Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Nasalski, W." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
Cross-polarized normal mode patterns at a dielectric interface
Autorzy:
Nasalski, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/199889.pdf
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
reflection
refraction
normal modes
elegant beams
Hermite-Gaussian beams
Laguerre-Gaussian beams
Opis:
Basic features of narrow optical beam interactions with a dielectric interface are analysed. As it was recently shown, two types of paraxial beams – elegant Hermite-Gaussians of linear polarization and elegant Laguerre-Gaussians of circular polarization – can be treated as vector normal modes of the interface [1]. In this contribution the problem of normal modes is discussed with special attention paid for the case of beam oblique incidence. Excitation of higher-order modes by cross-polarization coupling is described and it is shown that this process critically depends on a propagation direction of the incident beam. Besides the expected changes of mode indices induced by generalised transmission and reflection matrices, the new phenomenon of optical vortex spectral splitting at the interface is revealed and off-axis spectral placements of the splitted vortices are determined. Results of numerical simulations given here for beam reflection entirely confirm theoretical predictions even for beams beyond the range of paraxial approximation.
Źródło:
Bulletin of the Polish Academy of Sciences. Technical Sciences; 2010, 58, 1; 141-154
0239-7528
Pojawia się w:
Bulletin of the Polish Academy of Sciences. Technical Sciences
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Extraordinary optical transmission and vortex excitation by periodic arrays of Fresnel zone plates
Autorzy:
Roszkiewicz, A.
Nasalski, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/202304.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
Fresnel zone plates
focusing
cross-polarisation coupling
optical vortices
Opis:
Extraordinary optical transmission and good focusing properties of a two-dimensional scattering structure is presented. The structure is made of Fresnel zone plates periodically arranged along two orthogonal directions. Each plate consists of two ring-shaped waveguides supporting modes that match the symmetry of a circularly polarized incident plane wave. High field concentration at the focal plane is obtained with the short transverse and long longitudinal foci diameters. Optical vortex excitation in a paraxial region of the transmitted field is also observed and analysed in terms of cross-polarisation coupling. The structure presented may appear useful in visualization, trapping and precise manipulations of nanoparticles.
Źródło:
Bulletin of the Polish Academy of Sciences. Technical Sciences; 2013, 61, 4; 855-861
0239-7528
Pojawia się w:
Bulletin of the Polish Academy of Sciences. Technical Sciences
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
A note on optical materials for photolithography applications
Autorzy:
Jain, A.
Roszkiewicz, A.
Nasalski, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/31342991.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Instytut Podstawowych Problemów Techniki PAN
Tematy:
optical lithography
photoresist
graphene
photonic
fotolitografia
fotorezyst
grafen
fotonika
Opis:
Optical lithography or photolithography is well-established optical tool for patterning of substrates, layers or photonic crystals. Therefore, the materials involved in these processes play an important role, especially for the possibility of their further advancements and optimisation. In this review article, we discuss on the role and significance of photoresist materials from various perspectives like their performance in photonic applications and their dependence on various physical and chemical parameters. Further, several emerging now two-dimensional materials like graphene has also been discussed from photonic point of view. We aim to give a short overview of recent developments of such materials in this field.
Fotolitografia jest dobrze znanym procesem pozwalającym na tworzenie wzorów na podłożach, warstwach czy kryształach fotonicznych. W związku z tym materiały wykorzystywane w tym procesie pełnią istotną rolę, zwłaszcza ze względu na dalszy możliwy rozwój dziedziny oraz optymalizację procesu. W tym artykule przeglądowym omawiamy rolę i znaczenie fotorezystu z różnych perspektyw, np. jego wydajność w zastosowaniach fotonicznych czy zależność od różnych parametrów fizycznych i chemicznych. Ponadto, omawiamy wiele powstających obecnie dwuwymiarowych materiałów, jak grafen, z punktu widzenia fotoniki. Naszym celem jest przedstawienie krótkiego przeglądu ostatnich osiągnięć w dziedzinie tego typu materiałów wykorzystywanych w fotolitografii.
Źródło:
IPPT Reports on Fundamental Technological Research; 2018, 3; 1-41
2299-3657
Pojawia się w:
IPPT Reports on Fundamental Technological Research
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies