Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Frantskevich, N." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Micro-Raman Investigation of Hydrogen Localized in Cone-Shaped Defects Formed on the Silicon Wafer Surface
Autorzy:
Frantskevich, N.
Fedotov, A.
Frantskevich, A.
Mazanik, N.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1366278.pdf
Data publikacji:
2014-06
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
78.30.Am
61.72.uf
Opis:
The goal of this work is the micro-Raman study of molecular hydrogen localized in cone-shaped defects, which are formed on the surface of previously helium implanted and annealed Czochralski Si wafers as a result of hydrogen plasma treatment. The line at ≈ 4158 $cm^{-1}$ corresponding to molecular hydrogen is observed in the Raman spectra when the laser beam is focused both on cone-shaped defects or defect-free regions of the surface. The laser irradiation of cone-shaped defects during micro-Raman experiments leads to intensity increase of this line when the irradiation time is increasing, with subsequent appearance of lines at ≈ 3621 and ≈ 3698 $cm^{-1}$ and simultaneous disappearance of 4158 $cm^{-1}$ line. No such effect was observed when the laser beam was focused on defect-free regions. The experiments have shown that heat treatment of the samples studied causes the appearance in the Raman spectra of lines at ≈ 3468, ≈ 3621, and ≈ 3812 $cm^{-1}$, which can be associated with molecular hydrogen.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2014, 125, 6; 1332-1334
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Formation of Cone-Shaped Inclusions and Line Defects on the Cz-Si Wafer Surface by the Helium Implantation and DC Nitrogen Plasma Treatment
Autorzy:
Frantskevich, N.
Mazanik, A.
Frantskevich, A.
Kołtunowicz, T.
Żukowski, P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1503982.pdf
Data publikacji:
2011-07
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.72.uf
73.20.Hb
Opis:
The general goal of this work is to investigate the defects formed on the surface of the Cz-Si wafers subjected to helium implantation, vacuum annealing and nitrogen plasma treatment. The performed scanning electron microscopy study has shown that in the general case two types of surface defects can be formed: cone-shaped inclusions with the base diameter of 0.2-2 μm and the ratio of diameter to height of approximately 1:1, as well as crystallographically oriented line defects with the length equal to 0.2-2 μm. The concentration of these defects depends on the conditions of implantation and plasma treatment.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 1; 105-107
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies