Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "XPS spectrum" wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
Study of depth chemical composition changes by the means of XPS/ESCA
Badanie zmian składu chemicznego materiałów za pomocą techniki XPS/ESCA
Autorzy:
Bednarska, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/258019.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
XPS
binding energy
XPS spectrum
sputtering
concentration of elements
energia wiązania
widmo XPS
stężenie pierwiastków
Opis:
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is a dedicated surface characterisation spectroscopy. It reveals which chemical elements are present at the surface, it informs us about the chemical bound nature which exists between these elements. An appropriate data processing leads to the specimen elemental composition. A sample of steel disc was prepared by ball on disc tribology test. The test was conducted in the presence of lubricant containing fluoride. The surface of steel disc was examined by means of XPS technique, and its chemical composition was determined accordingly to location of photoelectron peaks on the binding energy axis on XPS spectra. Depth profiling after 9 sputtering cycles was also conducted.
Rentgenowska spektroskopia fotoelektronowa jest techniką analizy powierzchni. Polega na analizie rozkładu energii kinetycznej fotoelektronów emitowanych w wyniku wzbudzenia próbki charakterystycznym promieniowaniem rentgenowskim. Pozwala na uzyskanie informacji o obecnych pierwiastkach oraz o wzajemnej relacji poszczególnych wiązań chemicznych. Do badania wykorzystano stalową próbkę w postaci dysku po tribologicznym teście ball-on-disc, który został przeprowadzony w środowisku smaru zawierającego związki fluoru. Powierzchnia stalowego dysku została przebadana za pomocą techniki XPS, a skład chemiczny został ustalony na podstawie położenia pików fotoelektronowych na osi energii wiązania na widmach XPS. Przeprowadzono również analizę wgłębną po 9 cyklach sputteringu za pomocą jonów Ar+.
Źródło:
Problemy Eksploatacji; 2013, 3; 169-179
1232-9312
Pojawia się w:
Problemy Eksploatacji
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies