- Tytuł:
- Magnetoresistive properties of Ni/TiO2/Ti and Ni/SiO2/Si structures: comparative analysis
- Autorzy:
-
Fedotov, A. K.
Streltsov, E.A.
Baranov, I. L.
Svito, I. A.
Malashchonak, M. V.
Mazanik, A. V. - Powiązania:
- https://bibliotekanauki.pl/articles/118386.pdf
- Data publikacji:
- 2015
- Wydawca:
- Politechnika Koszalińska. Wydawnictwo Uczelniane
- Tematy:
-
Ni/TiO2/Ti
Ni/SiO2/Si
magnetoresistance
magnetorezystancja - Opis:
-
Magnetoresistive properties of Ni/TiO2/Ti and Ni/SiO2/Si structures obtained using template-based approach have been examined in the temperature range from 2 to 300 K. It was established that the main contribution into observed magnetoresistance is given by the silicon substrate, whereas influence of Ni is negligible small.
Właściwości magnetyczne struktur Ni/TiO2/Ti oraz Ni/SiO2/Si otrzymanych z zastosowaniem tzw. „podejścia szabłonowego” zostały zbadane w zakresie temperatur od 2 do 300 K. Ustalono, że główny wkład do obserwowanej magnetorezystancji jest rezultatem wpływu podłoża krzemowego , podczas gdy wpływ Ni jest znikome mały. - Źródło:
-
Zeszyty Naukowe Wydziału Elektroniki i Informatyki Politechniki Koszalińskiej; 2015, 8; 61-67
1897-7421 - Pojawia się w:
- Zeszyty Naukowe Wydziału Elektroniki i Informatyki Politechniki Koszalińskiej
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł