Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "reactive deposition" wg kryterium: Wszystkie pola

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-5 z 5
    Tytuł:
    Effect of aluminum addition to Nb-Al-C-N coatings on AISI M2 steel obtained by thermo-reactive deposition technique
    Autorzy:
    Abakay, E.
    Sen, S.
    Sen, U.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1061918.pdf
    Data publikacji:
    2016-04
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    81.40.Gh
    81.40.Ef
    62.20.Qp
    81.05.-t
    Opis:
    In this study, aluminum-doped (1 and 2 wt.%) and Al-free niobium carbo-nitride coatings were applied to the surface of AISI M2 high speed steel using the process of thermo-reactive deposition technique (TRD) at 1000°C during 1-4 h. The obtained coatings were characterized by scanning electron microscopy (SEM), energy-dispersive X-ray spectroscopy (EDS), X-ray diffraction (XRD) analysis and micro hardness test. Nb-Al-C-N layers were compact and homogeneous. X-ray diffraction analysis has shown that the major phases formed in the coating layer are Nb₂CN and NbN. The depth of the coating layer had increased with the treatment time and ranged from 6.65 to 9.05 μm. The measured values of the hardness of the coating layers were ranging between 2136 and 2636 HK_{0.005}.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2016, 129, 4; 653-655
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Characterization of ultrasonic soldering of Ti and Ni with Ni/Al reactive multilayer deposition
    Charakterystyka ultradźwiękowego lutowania Ti i Ni z reaktywnym osadzaniem wielowarstwowym Ni/Al
    Autorzy:
    Hodulova, Erika
    Ramos, Ana Sofia
    Kolenak, Roman
    Kostolny, Igor
    Simekova, Beata
    Kovarikova, Ingrid
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/115196.pdf
    Data publikacji:
    2019
    Wydawca:
    Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
    Tematy:
    osadzanie reaktywne
    osadzanie wielowarstwowe
    lutowanie ultradźwiękowe
    reactive deposition
    multilayer deposition
    ultrasonic soldering
    Opis:
    The joining of Ti and Ni at low temperatures was analysed in this work. For joining pure Ti and Ni coins of 1.5 mm in thickness were used. Reactive multilayer thin films/foils with nanometric period (bilayer thickness), in particular Ni/Al multilayers, have been used to promote joining in two thickness of 28 and 55 nm. The ultrasonic soldering with SnAgTi active solder has been used for “hard-to-solder” material. The structural evaluation of soldered joint was studied by optical microscopy and EDX analysis. The structural analysis was focused to the creation of intermetallic layers in the joint interface. The mechanical properties of solder joints were tested by shear strength.
    W pracy przeanalizowano łączenie Ti i Ni w niskich temperaturach. Do łączenia użyto czystych monet Ti oraz Ni o grubości 1,5 mm. Reaktywne wielowarstwowe cienkie powłoki z okresem nanometrycznym (grubość dwuwarstwowa), w szczególności wielowarstwowe Ni/Al, zastosowano do promowania łączenia w dwóch grubościach 28 i 55 nm. Lutowanie ultradźwiękowe z aktywnym lutem SnAgTi zastosowano do materiałów "trudnych do lutowania". Ocenę strukturalną lutowanego złącza zbadano za pomocą mikroskopii optycznej i analizy EDX. Analiza strukturalna koncentrowała się na tworzeniu warstw międzymetalicznych na granicy faz złącza. Właściwości mechaniczne złączy lutowanych zbadano na wytrzymałość na ścinanie.
    Źródło:
    Welding Technology Review; 2019, 91, 9; 51-57
    0033-2364
    2449-7959
    Pojawia się w:
    Welding Technology Review
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Investigation of Porous Zn Growth Mechanism during Zn Reactive Sputter Deposition
    Autorzy:
    Borysiewicz, M.
    Wojciechowski, T.
    Dynowska, E.
    Kamińska, E.
    Piotrowska, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1198573.pdf
    Data publikacji:
    2014-05
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    52.70.-m
    81.15.Cd
    77.55.hf
    81.10.Pq
    52.27.Cm
    Opis:
    Ar-O-Zn plasma discharges created during DC reactive magnetron sputtering of a Zn target and RF reactive magnetron sputtering of a ceramic ZnO target were investigated and compared by means of the Langmuir probe measurements in order to determine the mechanism of growth of porous Zn films during DC-mode Zn reactive sputtering. The power supplied to the magnetrons during the sputtering was kept at 125 W and the plasma was characterised as a function of oxygen content in the sputtering gas mixture, ranging from 0 to 60% for two gas pressures related to porous Zn film deposition, namely 3 mTorr and 5 mTorr. Based on the correlation of plasma properties measurements with scanning electron microscope imaging and X-ray diffraction of the films deposited under selected conditions it was found that the growth of porous, polycrystalline Zn films was governed by high electron density in the plasma combined with a high electron temperature and an increased energy of the ions impinging on the substrate.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2014, 125, 5; 1144-1148
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Variability of the marine boundary layer parameters over Baltic Sea sub-basins and their impact on nitrogen deposition
    Autorzy:
    Hongisto, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/48086.pdf
    Data publikacji:
    2011
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Oceanologii PAN
    Tematy:
    Baltic Sea
    biological production
    brackish water
    carbon cycle
    inorganic nitrogen
    marine area
    marine boundary layer
    meteorological measurement
    nitrogen deposition
    reactive nitrogen species
    seasonal deposition
    terrestrial area
    variability
    Opis:
    The variability of the marine boundary layer parameters over the Baltic Sea and its sub-basins and their impact on the 6 h, monthly or seasonal deposition of oxidized nitrogen compounds was studied using results of the Hilatar chemistrytransport model, the 6th hour forecasts of the HIRLAM weather prediction model and meteorological measurement data. The monthly load of oxidized nitrogen was highest in the winters of 1993–1995 and 2000, and lowest in 1996–1997 and 2005; no trend was detected. Short-time correlations were low, but a significant correlation of the monthly deposition with the NAO index and ice-season was found over northern sub-basins.
    Źródło:
    Oceanologia; 2011, 53, (1-TI)
    0078-3234
    Pojawia się w:
    Oceanologia
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    High rate deposition of thin film compounds - modeling of reactive magnetron sputtering process
    Wydajne osadzanie cienkich warstw związków chemicznych – modelowanie procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego
    Autorzy:
    Tadaszak, K.
    Paprocki, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/159030.pdf
    Data publikacji:
    2013
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
    Tematy:
    reactive magnetron sputtering
    thin films
    modeling of magnetron sputering
    reaktywne rozpylanie magnetronowe
    cienkie warstwy
    model procesu rozpylania
    Opis:
    Deposition of compound thin films with reactive magnetron sputtering method causes a lot of difficulties, of which the main ones are the instability of the process and decrease of the deposition rate. Computer simulations were performed using Berg’s model assumptions. Firstly, effect of basic process parameters on aluminum oxide deposition was examined, also theoretical characteristics of the deposition of Al2O3, AlN, TiO2, TiN were compared. Next, the parameters for efficient deposition of titanium oxide were determined. Simulations were confirmed by the results of experimental work. The purpose of presented work was to define, with Berg’s model, mechanisms which enable deposition, in metallic mode of magnetron work, of oxides with properties near to stochiometric. Presented analysis results were compared to real process parameters observed during reactive sputtering .
    Osadzanie cienkich warstw związków metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego sprawia wiele trudności, spośród których głównymi są niestabilność procesu i spadek szybkości osadzania. Komputerowe symulacje wykonano wykorzystując założenia modelu Berga. W pierwszej kolejności sprawdzono wpływ podstawowych parametrów procesu na osadzanie tlenku glinu. Porównano również teoretyczne charakte-rystyki osadzania Al2O3, AlN, TiO2, TiN. Następnie określono parametry umożliwiające wydajne osadzanie tlenku tytanu. Symulacje potwierdzono wynikami prac eksperymentalnych. Głównym celem pracy była próba określenia mechanizmów umożliwiających osadzanie w modzie metalicznym tlenków o właściwościach zbliżonych do warstw o składzie stechio-metrycznym.
    Źródło:
    Prace Instytutu Elektrotechniki; 2013, 263; 95-104
    0032-6216
    Pojawia się w:
    Prace Instytutu Elektrotechniki
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-5 z 5

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies