Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Kulik, W. L." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    Dielectric Function of Native Oxide on Ion-Implanted GaAs
    Autorzy:
    Kulik, M.
    Rzodkiewicz, W.
    Gluba, Ł.
    Kobzev, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1400489.pdf
    Data publikacji:
    2013-05
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.72.uj
    78.20.Ci
    78.20.-e
    Opis:
    The main aim of the reported investigations is the influence of ion implantation on formation of native oxide layers and their optical spectra. Silicon implanted (100)-oriented GaAs crystalline wafers were used as substrates. The samples have been implanted with $Ne^{+}$, $Al^{+}$, $Ar^{+}$, or $In^{+}$ ions at energies of 100, 120, 150, and 250 keV, respectively. The implantations were carried out at a fluence of $1 \times 10^{16} cm^{-2}$ at 300 K. The refraction index spectral dependence for native oxide was approximated using the Cauchy equations. The dielectric function spectra of the native oxide layers on GaAs implanted with different ions have been obtained by variable angle spectroscopic ellipsometer in the 250-900 nm range using complementary information from the Rutherford backscattering/nuclear reactions measurements. The investigations showed that both real and imaginary parts of the dielectric function increase with mass of the ion species used for implantation.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2013, 123, 5; 956-959
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Ion Beam Synthesis of InAs Nanocrystals in Si: Influence of Thin Surface Oxide Layers
    Autorzy:
    Komarov, F.
    Vlasukova, L.
    Milchanin, O.
    Greben, M.
    Komarov, A.
    Mudryi, A.
    Wesch, W.
    Wendler, E.
    Zuk, J.
    Kulik, M.
    Ismailova, G.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1400427.pdf
    Data publikacji:
    2013-05
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.80.-x
    61.72.Ff
    63.20.-e
    78.66.-w
    Opis:
    Nanosized crystallites have been synthesized in the Si and $SiO_2//Si$ structures by means of As (170 keV, $3.2 × 10^{16} cm^{-2}$) and In (250 keV, $2.8 × 10^{16} cm^{-2}$) implantation at 25C and 500C and subsequent annealing at 1050C for 3 min. The Rutherford backscattering, transmission electron microscopy, and photoluminescence techniques were used to analyse the impurity distribution as well as the structural and optical characteristics of the implanted layers. It was found that oxidation of samples before thermal treatment significantly reduced the As and In losses. A broad band in the region of 1.2-1.5 μm was detected in the photoluminescence spectra. The highest photoluminescence yield for the samples after "hot" implantation and annealing was obtained. Anodic oxidation of the implanted samples before annealing results in the additional increase of photoluminescence yield.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2013, 123, 5; 809-812
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies