be cut along the growth directions. Therefore, crystals pulled along ⟨100⟩ direction are utilized for preparation of (001) substrates, whereas (100) substrates are better to cut from crystals grown on ⟨001⟩ seed. The quality of the prepared substrates was determined by high resolution X-ray diffraction study in terms of rocking curve and mean mosaic angle.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1997, 92, 1; 201-204
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
X-Ray Diffraction Investigations of NdGaO$\text{}_{3}$ Single Crystal
Autorzy:
Mazur, K.
Sass, J.
Giersz, W.
Reiche, P.
Schell, N.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1964526.pdf
Data publikacji:
1997-07
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.10.Fq
61.50.Ks
68.35.Bs
Opis:
Neodymium gallium perovskite single crystals grown with the Czochralski method were examined with several complementary X-ray methods. By means of X-ray diffraction topography and reciprocal space diagram the structural perfection and crystal homogeneity of the studied wafers were determined. Additionally, the results of the X-ray reflectometry investigations of the surface perfection after the mechanochemical treatment are presented.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1997, 92, 1; 226-230
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Pomiar długozasięgowego odchylenia od płaskości powierzchni płytek Si za pomocą HR XRR
Measurement of long range surface flatness deviation of Si wafers by means of HR XRR method
Autorzy:
Mazur, K.
Sass, J.
Surma, B.
Piątkowski, B.
Wnuk, A.
Gładki, A.
Turos, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/192401.pdf
Data publikacji:
2008
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:
płytka Si
reflektrometria rentgenowska
Si wafers
X-Ray reflectrometry
Opis:
Opracowano metodę oszacowania stopnia długozasięgowego odchylenia od płaskości powierzchni za pomocą rentgenowskiej metody reflektometrycznej XRR w układzie niezwierciadlanym (non - specular). Otrzymane wyniki dla ośmiu płytek krzemowych o zróżnicowanej grubości porównano z wynikami uzyskanymi za pomocą innych metod: (1) optycznej (w przypadku próbek grubości < 200 μm), (2) z wykorzystaniem stykowego miernika grubości (TSK) (dla próbek o grubości > 200 μm). Pomimo różnych założeń dla porównywanych metod uzyskano wystarczająco dobrą zgodność wyników co świadczy o użyteczności opracowanej metody.
The adaptation of the non-specular X-ray reflectivity method to control the long range random deviation of the surface flatness were done. The results obtained for eight Si samples were compared with the ones obtained (1) by optical method (for the samples < 200 μm in thickness), (2) by contact thickness gage (TSK) measurements, (for samples > 200 m in thickness). Despite of the rather rough assumptions made for compared methods, a sufficiently good conformity has been obtained. This is important conclusion confirms the usefulness of the proposed X-ray method
Źródło:
Materiały Elektroniczne; 2008, T. 36, nr 3, 3; 5-22
0209-0058
Pojawia się w:
Materiały Elektroniczne
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies