Autor: Łukasiak, R. - Katalog OPAC zbiorów

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Innowacyjna oprawa oparta na elektroluminescencyjnych źródłach światła przeznaczona do potrzeb fototerapii żółtaczki u noworodków
Innovative housing based light sources electroluminescent intended for the purpose phototherapy neonatal jaundice
Autorzy:: Lisak, E.
Hemka, L.
Łukasiak, R.
Puternicki, A.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/952433.pdf
Data publikacji:: 2015
Wydawca:: Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:: fototerapia noworodków
rozkład bilirubiny
lampa LED do fototerapii
neonatal phototherapy
distribution of bilirubin
LED light phototherapy
Opis:: W artykule przedstawiono proces opracowania modelu lampy do fototerapii hiperbilirubinemii noworodków na bazie innowacyjnych źródeł światła – diodach elektroluminescencyjnych świecących światłem niebieskim, w odpowiednim, do leczenia żółtaczki noworodków i niemowląt, zakresie widmowym.
This article presents a process to develop a model lamp for the phototherapy of the neonatal hyperbilirubinemia. This lamp model is based on innovative sources of light – light-emitting diodes that emit a blue light, that is of an appropriate spectral range for the treatment of the newborn and infant jaundice.
Źródło:: Prace Instytutu Elektrotechniki; 2015, 268; 41-56
0032-6216
Pojawia się w:: Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Wysokoprężna lampa - metalohalogenkowa o rozkładzie widmowym symulującym światło dzienne
High - pressure metal - halogenide lamp with spectral distribution simulating daylight
Autorzy:: Hemka, L.
Łukasiak, R.
Piotrowski, L.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/159110.pdf
Data publikacji:: 2006
Wydawca:: Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:: lampa wyładowcza
symulator D65
wyładowanie łukowe
promieniowanie optyczne
rozkład widmowy
halogenki metali
Opis:: W niniejszym artykule przedstawiono sprawozdanie z prac nad opracowaniem metodyki kształtowania widma emisyjnego lampy wyładowczej, wysokoprężnej metalohalogenkowej w oparciu o zmianę trzech parametrów, a mianowicie : - dobór napełnienia chemicznego jarznika lampy; - ustalenie optymalnych warunków wyładowania; - dobór materiałów tworzących konstrukcje lampy. W toku realizacji zadania udało się znacznie przybliżyć do optymalnego składu kombinacji metali tworzących napełnienie jarznika, zanalizować procesy zachodzące w łuku wyładowania istotnie wpływające na jego widmo emisyjne oraz określić właściwy rodzaj szkła balonu zewnętrznego lampy. Prace technologiczne, konstrukcyjne i pomiarowe wykonane w trakcie realizacji zadania doprowadziły do wykonania modelu lampy będącej symulatorem światła dziennego kategorii BC, o bardzo dobrym wskaźniku oddawania barw (Ra < 97).
The paper presents a report on research work concerning developing methods of shoping the emission spectrum of high pressure metal halide discharge lamp based on variation of the following three parameters: - choice of chemical filling of the are tube , - establishing the optimum discharge conditions, and - choice of materials constituting the lamp structure. During completion of the task the present Authors succeded in obtaining a near optimum composition of metals which the filling of the are tube, in analysing processes occurring in the discharge arc which essentially affect the emission spectrum, as well as in determining the proper kind of the outer baloon glass of the lamp. Technological, design and metrological work carried out in the cours of the task realization lead to developing a model of a lamp simulating daylight of the BC category with a very high colour rendering index (Ra<97).
Źródło:: Prace Instytutu Elektrotechniki; 2006, 226; 71-111
0032-6216
Pojawia się w:: Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Challenges in ultrathin oxide layers formation
Autorzy:: Beck, R.B.
Jakubowski, A.
Łukasiak, L.
Korwin-Pawłowski, M.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/307646.pdf
Data publikacji:: 2001
Wydawca:: Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:: silicon technology
oxidation
PECVD
RTO
gate oxide
ultrathin
layers
Opis:: In near future silicon technology cannot do without ultrathin oxides, as it becomes clear from the "Roadmap'2000". Formation, however, of such layers, creates a lot of technical and technological problems. The aim of this paper is to present the technological methods, that potentially can be used for formation of ultrathin oxide layers for next generations ICs. The methods are briefly described and their pros and cons are discussed.
Źródło:: Journal of Telecommunications and Information Technology; 2001, 1; 27-34
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:: Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Informacja

Wyszukujesz frazę "Łukasiak, R." wg kryterium: Autor

Źródło danych

Dostawca treści

Kolekcja

Rok wydania

Wydawca

Temat

Autor

Typ dokumentu

Język