Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "plasma processes" wg kryterium: Wszystkie pola

  Lista filtrów
Wyrównaj
Wyświetlanie 1-10 z 18
Tytuł:
Multilevel control system for low-pressure plasma processes
Wielopoziomowy system sterowania stanowiska PVD
Autorzy:
Przybylski, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/256473.pdf
Data publikacji:
2016
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
control system
PVD test stand
modbus communication module
system sterowania
stanowisko PVD
Opis:
The article presents a multilayer control system for test stands designed for PVD (Physical Vapour Deposition) technological processes used for depositing thin surface layers. This system provides control of the test stand via the HMI (Human Machine Interface) control panel and by using specialized supplies of plasma sources. The primary control system that utilizes a PC computer with a dedicated application allows a full automation of surface layer deposition technology. Developed and implemented on a test stand, the systems have been tested based on sample technological processes used in material engineering.
W artykule przedstawiono wielopoziomowy system sterowania przeznaczony dla stanowisk do prowadzenia procesów technologicznych PVD (Physical Vapour Deposition) wykorzystywanych w nakładaniu cienkich warstw wierzchnich. System pozwala na bezpośrednie sterowanie stanowiskiem badawczym za pomocą panelu operatorskiego HMI (Human Machine Interface) oraz przy wykorzystaniu specjalizowanych zasilaczy źródeł plazmy. Nadrzędny system sterowania wykorzystujący komputer PC z dedykowaną aplikacją pozwala na pełną automatyzację realizacji technologii osadzania warstw wierzchnich. Opracowany i zaimplementowany na stanowisku badawczym system został przetestowany w przykładowych procesach technologicznych wykorzystywanych w inżynierii materiałowej.
Źródło:
Problemy Eksploatacji; 2016, 3; 115-123
1232-9312
Pojawia się w:
Problemy Eksploatacji
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Optical roughness calculation for material structural analysis of energy structure applications under DC plasma processes
Autorzy:
Pahsa, Alper
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/27323590.pdf
Data publikacji:
2023
Wydawca:
Centrum Badań i Innowacji Pro-Akademia
Tematy:
tokamak
reactor
plasma material interaction
sputtering
3D surface plot
optical roughness
reaktor
interakcja
plazma
napylanie
wykres powierzchni 3D
chropowatość optyczna
Opis:
Surface qualities make aluminium a low-DC plasma interaction candidate. Aluminum for energy system structure building is studied experimentally, with observations obtained. Aluminum is cheap and frequently utilized in aerospace applications. The selection of materials for new applications of thermonuclear fusion energy, such as Tokamak reactor walls and fusion-based spaceship thrust structures, is important to decide in the design phase. In this study, an experimental setup application is created with low DC-type He plasma ions processed on aluminium pellet surfaces. The physical changes of the aluminium pellet material as an example of an energy structure surface are analysed under a scanned array microscope and 3D surface plots to detect optical roughness attributes.
Źródło:
Acta Innovations; 2023, 49; 39--48
2300-5599
Pojawia się w:
Acta Innovations
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Indium-gallium-zinc oxide thin-film preparation via single-step radio frequency sputter deposition using mixed-oxide powder targets
Autorzy:
Satake, Takahiko
Kawasaki, Hiroharu
Aoqiu, Shin-Ichi
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/24202734.pdf
Data publikacji:
2023
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czasopisma i Monografie PAN
Tematy:
In–Ga–Zn–O thin-film
plasma processes
powder target
sputtering deposition
transparent conductive film
Opis:
Indium gallium zinc oxide (In–Ga–Zn–O) thin films, which are transparent conductive films for liquid crystals and electroluminescent displays, were fabricated via singlestep sputter deposition using one target containing different proportions of indium oxide, gallium oxide, and zinc oxide powders. Experimental results suggest that the In–Ga–Zn–O thin films can be prepared using the method of single-step radio frequency (RF) sputter deposition, applying a powder target containing indium oxide, gallium oxide, and zinc oxide. The In–Ga–Zn–O thin films were prepared on Si substrates, and the deposition rate depended on the target composition. In these plasma processes, electron density and temperature were essentially independent of target composition. The prepared films were very smooth with a root-mean-square roughness of less than 10 nm. The crystallinity of the ZnO peak was observed in all the films; whereas the In and Ga peaks were not observed in the films prepared. The X-ray photoelectron spectroscopy of the films also revealed that the elemental concentration ratio of In–Ga–Zn–O thin films could be prepared using one target, and that can be easily controlled by ratios in the In2O3/Ga2O3/ZnO composition in the powder target. The transmittances were > 75% at 800 nm for all the target mixtures, and increased with increasing In2O3 in the powder target.
Źródło:
Archives of Electrical Engineering; 2023, 72, 2; 555--563
1427-4221
2300-2506
Pojawia się w:
Archives of Electrical Engineering
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The Role of Complementary Potential in Plasma Nitriding Processes of Technical Titanium
Autorzy:
Pilarska, M.
Frączek, T.
Maźniak, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/354692.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
plasma nitriding
active screen
titanium
ion nitriding
Opis:
This article deals with the testing of surface layers produced on technical titanium Ti99.2 under glow discharge conditions. In order to determine the effect of process temperature on the produced surface layers, nitriding processes were carried out at 700°C and 800°C and for 3 and 5 hours. The research results on evaluating the properties of the obtained surface layers and the characterization of their morphology were presented. The impact of the adopted nitriding process variant on the quality of the obtained layers was evaluated. It was demonstrated that the use of the supplementary potential during the ion nitriding process reduces the unwanted edge effect, which results in a significant increase in the homogeneity of the nitrided layers and improves the functional properties of the technical titanium Ti99.2.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2018, 63, 4; 1637-1642
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
A review on electron beam flue gas treatment (EBFGT) as a multicomponent air pollution control technology
Autorzy:
Basfar, A. A.
Fageeha, O. I.
Kunnummal, N.
Chmielewski, A. G.
Licki, J.
Pawelec, A.
Zimek, Z.
Warych, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/148616.pdf
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
fossil fuel combustion
heavy fuel oil
electron beam irradiation
plasma processes
flue gas treatment
SO2 removal
NOx removal
Źródło:
Nukleonika; 2010, 55, 3; 271-277
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Composition and electrical properties of ultra-thin SiOxNy layers formed by rf plasma nitrogen implantation/plasma oxidation processes
Autorzy:
Bieniek, T.
Beck, R. B.
Jakubowski, A.
Konarski, P.
Ćwil, M.
Hoffman, P.
Schmeißer, D.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308689.pdf
Data publikacji:
2007
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
CMOS
gate stack
oxynitride
plasma implantation
Opis:
Experiments presented in this work are a summary of the study that examines the possibility of fabrication of oxynitride layers for Si structures by nitrogen implantation from rf plasma only or nitrogen implantation from rf plasma followed immediately by plasma oxidation process. The obtained layers were characterized by means of: ellipsometry, XPS and ULE-SIMS. The results of electrical characterization of NMOS Al-gate test structures fabricated with the investigated layers used as gate dielectric, are also discussed.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2007, 3; 9-15
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
A method for extinguishing microdischarges in the plasma surface treatment processes
Metoda gaszenia mikrowyładowań w procesach plazmowej obróbki powierzchni
Autorzy:
Mrozek, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/256639.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
arc microdischarges
extinguishing microdischarges
bias power supply
magnetron power supply
mikrowyładowania łukowe
gaszenie mikrowyładowań
zasilacz polaryzacji podłoża
zasilacz źródła magnetronowego
Opis:
This paper presents an original method for extinguishing microdischarges formed on workpieces treated in the process of plasma surface treatment PAPVD. The method is based on the recognition of the state just before the micro discharge, rapid turn-off of the arc, and the analysis of the quantities occurring during microdischarges. As a result of this analysis, the amount of electricity supplied by the power supply is dynamically adjusted into the vacuum chamber in which the charged details are located. The method protects the workpieces against destruction and the vacuum chamber against the gradual degradation. It allows one to reduce the incidence of microdischarges, which eliminates excessive local temperature rise during the process. The method is implemented in the bias power supply and the magnetron power supply, which are used in the process of plasma treatment of the surface. These devices are manufactured in Institute for Sustainable Technologies – NRI.
W artykule przedstawiono autorską metodę gaszenia mikrowyładowań powstających na detalach obrabianych w procesach plazmowej obróbki powierzchni PAPVD. Metoda ta polega na rozpoznaniu stanu tuż przed wystąpieniem mikrowyładowania, szybkiego wyłączenia powstającego łuku oraz analizie ilości występujących mikrowyładowań w czasie. W wyniku tej analizy ustalana jest ilość energii elektrycznej dostarczanej przez urządzenie zasilające do komory próżniowej, w której umieszczone są pokrywane detale. Opracowana metoda zabezpiecza obrabiane elementy przed ich uszkodzeniem oraz komorę próżniową przed stopniową degradacją. Pozwala na ograniczenie częstości występowania mikrowyładowań, co zabezpiecza przed nadmiernym miejscowym wzrostem temperatury podczas procesu. Metoda została zaimplementowana w zasilaczu polaryzacji podłoża oraz zasilaczu źródła magnetronowego, które są wykorzystywane w procesach plazmowej obróbki powierzchni. Urządzenia te zostały wyprodukowane w ITeE – PIB.
Źródło:
Problemy Eksploatacji; 2013, 2; 45-55
1232-9312
Pojawia się w:
Problemy Eksploatacji
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Fabrication Of Zn4Sb3 Alloys By A Combination Of Gas-Atomization And Spark Plasma Sintering Processes
Wytwarzanie i konsolidacja proszków stopowych zn4sb3 przez kombinację procesów atomizacji gazowej i spiekania
Autorzy:
Dharmaiah, P.
Kim, H.-S.
Lee, L. H.
Hong, S.-J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/355894.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
gas atomization
microstructure
spark plasma sintering (SPS)
X-ray diffraction
atomizacja gazowa
mikrostruktura
SPS
spiekanie plazmowe
analiza rentgenowska (XRD)
Opis:
In this study, single phase polycrystalline Zn4Sb3 as well as 11 at.% Zn-rich Zn4Sb3 alloy having ε-Zn4Sb3 (majority phase) and Zn (minority phase) phases bulk samples produced by gas-atomization and subsequently consolidated by spark plasma sintering (SPS) process. The crystal structures were analyzed by X-ray diffraction (XRD) and cross-sectional microstructure were observed by the scanning electron microscopy (SEM). The internal grain microstructure of 11at.% Zn-rich Zn4Sb3 powders shows lamellar structure. Relative density, Vickers hardness and crack lengths were measured to investigate the effect of sintering temperature of Zn4Sb3 samples which are sintered at 653, 673 and 693 K. Relative density of the single phase bulk Zn4Sb3 sample reached to 99.2% of its theoretical density. The micro Vickers hardness of three different sintering temperatures were found around 2.17 – 2.236 GPa.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 2B; 1417-1421
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Verification of the welding heat source models in arc welding and hybrid plasma-MAG welding processes based on temperature field tests
Weryfikacja modelu spawalniczego źródła ciepła w procesach spawania łukowego oraz hybrydowego plazma-MAG w oparciu o badania pola temperatury
Autorzy:
Rochalski, Damian
Golański, Dariusz
Szulc, Jacek
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/115059.pdf
Data publikacji:
2020
Wydawca:
Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
Tematy:
modelowanie
spawanie plazma-GMA
metoda elementów skończonych
metoda hybrydowa
pomiar temperatury
modelling
plasma-GMA welding
finite element method
hybrid method
temperature measurement
Opis:
Hybrid welding processes belong to a new group of welding varieties that most often combine two classic welding methods, such as laser welding with MIG/MAG welding or plasma welding with MAG welding. Modeling of welding stresses in this type of welding requires the definition of a new type of heat source model that combines a concentrated stream of energy with a classic heat source, which occurs in an electric arc. The paper presents the results of temperature field modeling in conventional MAG welding and hybrid plasma-MAG welding. In the first case, the heat source model described by Goldak was used, and in the second case, the Goldak model was combined with the developed rectangular heat source model with a homogeneous distribution. The temperature distributions obtained from the simulations were verified by spot temperature measurements during welding with thermocouples. A fairly good agreement of the numerical analysis results with the temperature measurements for MAG welding was obtained, while in the case of hybrid welding the discrepancies between the modeling and temperature measurements were greater. The results were discussed, indicating potential causes and factors influencing the obtained test results.
Procesy spawania hybrydowego należą do nowej grupy odmian spawania łączących ze sobą najczęściej dwie klasyczne metody spawania jak np. spawanie laserowe i spawanie MIG/MAG czy spawanie plazmowe ze spawaniem MAG. Modelowanie naprężeń spawalniczych w tego typu odmianach spawania wymaga zdefiniowania nowego rodzaju modelu źródła ciepła łączącego skoncentrowany strumień energii z klasycznym źródłem ciepła, jakie występuje w łuku elektrycznym. W pracy przedstawiono wyniki modelowania pola temperatury w procesie konwencjonalnego spawania MAG oraz spawania hybrydowego plazma-MAG. W pierwszym przypadku zastosowano model źródła ciepła opisany przez Goldaka, a w drugim przypadku połączono model Goldaka z opracowanym modelem prostopadłościennym źródła ciepła o jednorodnym rozkładzie. Otrzymane z symulacji rozkłady temperatury zostały zweryfikowane poprzez punktowe pomiary temperatury w czasie spawania za pomocą termoelementów. Uzyskano dość dobrą zgodność wyników analizy numerycznej z pomiarami temperatury dla spawania MAG podczas gdy przy spawaniu hybrydowym rozbieżności między modelowaniem i pomiarami temperatury były większe. Przeprowadzono dyskusję wyników wskazując potencjalne przyczyny oraz czynniki wpływające na otrzymywane wyniki badań.
Źródło:
Welding Technology Review; 2020, 92, 5; 25-35
0033-2364
2449-7959
Pojawia się w:
Welding Technology Review
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Moduł optycznej diagnostyki plazmy stanowiska do badań technologii PVD
Optical plasma diagnostics module stand for PVD processes research
Autorzy:
Przybylski, J.
Majcher, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/256651.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
OES
spektroskopia emisyjna
system sterowania
plazma
PVD
emission spectroscopy
control system
plasma
Opis:
Spektroskopia emisyjna plazmy pozwala na precyzyjny dobór składu chemicznego osadzanej powłoki i tym samym otrzymywanie warstw wierzchnich o zakładanym składzie. W artykule przedstawiono realizację modułu spektralnej analizy i diagnostyki plazmy w stanowisku badawczym procesów PVD. Umożliwia on prowadzenia badań związanych z modernizacją istniejących technologii lub opracowywanie nowych, wykorzystujących pętle regulacji z sygnałami spektroskopowymi. Przedstawiono dwa układy sterowania z wykorzystaniem optycznej diagnostyki plazmy. Pierwszym z nich jest sterowanie dozowaniem gazów technologicznych dla utrzymania zadanego stosunku dwóch sygnałów spektralnych w procesie azotowania jarzeniowego. W drugim układzie moduł analizy optycznej zastosowano do kontroli składu plazmy w procesach rozpylania magnetronowego. Opisano możliwości zastosowania modułu także w innych procesach plazmowych.
Plasma emission spectroscopy allows for the precise selection of the chemical composition of the deposited coating to obtain the surface layers of the intended composition. The article presents the analysis and diagnostic module of a PVD process research stand. It allows conducting research related to the upgrading of existing technologies or developing new technologies, using control loops with spectroscopic signals. Two control systems using optical plasma diagnostics are presented. The first is the control of technological gases to maintain a specified ratio of two spectral signals in the plasma nitriding process. In the second, an optical analysis module is used for checking the composition of plasma in the magnetron sputtering process. The applicabilities of the other plasma processes are also described.
Źródło:
Problemy Eksploatacji; 2013, 1; 141-150
1232-9312
Pojawia się w:
Problemy Eksploatacji
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Wyświetlanie 1-10 z 18

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies