Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Hofman, W." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-6 z 6
Tytuł:
Raman Piezospectroscopy of Phonons in Bulk 6H-SiC
Autorzy:
Grodecki, K.
Wysmołek, A.
Stępniewski, R.
Baranowski, J.
Hofman, W.
Tymicki, E.
Grasza, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1791360.pdf
Data publikacji:
2009-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
62.50.-p
42.65.Dr
63.20.-e
78.30.-j
Opis:
Raman piezospectroscopy of high quality 6H-SiC crystals is presented. The crystals used in experiments were grown by the seeded physical vapor transport method. Uniaxial stress up to 0.9 MPa, obtained using a spring apparatus, was applied along [11-20] and [10-10] directions. It was found that the application of uniaxial stress led to different energy shifts of the observed phonon excitations in the investigated 6H-SiC crystals. The obtained pressure coefficients vary in the range 0.98-5.5 $cm^{-1}$ $GPa^{-1}$ for different transverse optical phonon modes. For longitudinal optic phonon modes pressure coefficients in the range 1.6-3.6 $cm^{-1}$ $GPa^{-1}$ were found. The data obtained could be useful in evaluation of local strain fields in SiC based structures and devices including epitaxial graphene.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2009, 116, 5; 947-949
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Influence of SiC Surface Preparation on Homoepitaxial Growth; X-ray Reflectometric Studies
Autorzy:
Mazur, K.
Wierzchowski, W.
Wieteska, K.
Hofman, W.
Sakowska, H.
Kościewicz, K.
Strupiński, W.
Graeff, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1538812.pdf
Data publikacji:
2010-02
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.05.cm
61.72.Ff
61.72.up
Opis:
X-ray reflectometric and diffraction topographic methods were applied for examination of 4H and 6H silicon carbide substrates finished with various regimes, as well as, silicon carbide epitaxial layers. The investigations indicated a very good quality of the substrate surfaces finished with the process established at the Institute of Electronic Materials Technology, which provided the surface roughness σ = 0.55 ± 0.07 nm for 4H-SiC wafers. These values were better than those of substrate wafers offered by many commercial producers. The surface roughness was decreased during the initial high temperature etching to σ = 0.22 ± 0.07 nm. A relatively good structural quality was confirmed in the case of 4H epitaxial wafers deposited on the substrates prepared from the crystals manufactured at the IEMT, with the 8° off-cut from the main (001) plane.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2010, 117, 2; 272-276
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The influence of defect structure on the surface sputtering of metals under irradiation of swift heavy ion in the inelastic energy loss region
Autorzy:
Cheblukov, Y.
Didyk, A.
Hofman, A.
Semina, V.
Starosta, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/147977.pdf
Data publikacji:
2004
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
defect concentration effect
ion irradiation
ion track temperature
metals
sputtering
surface structure
Opis:
The results of the influence of heavy ion irradiation in the inelastic energy loss region on the structure of some metals such as nickel, single crystal tungsten, chromium-nickel stainless steel and cold-deformed gold are presented. It was shown that the sputtering (evaporation) yield strongly depends on the density of defects in these metals. The sputtering yield starts to grow strongly with the increase of damages created by elastic and inelastic energy heavy ion losses. The stainless steel surface structure behaved differently under irradiation than the pure metal surface structure.
Źródło:
Nukleonika; 2004, 49, 1; 15-21
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The behavior of amorphous alloys under swift heavy ion irradiation at room temperature
Autorzy:
Didyk, A.
Hofman, A.
Savin, V.
Semina, V.
Hajewska, E.
Szteke, W.
Starosta, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/148691.pdf
Data publikacji:
2005
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
amorphous alloy
heavy ion irradiation
sputtering
surface structure
swelling
Opis:
Experimental results of irradiation effects by heavy ions with high inelastic energy losses at the surfaces of some amorphous alloys are presented. It was shown that all studied alloys strongly swelled: up to 15% for Ni58Nb42 under irradiation with the 305 MeV 86Kr ion at a fluence of 1015 ion/cm2. Besides, the sputtering (evaporation) process takes place, too. Calculations of the temperatures on the ion trajectory axis were presented. It was shown that the calculated temperatures are higher than the melting temperature and the evaporation temperature, too. From these findings we can conclude that the sputtering (evaporation) of atoms in amorphous alloys is present.
Źródło:
Nukleonika; 2005, 50, 4; 149-152
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Peculiarities of neutron interaction with boron containing semiconductors
Autorzy:
Didyk, A. Y.
Hofman, A.
Szteke, W.
Hajewska, E.
Vlasukova, L. A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/148104.pdf
Data publikacji:
2009
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
semiconductors
thermal neutrons
point defects
vacancies
damage concentration
thermal neutron fluence
cross-section of damage creation
fission fragments
lithium
helium
alfa-particles
diffusion of impurities
homogeneity of damage and active impurities
Opis:
Abstract. The results of point defect creation calculation in B4C, BN and BP semiconductor single crystals irradiated in the fast neutron reactor IBR-2 are presented. It has been shown that during the thermal neutron interaction with light isotope boron atoms (10B) the damage creation by means of fission nuclear reaction fragments (alfa-particles and 7Li recoil nuclei) exceeds the damage created by fast neutrons (En greater than 0.1 MeV) by more than two orders of value. It has been concluded that such irradiation can create a well developed radiation defect structure in boron-containing crystals with nearly homogeneous vacancy depth distribution. This may be used in technological applications for more effective diffusion of impurities implanted at low energies or deposited onto the semiconductor surface. The developed homogeneous vacancy structure is very suitable for the radiation enhanced diffusion of electrically charged or neutral impurities from the surface into the technological depth of semiconductor devices under post irradiation treatment.
Źródło:
Nukleonika; 2009, 54, 3; 163-168
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Przywiązanie w okresie niemowlęcym i stres rodzicielski a problemy emocjonalne i zaburzenia zachowania u dzieci w wieku 3 lat
Infant Attachment, Parenting Stress, and Child Emotional and Behavioral Problems at Age 3 Years
Autorzy:
Tharner, Anne
Luijk, Maartje P. C. M.
van IJzendoorn, Marinus H.
Bakermans-Kranenberg, Marian J.
Jaddoe, Vincent W. V.
Hofman, Albert
Verhulst, Frank C.
Tiemeier, Henning
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/499015.pdf
Data publikacji:
2016
Wydawca:
Fundacja Dajemy Dzieciom Siłę
Tematy:
style przywiązania, zaburzenia emocjonalne, zaburzenia behawioralne, stres rodzicielski, badanie Pokolenie R
attachment classification, emotional problems, behavior problems, parenting stress
Opis:
Cel. Analiza wpływu typu przywiązania w okresie niemowlęcym oraz stresu rodzicielskiego na problemy emocjonalne i zaburzenia zachowania u małych dzieci. Plan badania. Badana próba obejmowała 606 diad niemowlę–matka, które wzięły udział w populacyjnym badaniu kohortowym, przeprowadzonym w Holandii. Przywiązanie (więź dziecko–matka) oceniano przy użyciu procedury sytuacji obcej (Strange Situation), gdy dzieci miały 14 miesięcy. Kiedy dzieci osiągnęły wiek 18 miesięcy, zmierzono poziom stresu rodzicielskiego przy użyciu holenderskiej wersji Skali stresu rodzicielskiego (Parenting Stress Index). Wreszcie, gdy dzieci miały 3 lata, ich matki i ojcowie wypełniali Listę zachowań dziecięcych (Child Behavior Checklist). Wyniki. Przywiązanie w okresie niemowlęcym osłabiało wpływ stresu rodzicielskiego na problemy emocjonalne i zaburzenia zachowania u dzieci. Stres rodzicielski był powiązany z wyższym poziomem zachowań agresywnych i zaburzeń uwagi u dzieci z pozabezpiecznym stylem przywiązania, ale nie u tych z bezpiecznym stylem. Ponadto wyższy poziom stresu rodzicielskiego wiązał się z większą liczbą problematycznych zachowań wycofanych u dzieci z pozabezpiecznym stylem przywiązania, zwłaszcza tych z ambiwalentnym stylem i przywiązaniem zdezorganizowanym. Wnioski. U dzieci z pozabezpiecznym stylem wyższy poziom stresu rodzicielskiego jest powiązany z większą częstością występowania problematycznych zachowań wycofanych (zaburzeń internalizacyjnych) oraz zachowań agresywnych i zaburzeń uwagi (zaburzeń eksternalizacyjnych). Bezpieczny styl przywiązania w okresie niemowlęcym jest buforem osłabiającym wpływ stresu rodzicielskiego na problemy emocjonalne i zaburzenia zachowania u dzieci.
Objective. To examine the role of infant attachment classification and parenting stress for toddler emotional and behavior problems. Design. Participants were 606 infant– mother dyads who took part in a population-based cohort study in the Netherlands. Infant–mother attachment classification was assessed using the Strange Situation Procedure when the children were 14 months old. At 18 months, parenting stress was measured with the Dutch version of the Parenting Stress Index. When the children were 3 years old, both mothers and fathers completed the Child Behavior Checklist. Results. Infant attachment moderated the effect of parenting stress on child emotional and behavior problems. Parenting stress was related to more aggression and attention problem behaviors in insecurely attached children, but not in securely attached children. Moreover, higher parenting stress was associated with more withdrawal problem behaviors in insecurely attached children, in particular in insecure-resistant and in disorganized children. Conclusion. In the presence of an insecure attachment relationship, more parenting stress is related to more (internalizing) withdrawal problem behavior and to more (externalizing) aggression and attention problems. Attachment security in infancy buffers the influence of parenting stress on child emotional and behavior problems.
Źródło:
Dziecko krzywdzone. Teoria, badania, praktyka; 2016, 15, 3; 40-73
1644-6526
Pojawia się w:
Dziecko krzywdzone. Teoria, badania, praktyka
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-6 z 6

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies